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마이크로파 유전체 세라믹스 및 그 제조 방법

  • 기술번호 : KST2015131740
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 마이크로파 유전체 세라믹스 및 그 제조 방법에 관한 것으로, MgO 및 SiO2의 원료 분말을 조성식 MgSiO3의 몰분율에 맞게 칭량하여 습식 혼합한 후 1차 분쇄하여 제 1 혼합 분말을 제조하는 단계와, 상기 제 1 혼합 분말을 건조한 후 하소하는 단계와, 하소된 상기 제 1 혼합 분말을 습식 혼합한 후 2차 분쇄하여 제 2 혼합 분말을 제조하는 단계 및 상기 제 2 혼합 분말을 건조하고 성형한 후 이를 1350℃ ~ 1450℃에서 소결하여 MgSiO3 유전체 세라믹스를 제조함으로써, 품질계수, 유전율 및 공진 주파수의 온도계수 특성을 향상시킬 수 있도록 하는 발명에 관한 것이다.
Int. CL C04B 35/20 (2006.01)
CPC C04B 35/20(2013.01)C04B 35/20(2013.01)C04B 35/20(2013.01)C04B 35/20(2013.01)C04B 35/20(2013.01)C04B 35/20(2013.01)C04B 35/20(2013.01)C04B 35/20(2013.01)C04B 35/20(2013.01)C04B 35/20(2013.01)
출원번호/일자 1020090010334 (2009.02.09)
출원인 고려대학교 산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2010-0091057 (2010.08.18) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2009.02.09)
심사청구항수 12

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 고려대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 남산 대한민국 서울 강남구
2 송명은 대한민국 서울특별시 강북구
3 김진성 대한민국 서울특별시 동대문구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인(유한) 대아 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로 ***, 한양빌딩*층(역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2009.02.09 수리 (Accepted) 1-1-2009-0079582-93
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2009.06.09 수리 (Accepted) 4-1-2009-5111177-32
3 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)		 2009.07.14 수리 (Accepted) 1-1-2009-0428702-73
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2010.05.06 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2010.06.16 수리 (Accepted) 9-1-2010-0036762-30
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2010.08.12 수리 (Accepted) 4-1-2010-5149278-93
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2011.03.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0156775-32
8 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2011.05.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0284849-36
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.02.11 수리 (Accepted) 4-1-2014-5018243-16
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.04.22 수리 (Accepted) 4-1-2014-5049934-62
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.10.10 수리 (Accepted) 4-1-2019-5210941-09
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
MgO 및 SiO2의 원료 분말을 조성식 MgSiO3의 몰분율에 맞게 습식 혼합한 후 1차 분쇄하여 제 1 혼합 분말을 제조하는 단계; 상기 제 1 혼합 분말을 건조한 후 하소하는 단계; 하소된 상기 제 1 혼합 분말을 습식 혼합한 후 2차 분쇄하여 제 2 혼합 분말을 제조 하는 단계; 및 상기 제 2 혼합 분말을 건조하고 성형한 후 이를 1350℃ ~ 1450℃에서 소결하여 MgSiO3 유전체 세라믹스를 제조하는 단계를 포함하는 마이크로파 유전체 세라믹스 제조 방법
2 2
제 1 항에 있어서, 상기 1차 분쇄는 상기 원료 분말을 나일론 자에 넣고 용매 및 지르코니아(ZrO2) 볼과 함께 20 ~ 28시간 동안 분쇄하는 것을 특징으로 하는 마이크로파 유전체 세라믹스 제조 방법
3 3
제 1 항에 있어서, 상기 2차 분쇄는 상기 제 1 혼합 분말을 나일론 자에 넣고 용매 및 지르코니아(ZrO2) 볼과 함께 20 ~ 28시간 동안 분쇄하는 것을 특징으로 하는 마이크로파 유전체 세라믹스 제조 방법
4 4
제 1 항에 있어서, 상기 하소는 800 ~ 1300℃에서 3 ~ 10시간 동안 수행하는 것을 특징으로 하는 마이크로파 유전체 세라믹스 제조 방법
5 5
제 1 항에 있어서, 상기 소결은 3 ~ 13시간 동안 수행하는 것을 특징으로 하는 마이크로파 유전체 세라믹스 제조 방법
6 6
MgO 및 SiO2의 원료 분말을 조성식 MgSiO3의 몰분율에 맞게 용매에 습식 혼합한 후 나일론 자에 넣고 지르코니아(ZrO2) 볼과 함께 20 ~ 28시간 동안 1차 분쇄하여 제 1 혼합 분말을 제조하는 단계; 상기 제 1 혼합 분말을 건조하여 상기 용매를 제거한 후 800 ~ 1300℃에서 3 ~ 10시간 동안 하소하는 단계; 하소된 상기 제 1 혼합 분말을 용매에 습식 혼합한 후 나일론 자에 넣고 지르코니아(ZrO2) 볼과 함께 20 ~ 28시간 동안 2차 분쇄하여 제 2 혼합 분말을 제조 하는 단계; 및 상기 제 2 혼합 분말을 건조하여 상기 용매를 제거하고, 성형한 후 이를 1350℃ ~ 1450℃에서 3 ~ 13시간 동안 소결하여 MgSiO3 유전체 세라믹스를 제조하는 단계를 포함하는 마이크로파 유전체 세라믹스 제조 방법
7 7
제 1 항의 MgSiO3 유전체 세라믹스 제조 방법으로 형성된 것을 특징으로 하는 마이크로파 유전체 세라믹스
8 8
제 7 항에 있어서, 상기의 MgSiO3 유전체 세라믹스의 상대밀도(시편의 밀도/이론 밀도*100)는 70 ~ 100%인 것을 특징으로 하는 마이크로파 유전체 세라믹스
9 9
제 7 항에 있어서, 상기의 MgSiO3 유전체 세라믹스의 유전율(εr)은 5 ~ 7인 것을 특징으로 하는 마이크로파 유전체 세라믹스
10 10
제 7 항에 있어서, 상기의 MgSiO3 유전체 세라믹스의 품질계수(Qxf)는 10,000 ~ 120,000GHz인 것을 특징으로 하는 마이크로파 유전체 세라믹스
11 11
제 7 항에 있어서, 상기의 MgSiO3 유전체 세라믹스의 공진 주파수의 온도계수(τf)는 -10 ~ -25 ppm/℃인 것을 특징으로 하는 마이크로파 유전체 세라믹스
12 12
제 1 항의 제조방법으로 형성된 MgSiO3 유전체 세라믹스를 포함하는 것을 특징으로 하는 고주파용 집적회로기판
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.