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자기조립 단분자막을 형성하고자 하는 나노임프린트 스탬프와 기판 중 어느 하나를 세정하는 단계;상기 세정단계를 거친 상기 스탬프와 기판 중 어느 하나의 표면을 활성화시키기 위한 플라즈마 처리단계;상기 플라즈마 처리단계를 거친 표면을 챔버에 투입시켜 표면에 실란화합물이나 티올화합물로 자기조립 단분자막을 증착시키는 증착단계; 및자기조립 단분자막이 증착된 표면을 상기 챔버에서 안정화시키는 단계를 포함하며,상기 증착단계에 사용되는 화합물에,톨루엔(C7H8)과 이소프로판올((CH3)2CHOH) 중 어느 하나의 용매를 혼합하고, 그 농도가 0
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제 1항에 있어서, 상기 나노임프린트 스탬프와 기판의 재질은,SiO2, Si, Ge, Au, Ag, Pt, Pd, GaAs, InP, InSb, Ni, PMMA, PET, TiO2, Al2O3 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 나노임프린트 표면의 기능성 향상을 위한 자기조립 단분자막의 기상증착방법
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제 1항에 있어서, 상기 증착단계에 사용되는 화합물은,TMS, DDMS, FOTS, APDMS, ODT 중 하나 또는 둘 이상을 사용하여 증착되는 것을 특징으로 하는 나노임프린트 표면의 기능성 향상을 위한 자기조립 단분자막의 기상증착방법
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삭제
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제 3항에 있어서, 상기 증착단계는,사용되는 화합물을 혼합하여 사용하는 것을 특징으로 하는 나노임프린트 표면의 기능성 향상을 위한 자기조립 단분자막의 기상증착방법
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제 1항에 있어서, 상기 실란화합물을 사용하여 증착단계를 거친 후에는,상기 챔버내에서 불활성기체를 사용하여 열처리,상기 챔버를 진공상태에서 50 ~ 300℃의 온도로 열처리 중 어느 하나를 사용하여 열처리 하는 단계를 더 포함시키는 것을 특징으로 하는 나노임프린트 표면의 기능성 향상을 위한 자기조립 단분자막의 기상증착방법
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제 1항에 있어서, 상기 세정단계는,초음파 세척기를 사용하여 아세톤으로 세정한 후 메탄올로 세정하는 것을 특징으로 하는 나노임프린트 표면의 기능성 향상을 위한 자기조립 단분자막의 기상증착방법
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제 1항 또는 7항에 있어서, 상기 세정단계 후에는,염화플로오르(HF)를 사용하여 상기 세정단계를 마친 표면을 식각하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 나노임프린트 표면의 기능성 향상을 위한 자기조립 단분자막의 기상증착방법
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제 1항에 있어서, 상기 증착단계시에는,화합물을 저장하고 있는 저장고와 챔버내에 화합물을 주입시켜주는 관을 50 내지 300℃로 가열하여 챔버내로 주입시키는 것을 특징으로 하는 나노임프린트 표면의 기능성 향상을 위한 자기조립 단분자막의 기상증착방법
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제 1항에 있어서, 상기 증착단계시에는, 불활성기체를 사용하여 화합물을 챔버내로 주입시키는 것을 특징으로 하는 나노임프린트 표면의 기능성 향상을 위한 자기조립 단분자막의 기상증착방법
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제 1항에 있어서, 상기 플라즈마 처리단계는,산소플라즈마, 아르곤플라즈마, 물플라즈마 중 어느 하나 내지 둘 이상 선택적으로 사용하는 것을 특징으로 하는 나노임프린트 표면의 기능성 향상을 위한 자기조립 단분자막의 기상증착방법
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