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기판 상에 반응층을 적층하는 반응층 적층단계;상기 반응층 상에 다수의 볼록부를 상호 이격되게 형성하는 볼록부 형성단계;이웃하는 상기 볼록부 사이의 반응층에 이온빔을 조사함으로써 상기 반응층을 식각하되, 상기 이온빔에 의하여 식각되는 반응층 중 적어도 일부가 상기 볼록부의 측벽면에 재증착되어 프리패턴을 형성하도록 하는 프리패턴 형성단계;상기 볼록부를 제거하는 볼록부 제거단계;상기 이웃하는 프리패턴 사이의 기판 상에 남아있는 반응층을 제거하는 반응층 제거단계;상기 기판 상의 상기 이웃하는 프리패턴 사이에 블록공중합체 패턴을 정렬하는 블록공중합체 패턴 형성단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 블록공중합체 정렬을 이용한 나노 구조물 제조방법
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제1항에 있어서,상기 반응층 적층단계에서 상기 기판 상에 적층되는 반응층의 두께를 조절함으로써 상기 프리패턴의 폭을 조절하는 것을 특징으로 하는 블록공중합체 정렬을 이용한 나노 구조물 제조방법
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제1항에 있어서,상기 프리패턴 형성단계에서 상기 이온빔의 조사각도, 조사시간을 조절함으로써 상기 프리패턴의 폭을 조절하는 것을 특징으로 하는 블록공중합체 정렬을 이용한 나노 구조물 제조방법
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제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,상기 블록공중합체 패턴 형성단계는 상기 기판 상에 블록공중합체 박막을 형성하는 단계; 및 상기 블록공중합체 박막을 열처리하여 블록공중합체 패턴을 정렬하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 블록공중합체 정렬을 이용한 나노 구조물 제조방법
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제4항에 있어서,상기 블록공중합체 패턴의 폭과 상기 프리패턴의 폭은 동일하게 설정되는 것을 특징으로 하는 블록공중합체 정렬을 이용한 나노 구조물 제조방법
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기판 상에 상호 이격되는 다수의 제1볼록부와 상기 제1볼록부보다 낮은 높이의 제2볼록부를 반복 형성하는 패터닝 단계;상기 제1볼록부와 제2볼록부의 상면에 반응층을 적층하는 반응층 적층단계;상기 반응층에 이온빔을 조사함으로써 상기 반응층을 식각하되, 상기 제2볼록부 상에 적층되어 상기 이온빔에 의하여 식각되는 반응층 중 적어도 일부가 상기 볼록부의 측벽면에 재증착되어 프리패턴을 형성하는 프리패턴 형성단계;상기 프리패턴과 상기 기판의 사이에 개재되는 제2볼록부를 제외한 제1볼록부 및 상기 제2볼록부를 제거하는 제거단계;상기 기판 상의 상기 이웃하는 프리패턴 사이에 블록공중합체 패턴을 정렬하는 블록공중합체 패턴 형성단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 블록공중합체 정렬을 이용한 나노 구조물 제조방법
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제6항에 있어서,상기 반응층 적층단계에서 상기 제2볼록부의 상면에 적층되는 반응층의 두께를 조절함으로써 상기 프리패턴의 폭을 조절하는 것을 특징으로 하는 블록공중합체 정렬을 이용한 나노 구조물 제조방법
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제6항에 있어서,상기 프리패턴 형성단계에서 상기 이온빔의 조사각도, 조사시간을 조절함으로써 상기 프리패턴의 폭을 조절하는 것을 특징으로 하는 블록공중합체 정렬을 이용한 나노 구조물 제조방법
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제6항에 있어서,상기 반응층 적층단계와 상기 프리패턴 형성단계를 반복 수행하되, 반복횟수를 조절함으로써 상기 프리패턴의 폭을 조절하는 것을 특징으로 하는 블록공중합체 정렬을 이용한 나노 구조물 제조방법
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제6항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서,상기 블록공중합체 패턴 형성단계는 상기 기판 상에 블록공중합체 박막을 형성하는 단계; 및 상기 블록공중합체 박막을 열처리하여 블록공중합체 패턴을 정렬하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 블록공중합체 정렬을 이용한 나노 구조물 제조방법
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제10항에 있어서,상기 블록공중합체 패턴의 폭과 상기 프리패턴의 폭은 동일하게 설정되는 것을 특징으로 하는 블록공중합체 정렬을 이용한 나노 구조물 제조방법
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