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액상 물질 기화 장치

  • 기술번호 : KST2015128294
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 액상의 물질을 초음파 및 버블링(bubbling)에 의하여 기화 시키는 장치이며, 더욱 상세하게는, 액상의 물질을 포함하는 챔버내의 상단에 형성되어 미세 크기로 기화된 기상의 물질은 통과하고, 기화되지 못한 액상의 용액은 통과하지 못하도록 형성된 타공판과; 불활성 가스 또는 버블링(bubbling)용 가스를 상기 챔버내에 유입하기 위한 가스유입관의 선단에 장착된 다공체와; 상기 챔버내의 액상 물질로부터 기화된 가스를 배출하기 위한 가스배출관, 가스의 배출을 더욱 용이하게 해주는 벤튜리 튜브, 및 또 하나의 기화 장치인 초음파 단자를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 액상 기화장치이며, 대표적인 응용예로서 열분해 등에 의한 나노입자 제조 시스템에서 액상의 전구체를 기화시켜 나노입자 생성부 반응부로 유입시키는 장치로의 응용 등 다양한 응용 범위를 가지는 액상 기화장치 관한 것이다. 액상기화장치, 기화장치, PECVD, 전구체, 나노
Int. CL B82Y 40/00 (2011.01) B01D 1/00 (2011.01) C23C 16/00 (2011.01)
CPC C23C 16/4482(2013.01) C23C 16/4482(2013.01) C23C 16/4482(2013.01) C23C 16/4482(2013.01)
출원번호/일자 1020050041190 (2005.05.17)
출원인 한국기계연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2006-0118819 (2006.11.24) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2005.05.17)
심사청구항수 4

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 정상현 대한민국 대전 유성구
2 심성훈 대한민국 대전 유성구
3 홍원석 대한민국 대전 유성구
4 윤진한 대한민국 대전 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 진용석 대한민국 대전광역시 서구 청사로 ***, 청사오피스텔 ***호 세빈 국제특허법률사무소 (둔산동)

최종권리자

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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2005.05.17 수리 (Accepted) 1-1-2005-0257423-24
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2006.06.07 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2006.07.12 수리 (Accepted) 9-1-2006-0043780-99
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2006.08.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2006-0477336-35
5 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.
2006.10.20 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2006-0756871-15
6 의견서
Written Opinion
2006.10.20 수리 (Accepted) 1-1-2006-0756872-61
7 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2007.01.12 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2007-0019171-13
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.04.08 수리 (Accepted) 4-1-2011-5069914-14
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.04.08 수리 (Accepted) 4-1-2011-5069919-31
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.11.28 수리 (Accepted) 4-1-2017-5193093-72
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번호 청구항
1 1
액상물질 기화장치에 있어서, 액상의 용액을 포함하는 챔버(1)내의 상단에 형성되어 용액의 액상을 통과하지 못하도록 형성된 타공판(2)과; 가스 또는 불활성 가스를 상기 챔버내에 유입하기 위한 가스유입관(3)의 끝단에 장착된 다공체(7)와; 상기 챔버(1)내의 전구체 용액으로부터 기화된 가스를 배출하기 위한 가스배출관(4) ;를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 액상 물질 기화장치
2 2
제1항에 있어서,상기 챔버(1)내에 초음파를 발생하도록 형성된 챔버(1)의 바닥면에 장착된 초음파발생부(6);를 더 포함하도록 이루어진 것을 특징으로 하는 액상 물질 기화장치
3 3
제1항에 있어서,상기 가스유입관(3)은 불활성 가스를 저장하고 상기 챔버(1)내로 유입하도록 마련된 가스탱크(11)로부터 연결된 가스공급관(9)으로부터 분지되어 연결되며, 상기 가스배출관(4)은 배출되는 전구체 용액의 기화된 가스의 배출을 촉진하도록 장착된 벤츄리관(5)과 연결되도록 이루어진 것을 특징으로 하는 액상 물질 기화장치
4 4
제1항에 있어서,상기 챔버(1)내의 온도와 압력을 각각 측정하도록 장착된 온도계(13)와 압력계(14)를 포함하도록 이루어진 것을 특징으로 하는 액상 물질 기화장치
5 5
제1항에 있어서,상기 챔버(1)내의 압력을 조절하기 위하여 상기 가스유입관(3)의 일측에 장착된 압력조절장치(15) 및 유량조절부(10)가 장착된 것을 특징으로 하는 액상 물질 기화장치
6 6
제1항에 있어서,상기 챔버(1)의 하단부에 장착되어 전구체 용액의 증발을 촉진하도록 형성된 히터(12);를 포함하도록 이루어진 것을 특징으로 하는 액상 물질 기화장치
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패밀리정보가 없습니다
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