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매개 기판 상에 높이가 서로 다른 복수의 소면적 나노 템플릿을 배치하되, 상기 매개 기판과 상기 소면적 나노 템플릿의 나노 패턴이 마주보도록 배치하는 배치단계; 기저 기판상에 평탄화 박막을 코팅하는 코팅단계; 상기 평탄화 박막이 상기 소면적 나노 템플릿에 향하도록 하여 상기 기저 기판을 상기 소면적 나노 템플릿들 측으로 가압하는 가압단계; 및 상기 소면적 나노 템플릿들이 상기 평탄화 박막에 결합되고 상기 매개 기판을 제거함으로써, 상기 소면적 나노 템플릿들, 상기 평탄화 박막 및 상기 기저 기판을 구비하는 대면적 나노 템플릿을 완성하는 완성단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는, 대면적 나노 템플릿의 제조방법
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매개 기판 상에 높이가 서로 다른 복수의 소면적 나노 템플릿을 배치하되, 상기 매개 기판과 상기 소면적 나노 템플릿의 나노 패턴이 마주보도록 배치하는 배치단계; 상기 소면적 나노 템플릿의 나노 패턴이 형성된 면의 반대면 상에 평탄화 박막을 코팅하는 코팅단계; 기저 기판을 상기 소면적 나노 템플릿에 형성된 평탄화 박막 측으로 가압하는 가압단계; 및 상기 소면적 나노 템플릿들이 상기 평탄화 박막에 결합되고 상기 매개 기판을 제거함으로써, 상기 소면적 나노 템플릿들, 상기 평탄화 박막 및 상기 기저 기판을 구비하는 대면적 나노 템플릿을 완성하는 완성단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는, 대면적 나노 템플릿의 제조방법
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제2항에 있어서,상기 배치단계 이후,상기 소면적 나노 템플릿의 나노 패턴이 형성된 면의 반대면 또는 기저 기판의 일면 중 적어도 하나를 표면처리하는 단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 대면적 나노 템플릿의 제조방법
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제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,상기 평탄화 박막은,금속 알콕사이드, 금속 아세틸아세테이트, 금속 유기산염, 금속 무기화합물 또는 금속산화물 미립자 중 적어도 하나를 출발물질로 하여 이루어진 무기 박막 또는 고분자 수지를 출발물질로 하여 이루어진 유기 박막 중 적어도 하나로 이루어진 것을 특징으로 하는, 대면적 나노 템플릿의 제조방법
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제4항에 있어서,상기 고분자 수지는, 폴리디메틸실록산(PDMS)인 것을 특징으로 하는, 대면적 나노 템플릿의 제조방법
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제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,상기 배치단계 이후,상기 소면적 나노 템플릿들을 서로 접착하여 연결시키는 결합단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 대면적 나노 템플릿의 제조방법
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제6항에 있어서,상기 결합단계 이후,상기 소면적 나노 템플릿에서 나노 패턴이 형성된 패턴면 상에 잔류하는 접착제를 제거하는 접착제 제거단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 대면적 나노 템플릿의 제조방법
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제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,상기 가압단계에서는, 상기 평탄화 박막 측에 200℃ 내지 700℃ 범위 내의 열을 더 가하는 것을 특징으로 하는, 대면적 나노 템플릿의 제조방법
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제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,상기 소면적 나노 템플릿은, 실리콘(Si), 산화실리콘(SiO2), 석영(Quartz) 중 어느 하나로 이루어지는 것을 특징으로 하는, 대면적 나노 템플릿의 제조방법
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제1항 내지 제3항 중 어느 한 항의 제조방법에 의하여 제조된 대면적 나노 템플릿
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