요약 | 본 발명은 액상의 물질을 초음파 및 버블링(bubbling)에 의하여 기화 시키는 장치이며, 더욱 상세하게는, 액상의 물질을 포함하는 챔버내의 상단에 형성되어 미세 크기로 기화된 기상의 물질은 통과하고, 기화되지 못한 액상의 용액은 통과하지 못하도록 형성된 타공판과; 불활성 가스 또는 버블링(bubbling)용 가스를 상기 챔버내에 유입하기 위한 가스유입관의 선단에 장착된 다공체와; 상기 챔버내의 액상 물질로부터 기화된 가스를 배출하기 위한 가스배출관, 가스의 배출을 더욱 용이하게 해주는 벤튜리 튜브, 및 또 하나의 기화 장치인 초음파 단자를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 액상 기화장치이며, 대표적인 응용예로서 열분해 등에 의한 나노입자 제조 시스템에서 액상의 전구체를 기화시켜 나노입자 생성부 반응부로 유입시키는 장치로의 응용 등 다양한 응용 범위를 가지는 액상 기화장치 관한 것이다. 액상기화장치, 기화장치, PECVD, 전구체, 나노 |
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Int. CL | B82Y 40/00 (2011.01) B01D 1/00 (2011.01) C23C 16/00 (2011.01) |
CPC | C23C 16/4482(2013.01) C23C 16/4482(2013.01) C23C 16/4482(2013.01) C23C 16/4482(2013.01) |
출원번호/일자 | 1020050041190 (2005.05.17) |
출원인 | 한국기계연구원 |
등록번호/일자 | |
공개번호/일자 | 10-2006-0118819 (2006.11.24) 문서열기 |
공고번호/일자 | |
국제출원번호/일자 | |
국제공개번호/일자 | |
우선권정보 | |
법적상태 | 거절 |
심사진행상태 | 수리 |
심판사항 | |
구분 | |
원출원번호/일자 | |
관련 출원번호 | |
심사청구여부/일자 | Y (2005.05.17) |
심사청구항수 | 4 |