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반응기 내부 공간을 형성하며 각자의 유전체로 둘러싸인 복수의 구동 전극; 및상기 복수의 구동 전극과의 사이에 반응기 외부 공간을 형성하며 피처리 기판을 지지하는 접지 전극을 포함하고,상기 복수의 구동 전극 중 이웃한 두 개의 구동 전극은 서로 반대 극성의 바이폴라 펄스 전압을 인가 받으며,상기 복수의 구동 전극 중 이웃한 두 구동 전극 사이의 거리는 상기 복수의 구동 전극과 상기 접지 전극 사이의 거리보다 작아 상기 반응기 외부 공간보다 상기 반응기 내부 공간에서 플라즈마 방전이 먼저 개시되는 유전체 장벽 방전 반응기
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제1항에 있어서,상기 유전체의 상부에 가스 분배기가 위치하여 상기 반응기 내부 공간으로 헬륨 또는 아르곤을 포함하는 방전 가스를 분사하며,상기 바이폴라 펄스 전압은 1kHz 이상의 구동 주파수를 가지는 유전체 장벽 방전 반응기
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제3항에 있어서,상기 가스 분배기는 전구체와 반응 가스 및 방전 가스의 혼합물을 분사하는 유전체 장벽 방전 반응기
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제1항에 있어서,상기 복수의 구동 전극은 제1 방향을 따라 상호 대칭으로 마주하는 제1 구동 전극과 제2 구동 전극을 포함하며,상기 접지 전극은 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향을 따라 상기 복수의 구동 전극과 마주하는 유전체 장벽 방전 반응기
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제1항에 있어서,상기 복수의 구동 전극은 제1 방향을 따라 상호 대칭으로 마주하는 제1 구동 전극 및 제2 구동 전극과, 제1 구동 전극과 제2 구동 전극 사이에 위치하는 제3 구동 전극을 포함하며,상기 접지 전극은 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향을 따라 상기 복수의 구동 전극과 마주하는 유전체 장벽 방전 반응기
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제1항에 있어서,상기 복수의 구동 전극은 제1 방향을 따라 상호 대칭으로 마주하는 제1 구동 전극 및 제2 구동 전극과, 제1 구동 전극과 제2 구동 전극 사이에 위치하는 제3 구동 전극 및 제4 구동 전극을 포함하며,상기 접지 전극은 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향을 따라 상기 복수의 구동 전극과 마주하는 유전체 장벽 방전 반응기
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제7항에 있어서,상기 복수의 구동 전극 사이마다 하나씩 제공되는 복수의 가스 분배기를 더 포함하며,상기 복수의 가스 분배기 중 상기 제3 구동 전극과 상기 제4 구동 전극 사이에 대응하여 위치하는 가스 분배기는 전구체와 반응 가스 및 방전 가스의 혼합물을 분사하는 유전체 장벽 방전 반응기
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제5항에 있어서,상기 제1 구동 전극과 상기 제2 구동 전극 각각은 서로 마주하는 수직부와, 상기 접지 전극과 마주하는 수평부를 포함하며,상기 제1 구동 전극의 수평부와 상기 제2 구동 전극의 수평부는 상기 수직부의 단부에서 서로에 대해 멀어지는 방향으로 배치되는 유전체 장벽 방전 반응기
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제9항에 있어서,상기 제1 구동 전극과 상기 제2 구동 전극 각각을 둘러싸는 상기 유전체에서 상기 수직부와 마주하는 부분의 두께는 상기 접지 전극을 향한 일면에서 상기 수평부와 마주하는 부분의 두께보다 작은 유전체 장벽 방전 반응기
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제6항에 있어서,상기 제3 구동 전극은 상기 제1 구동 전극 및 상기 제2 구동 전극과 각각 마주하는 두 개의 수직부와, 상기 접지 전극과 마주하는 수평부를 포함하는 유전체 장벽 방전 반응기
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제11항에 있어서,상기 제3 구동 전극을 둘러싸는 상기 유전체에서 상기 수직부와 마주하는 부분의 두께는 상기 접지 전극을 향한 일면에서 상기 수평부와 마주하는 두께보다 작은 유전체 장벽 방전 반응기
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제7항에 있어서,상기 제3 구동 전극은 상기 제1 구동 전극 및 상기 제4 구동 전극과 각각 마주하는 두 개의 수직부와, 상기 접지 전극과 마주하는 수평부를 포함하고,상기 제4 구동 전극은 상기 제3 구동 전극 및 상기 제2 구동 전극과 각각 마주하는 두 개의 수직부와, 상기 접지 전극과 마주하는 수평부를 포함하는 유전체 장벽 방전 반응기
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제13항에 있어서,상기 제3 구동 전극과 상기 제4 구동 전극 각각을 둘러싸는 상기 유전체에서 상기 수직부와 마주하는 부분의 두께는 상기 접지 전극을 향한 일면에서 상기 수평부와 마주하는 두께보다 작은 유전체 장벽 방전 반응기
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