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정렬 기준부가 형성된 기판;상기 기판 위에 서로 간격을 두고 도포된 복수의 나노 물질층; 및상기 나노 물질층의 상면과 접하도록 형성된 전극;을 포함하는 나노 소자 구조물
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제1 항에 있어서,상기 나노 물질층은 0차원 구조물 또는 1차원 구조물로 이루어지는 나노 소자 구조물
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제1 항에 있어서,상기 기판은 절연성을 지닌 소재로 유리나 폴리머 필름 또는 웨이퍼 위에 형성된 절연층으로 이루어지는 나노 소자 구조물
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제1 항에 있어서,상기 전극은 상기 나노 물질층을 사이에 두고 이격 배치되는 나노 소자 구조물
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제1 항에 있어서,상기 정렬 기준부는 복수개가 상기 기판의 중앙을 기준으로 대칭되는 위치에 형성되는 나노 소자 구조물
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제1 항 내지 제5 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 나노 물질층은 분사(Jetting) 방식에 의해 도포되는 나노 소자 구조물
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제1 항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,상기 나노 물질층은 탄소 나노튜브 또는 나노와이어로 이루어지는 나노 소자 구조물
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8
기판에 정렬 기준부를 형성하는 단계;정렬 기준부가 형성된 기판 위에 상기 정렬 기준부를 기준으로 나노 물질이 포함된 용액을 기 설정된 패턴으로 도포하는 단계; 및나노 물질의 배열 위에 전극을 도포하는 단계;를 포함하는 나노 소자 구조물의 제조 방법
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제8 항에 있어서,상기 나노물질이 포함된 용액은 기판을 향해 분사되어 기판상에 도포되는 나노 소자 구조물의 제조 방법
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제8 항에 있어서,상기 나노 물질이 포함된 용액을 도포한 후, 불순물을 제거하는 단계를 포함하는 나노 소자 구조물의 제조 방법
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제8 항에 있어서,상기 전극의 도포는 화학기상증착법(Chemical Vapor Deposition; CVD), 스퍼터링(Sputtering), 전자 빔 증착법(e-beam evaporation), 열 증착법(thermal evaporation) 중에서 선택되는 어느 하나의 방법으로 이루어지는 나노 소자 구조물의 제조 방법
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제8 항에 있어서,상기 나노 물질이 포함된 용액을 도포한 후, 나노 물질의 뭉침을 방지하기 위해서, 상기 기판을 가열하는 단계를 더 포함하는 나노 소자 구조물의 제조 방법
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기판에 정렬 기준부를 형성하는 단계;상기 정렬 기준부가 형성된 기판 위에 금속 전극층을 형성하는 단계; 및상기 정렬 기준부를 이용하여 나노 물질 패턴을 형성하는 단계;를 포함하는 나노 소자 구조물의 제조 방법
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제13 항에 있어서,상기 나노 물질 패턴은 나노 물질이 포함된 용액이 기판 상으로 분사(Jetting)되어 형성되는 나노 소자 구조물의 제조 방법
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제13 항에 있어서,상기 기판에 금속 전극층을 형성한 후, 상기 금속 전극층을 어닐링(annealing)하는 단계를 더 포함하는 나노 소자 구조물의 제조 방법
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제13 항에 있어서,상기 기판에 나노 물질 패턴을 형성한 후, 상기 나노 물질의 적어도 일부를 수직으로 세우기 위하여 나노 물질 패턴을 표면 처리하는 단계를 더 포함하는 나노 소자 구조물의 제조 방법
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제13 항에 있어서,상기 나노 물질 패턴을 형성하기 이전에 기판을 가열하는 단계를 더 포함하는 나노 소자 구조물의 제조 방법
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