| 1 |
1
메트릭스를 구성하는 입자와 구형을 형성하는 입자를 함유하는 용액으로부터 콜로이드 자기조립에 의해서 메트릭스 안쪽에 구형입자가 적층된 필름형상의 마스크기재를 제조하는 단계; 제조된 마스크 기재의 구형입자를 에칭하여 구멍을 형성시키는 단계를 포함하는 콜로이드 자기조립에 의한 다공성 마스크의 제조방법
|
| 2 |
2
제 1 항에 있어서, 메트릭스를 구성하는 입자가 폴리스티렌, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리우레탄, 에폭시와 같은 유기분자; 실리카, 타이타니아와 같은 세라믹입자; 금, 은, 플라티늄, 구리, 니켈과 같은 금속입자; , 카드뮴-황, 갈륨-질소와 같은 화합물반도체 입자로 이루어진 군에서 선택되는 것임을 특징으로 하는 콜로이드 자기조립에 의한 다공성 마스크의 제조방법
|
| 3 |
3
제 1 항에 있어서, 상기 구형을 형성하는 입자가 폴리스티렌, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리우레탄, 에폭시와 같은 유기분자; 실리카, 타이타니아와 같은 세라믹입자; 금, 은, 플라티늄, 구리, 니켈과 같은 금속입자; , 카드뮴-황, 갈륨-질소와 같은 화합물반도체 입자로 이루어진 군에서 선택되는 것임을 특징으로 하는 콜로이드 자기조립에 의한 다공성 마스크의 제조방법
|
| 4 |
4
제 1 항에 있어서, 상기 콜로이드 자기조립에 딥코팅, 스핀코팅, 랭뮤어-블로제트, 화학기상증착, 스퍼터링 및 전기도금으로 이루어진 군에서 선택되는 방법을 이용하는 것을 특징으로 하는 콜로이드 자기조립에 의한 다공성 마스크의 제조방법
|
| 5 |
5
제 1 항에 있어서, 상기 에칭에 고온소성; 불산과 같은 강산용액, 톨루엔, 아세톤, 포토레지스트(PR) 제거제와 같은 유,무기 에칭용액을 이용하는 용액에칭; 플라즈마, 고에너지 전자빔, 자외선조사, 오존과 같은 에칭가스를 이용하는 것을 특징으로 하는 콜로이드 자기조립에 의한 다공성 마스크의 제조방법
|
| 6 |
6
제 1 항에 있어서, 마스크 기재의 하나의 구형 입자에 3개 또는 4개의 구멍이 형성되는 정도로 에칭하는 것을 특징으로 하는 콜로이드 자기조립에 의한 다공성 마스크의 제조방법
|
| 7 |
7
청구항 1 내지 6 중 어느 한 항 기재의 방법으로 제조한 다공성 마스크
|
| 8 |
8
청구항 7 기재의 다공성 마스크를 이용한 패터닝 방법
|
| 9 |
9
제 8항에 있어서, 다공성 마스크를 패터닝하고자하는 기질에 올려놓고 다공성 마스크의 구멍을 통해 에칭용액, 에칭가스, 에칭 플라즈마, 자외선 및 전자빔으로 이루어진 군에서 선택되는 에칭 소스로 기질의 표면을 에칭하는 것을 특징으로 하는 패터닝 방법
|
| 10 |
10
제 9 항에 있어서, 상기 기질이 단분산 입자의 자기조립층인 것을 특징으로 하는 패터닝 방법
|
| 11 |
11
청구항 8 기재의 패터닝 방법으로 제조된 다공성 입자
|
| 12 |
12
청구항 11 기재의 다공성 입자에 나노물질이 부여된 복합체 입자
|
| 13 |
13
청구항 12 기재의 복합체 입자를 이용한 바이오 소자
|
| 14 |
14
청구항 12 기재의 복합체 입자를 이용한 광전자 소자
|
| 15 |
14
청구항 12 기재의 복합체 입자를 이용한 광전자 소자
|
