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미세 패턴 인쇄 방법

  • 기술번호 : KST2015129280
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명의 목적은 일반적인 인쇄 공정으로 제작하기 어려운 미세 선폭을 가지는 패턴을 인쇄하는 미세 패턴 인쇄 방법을 제공하는 것이다. 본 발명의 일 실시예에 따른 미세 패턴 인쇄 방법은, 회전하는 제1 롤에 잉크층을 형성하는 제1 단계, 제1 선폭(W1)의 제1 패턴(P1)을 준비하는 제2 단계, 상기 제1 패턴에 상기 제1 롤을 밀착 회전시켜 상기 제1 롤에 형성된 상기 잉크층을 상기 제1 패턴에 전사하여 대응 패턴(P3)을 형성하고 잔여 잉크층으로 상기 제1 롤에 제2 선폭(W2)의 제2 패턴(P2)을 형성하는 제3 단계, 및 상기 제2 패턴 및 상기 대응 패턴 중 하나를 기판에 전사하는 제4 단계를 포함한다.
Int. CL B41M 1/02 (2006.01) H05K 3/20 (2006.01) B41M 3/00 (2006.01)
CPC H05K 3/1275(2013.01) H05K 3/1275(2013.01)
출원번호/일자 1020110107017 (2011.10.19)
출원인 한국기계연구원
등록번호/일자 10-1215626-0000 (2012.12.18)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20121226) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2011.10.19)
심사청구항수 4

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 조정대 대한민국 대전 유성구
2 강동우 대한민국 대전 서구
3 이택민 대한민국 대전광역시 유성구
4 이승현 대한민국 대전 서구
5 김인영 대한민국 서울특별시 성북구
6 윤덕균 대한민국 인천광역시 부평구
7 장윤석 대한민국 대전 동구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 팬코리아특허법인 대한민국 서울특별시 강남구 논현로**길 **, 역삼***빌딩 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2011.10.19 수리 (Accepted) 1-1-2011-0818080-12
2 [우선심사신청]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Preferential Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)		 2012.03.06 수리 (Accepted) 1-1-2012-0182784-96
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2012.03.13 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2012.03.27 수리 (Accepted) 9-1-2012-0025011-93
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2012.04.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0227531-98
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2012.05.23 수리 (Accepted) 1-1-2012-0413672-33
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2012.05.23 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2012-0413673-89
8 최후의견제출통지서
Notification of reason for final refusal		 2012.08.17 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0478544-01
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2012.09.20 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2012-0764098-78
10 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2012.09.20 수리 (Accepted) 1-1-2012-0764099-13
11 등록결정서
Decision to grant		 2012.11.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0728204-35
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.11.28 수리 (Accepted) 4-1-2017-5193093-72
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번호 청구항
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회전하는 제1 롤에 구비되는 블랭킷 또는 스탬프에 잉크층를 형성하는 제1 단계;제1 선폭의 제1 패턴을 준비하는 제2 단계;상기 제1 패턴에 상기 제1 롤을 밀착 회전시켜 상기 제1 롤에 형성된 상기 잉크층을 상기 제1 패턴에 전사하여 대응 패턴을 형성하고 잔여 잉크층으로 상기 제1 롤에 제2 선폭의 제2 패턴을 형성하는 제3 단계; 및상기 제2 패턴 및 상기 대응 패턴 중 하나를 기판에 전사하는 제4 단계를 포함하며,상기 제3 단계는,상기 제1 패턴의 상기 제1 선폭을 상기 제2 패턴의 상기 제2 선폭보다 미세하게 형성하고,상기 제3 단계는,상기 대응 패턴을 상기 제1 패턴과 동일한 제1 선폭으로 형성하며,상기 제4 단계는,상기 대응 패턴을 상기 기판에 전사하고,상기 제4 단계는,상기 기판을 제2 롤에 구비하여,상기 블랭킷 또는 스탬프의 상기 대응 패턴을 상기 기판에 전사하는 미세 패턴 인쇄 방법
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제13 항에 있어서,상기 제3 단계 및 상기 제4 단계는상기 블랭킷 또는 스탬프와 상기 기판을 각각 반대 방향으로 이동하는 미세 패턴 인쇄 방법
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회전하는 제1 롤에 잉크층를 형성하는 제1 단계;제1 선폭의 제1 패턴을 준비하는 제2 단계;상기 제1 패턴에 상기 제1 롤을 밀착 회전시켜 상기 제1 롤에 형성된 상기 잉크층을 상기 제1 패턴에 전사하여 대응 패턴을 형성하고 잔여 잉크층으로 상기 제1 롤에 제2 선폭의 제2 패턴을 형성하는 제3 단계; 및상기 제2 패턴 및 상기 대응 패턴 중 하나를 기판에 전사하는 제4 단계를 포함하며,상기 제2 단계는,상기 제1 패턴을 제3 롤에 준비하고,상기 제3 단계는,상기 제1 패턴의 상기 제1 선폭을 상기 제2 패턴의 상기 제2 선폭보다 미세하게 형성하며,상기 제3 단계는,상기 대응 패턴을 상기 제1 패턴과 동일한 제1 선폭으로 형성하고,상기 제4 단계는,상기 제1 패턴 상의 상기 대응 패턴을 상기 기판에 전사하며,상기 제3 단계는,상기 잉크층의 제1 거칠기의 외표면을 상기 제1 패턴의 제2 거칠기의 외표면에 전사하여 제2 거칠기의 내표면의 대응 패턴을 형성하고,상기 제4 단계는,상기 대응 패턴을 상기 기판에 전사하여 형성되는 제2 거칠기의 내표면을 제2 거칠기의 외표면으로 형성하는 미세 패턴 인쇄 방법
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제19 항에 있어서,상기 제2 거칠기는 상기 제1 거칠기보다 작게 형성되는 미세 패턴 인쇄 방법
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1 지식경제부,지식경제부 산업기술연구회,한국화학연구원 산업기술연구회-협동연구사업,산업기술연구회-협동연구사업 나노잉크를 이용한 박막형 슈퍼캐패시터 연속 생산공정 및 시스템 개발 (2/5),용액기반형 초저가 나노박막 태양전지 연속 프린팅 생산시스템 개발 (3/5)