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기판 상에 증착되는 레지스트를 패터닝하는 임프린트 장치에 있어서,일부가 분리가능한 형태로 마련되어 개폐 가능하게 마련되는 하나의 챔버;진공상태가 되도록 상기 챔버 내부의 공기를 배출시키는 진공형성부;임프린팅 스탬프를 상기 레지스트로부터 상측으로 이격되도록 거치하되, 임프린팅 작업시에는 상기 임프린팅 스탬프가 상기 레지스트 측으로 자유낙하 하도록 거치해제하는 거치부;상기 챔버의 내부에 배치되며, 진공 상태의 상기 챔버 내에서 상기 기판을 상측으로 가압하고, 상기 레지스트가 상기 임프린팅 스탬프의 패턴 내로 충진될 수 있도록 상기 레지스트가 증착된 기판을 상하로 이동시키는 승강부;를 포함하며,상기 승강부가 상측으로 소정 간격 이동하여 상기 기판을 상기 임프린팅 스탬프에 근접시킨 뒤, 상기 거치부가 상기 임프린팅 스탬프를 거치해제하여 상기 임프린팅 스탬프를 상기 레지스트 상에 안착시키는 것을 특징으로 하는 진공 챔버형 대면적 나노 임프린트 장치
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제1항에 있어서,상기 거치부는 서로 이격되며, 상기 임프린팅 스탬프와 직접적으로 접촉하여 거치하는 한 쌍의 거치 트레이; 상기 한 쌍의 거치 트레이의 간격이 멀어지거나 가까워지도록 제어하는 구동부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 진공 챔버형 대면적 나노 임프린트 장치
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제2항에 있어서,광이 상기 챔버를 통과하여 내부로 조사될 수 있도록 상기 챔버의 벽면에 형성되는 광투과부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 진공 챔버형 대면적 나노 임프린트 장치
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제2항에 있어서,상기 승강부의 상측에 배치되어 상기 레지스트에 열을 인가하는 가열부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 진공 챔버형 대면적 나노 임프린트 장치
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제2항에 있어서,상기 기판에 가해지는 압력을 측정하기 위하여 상기 기판의 하방에 장착되는 로드셀을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 진공 챔버형 대면적 나노 임프린트 장치
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제3항의 진공 챔버형 대면적 나노 임프린트 장치를 이용하는 방법으로서,승강부 상에 레지스트가 적층된 기판을 배치하는 단계;진공형성부를 이용하여 챔버 내를 진공상태가 되도록 하는 단계;거치된 임프린팅 스탬프가 상기 레지스트 상에 안착되도록 구동부를 구동하여 거치 트레이의 간격이 멀어지도록 함으로써 상기 임프린팅 스탬프를 거치해제 하는 단계;상기 임프린팅 스탬프를 안착한 상태의 상기 레지스트가 상기 챔버의 상측 내벽면과 접촉하여 가압되도록 승강부를 이용하여 상기 기판을 상측으로 이동시켜 패터닝 하는 단계;상기 광투과부를 통하여 광을 조사함으로써 상기 레지스트를 경화하는 단계;상기 레지스트로부터 상기 임프린팅 스탬프를 이형하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 대면적 나노 임프린트 방법
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제4항의 진공 챔버형 대면적 나노 임프린트 장치를 이용하는 방법으로서,승강부 상에 레지스트가 적층된 기판을 배치하는 단계;진공형성부를 이용하여 챔버 내를 진공상태가 되도록 하는 단계;거치된 임프린팅 스탬프가 상기 레지스트 상에 안착되도록 구동부를 구동하여 거치 트레이의 간격이 멀어지도록 함으로써 상기 임프린팅 스탬프를 거치해제 하는 단계;상기 가열부를 이용하여 상기 레지스트에 열을 인가하는 단계;상기 임프린팅 스탬프를 안착한 상태의 상기 레지스트가 상기 챔버의 상측 내벽면과 접촉하여 가압되도록 승강부를 이용하여 상기 기판을 상측으로 이동시켜 패터닝 하는 단계;상기 레지스트로부터 상기 임프린팅 스탬프를 이형하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 대면적 나노 임프린트 방법
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제6항 또는 제7항에 있어서,상기 임프린팅 스탬프를 거치해제 하는 단계 이전에 상기 승강부를 구동하여 상기 기판을 상기 임프린팅 스탬프에 인접 위치하도록 이동시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 대면적 나노 임프린트 방법
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