1 |
1
감광제와 반응하는 파장의 광원을 이용하여 기판 상에 도포된 감광제 표면에 초점을 맞추어 노광하는 광학 현미경부와;
상기 광학 현미경부 하부에 연결되고, 상기 감광제가 도포된 기판이 장착되어 원하는 감광제 부위에만 광원이 조사되도록 상기 기판을 이동시키는 스테이지부와;
상기 광학 현미경부와 스테이지부의 전체 시스템을 제어하는 제어부를 포함하되,
상기 광학 현미경부는
감광제와 반응하는 파장의 광원을 발생하는 광원부와;
상기 광원부로부터 발생된 광원의 경로 상에 장착되어 광원의 모양을 축소, 확대, 변조시키는 조리개와 분리되어 있는 패턴에 따라 광원을 노출하는 경우 원하지 않는 영역에 광원이 전달되지 않도록 광원을 차단하는 블랭크를 구비하는 광원 제어부와;
상기 광원 제어부를 통과한 광을 전달하여 감광제가 도포된 기판의 표면에 초점을 맞추어 노광하는 광학현미경을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학현미경을 이용한 포토 리소그래피 시스템
|
2 |
2
삭제
|
3 |
3
제 1항에 있어서,
상기 광원부는
기판에 도포되는 감광제에 반응하는 파장대의 광원을 선택적으로 발생시키는 것을 특징으로 하는 광학현미경을 이용한 포토 리소그래피 시스템
|
4 |
4
제 1항에 있어서,
상기 광학현미경은
상기 광원부로부터 발생한 광원을 감광제가 도포된 기판 표면에 초점을 맞추어 조사하되, 패터닝될 영역에만 노광시켜 포토리스그래피를 수행하는 것을 특징으로 하는 광학현미경을 이용한 포토 리소그래피 시스템
|
5 |
5
제 1항에 있어서,
상기 스테이지부는
X축 이동이 가능한 제 1 스테이지와;
상기 제 1 스테이지와 결합되어 Y축 이동이 가능한 제 2 스테이지 및;
상기 제 1 및 2 스테이지를 구동하는 구동모터를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학현미경을 이용한 포토리소그래피 시스템
|
6 |
6
제 1항에 있어서,
상기 제어부는
상기 광학현미경부의 광원부를 통한 광원발생, 상기 광원제어부의 조리개 및 블랭크 제어를 수행하는 광원제어모듈과;
상기 스테이지부의 구동을 마이크로 단위로 정밀제어하는 스테이지제어모듈과;
패턴을 분석하여 광원 제어에 필요한 제어신호를 상기 광원제어모듈에 전송하고, 상기 스테이지부가 정확하게 이동하기 위한 제어신호를 상기 스테이지제어모듈에 전송하는 데이터처리모듈을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학현미경을 이용한 포토리소그래피 시스템
|
7 |
7
제 6항에 있어서,
상기 제어부는
사용자로부터 입력된 패턴 모양 및 크기를 분석하고 광의 모양 및 크기를 결정하여 광원제어부를 제어하고, 패턴에 따라 상기 스테이지부 이동을 정밀 제어하는 것을 특징으로 하는 광학현미경을 이용한 포토리소그래피 시스템
|
8 |
8
제 6항에 있어서,
상기 제어부는
상기 광학 현미경부 및 스테이지부와의 인터페이스를 수행하고, 상기 광학 현미경부를 통한 패턴 형성과정을 모니터링할 수 있는 인터페이스 모듈을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광학현미경을 이용한 포토리소그래피 시스템
|