맞춤기술찾기

이전대상기술

나노선 및 이를 이용한 전류 인가 자벽 이동을 이용한메모리 소자

  • 기술번호 : KST2015131432
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 나노선 및 이를 이용한 전류 인가 자벽 이동을 이용한 메모리 소자가 개시된다. 본 발명에 따른 나노선은, 수직 자기 이방성을 가지는 나노선에 있어서, 상기 나노선의 구성 물질인 강자성체의 단위면적당 포화 자화양, 자벽 두께 및 스핀 분극률에 의해 연산 되는 전류 밀도 가 일 때, 상기 나노선의 자벽 두께 , 상기 나노선의 선 폭 및 상기 나노선의 두께 에 따른 및 가 에 의해 구성된다. 본 발명에 의하면, 수직이방성을 가지는 나노선에서 주어진 재료에 대하여 자벽이동을 시키기 위한 임계전류밀도가 상용화를 위해 요구되는 특정값 이하를 만족하는 최적의 나노선 폭 및 두께를 결정하여, 전류 구동 자벽 이동을 이용한 메모리 소자를 구동할 수 있는 전류 밀도가 이하가 되도록 설계할 수 있어서, 현재 상용되고 있는 나노선에서의 자벽 이동을 시키기 위한 전류 밀도보다 적어도 10배 이상 낮은 값을 가지므로, 고 전력 소모 및 주울열에 의한 소자의 오작동 문제를 해결할 수 있으며, 저렴한 비용으로 메모리 소자를 제작할 수 있는 효과가 있다.
Int. CL G11B 9/02 (2011.01) G11C 11/22 (2011.01) B82Y 10/00 (2011.01)
CPC
출원번호/일자 1020070126001 (2007.12.06)
출원인 고려대학교 산학협력단, 포항공과대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-0907471-0000 (2009.07.06)
공개번호/일자 10-2009-0059250 (2009.06.11) 문서열기
공고번호/일자 (20090713) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2007.12.06)
심사청구항수 19

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 고려대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 성북구
2 포항공과대학교 산학협력단 대한민국 경상북도 포항시 남구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 이경진 대한민국 서울 성북구
2 이현우 대한민국 경북 포항시 남구
3 정순욱 대한민국 경북 포항시 남구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 현종철 대한민국 서울특별시 중구 다산로 **, *층 특허법인충현 (신당동, 두지빌딩)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 고려대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 성북구
2 포항공과대학교 산학협력단 대한민국 경상북도 포항시 남구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2007.12.06 수리 (Accepted) 1-1-2007-0877971-77
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2007.12.28 수리 (Accepted) 4-1-2007-5195152-79
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.03.05 수리 (Accepted) 4-1-2008-5034712-96
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2008.08.07 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2008.09.11 수리 (Accepted) 9-1-2008-0056060-18
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2009.02.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0089840-04
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2009.04.27 수리 (Accepted) 1-1-2009-0254530-35
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2009.04.27 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2009-0254558-13
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.06.09 수리 (Accepted) 4-1-2009-5111177-32
10 등록결정서
Decision to grant
2009.06.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0275290-55
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2010.08.12 수리 (Accepted) 4-1-2010-5149278-93
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.06.13 수리 (Accepted) 4-1-2013-0025573-58
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.02.11 수리 (Accepted) 4-1-2014-5018243-16
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.02.25 수리 (Accepted) 4-1-2014-5024386-11
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.04.22 수리 (Accepted) 4-1-2014-5049934-62
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.10.10 수리 (Accepted) 4-1-2019-5210941-09
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.11.20 수리 (Accepted) 4-1-2019-5243581-27
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.11.22 수리 (Accepted) 4-1-2019-5245997-53
19 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.11.25 수리 (Accepted) 4-1-2019-5247115-68
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
수직 자기 이방성을 가지는 나노선에 있어서, 상기 나노선의 구성 물질인 강자성체의 단위면적당 포화 자화양, 자벽 두께 및 스핀 분극률에 의해 연산 되는 전류 밀도 가 일 때, 상기 나노선의 자벽 두께 , 상기 나노선의 선 폭 및 상기 나노선의 두께 에 따른 및 가 하기의 식 1에 따라 구성되고, 상기 전류 밀도 Q와 자벽의 감자 계수는 (은 자벽이동을 위한 임계 전류 밀도)의 관계를 가지고 있고, 상기 는 상기 나노선의 자벽 두께 , 상기 나노선의 선 폭 및 상기 나노선의 두께 의 함수이며, 는 미만인 값이고, 0〈≤4인 것을 특징으로 하는 나노선
2 2
제 1 항에 있어서, 상기 나노선의 구성 물질은 Fe, Co, Ni 및 이들의 혼합물 중에서 선택된 어느 하나로 이루어지는 것을 특징으로 하는 나노선
3 3
제 1 항에 있어서, 상기 나노선의 구성 물질은 희토류 금속을 포함하는 것을 특징으로 하는 나노선
4 4
수직 자기 이방성을 가지는 나노선에 있어서, 상기 나노선의 구성 물질인 강자성체의 단위면적당 포화 자화양, 자벽 두께 및 스핀 분극률에 의해 연산 되는 전류 밀도 가 일 때, 상기 나노선의 자벽 두께 , 상기 나노선의 선 폭 및 상기 나노선의 두께 에 따른 및 가 하기의 식 2에 따라 구성되고, 상기 전류 밀도 Q와 자벽의 감자 계수는 (은 자벽이동을 위한 임계 전류 밀도)의 관계를 가지고 있고, 상기 는 상기 나노선의 자벽 두께 , 상기 나노선의 선 폭 및 상기 나노선의 두께 의 함수이며, 는 미만인 값이고, 0〈≤(41/18)2인 것을 특징으로 하는 나노선
5 5
제 4 항에 있어서, 상기 나노선의 구성 물질은 Fe, Co, Ni 및 이들의 혼합물 중에서 선택된 어느 하나로 이루어지는 것을 특징으로 하는 나노선
6 6
제 4 항에 있어서, 상기 나노선의 구성 물질은 희토류 금속을 포함하는 것을 특징으로 하는 나노선
7 7
수직 자기 이방성을 가지는 나노선에 있어서, 상기 나노선의 구성 물질인 강자성체의 단위면적당 포화 자화양, 자벽 두께 및 스핀 분극률에 의해 연산 되는 전류 밀도 가 일 때, 상기 나노선의 자벽 두께 , 상기 나노선의 선 폭 및 상기 나노선의 두께 에 따른 및 가 하기의 식 3에 따라 구성되고, 상기 전류 밀도 Q와 자벽의 감자 계수는 (은 자벽이동을 위한 임계 전류 밀도)의 관계를 가지고 있고, 상기 는 상기 나노선의 자벽 두께 , 상기 나노선의 선 폭 및 상기 나노선의 두께 의 함수이며, 는 미만인 값이고, 0〈≤(127/54)2인 것을 특징으로 하는 나노선
8 8
제 7 항에 있어서, 상기 나노선의 구성 물질은 Fe, Co, Ni 및 이들의 혼합물 중에서 선택된 어느 하나로 이루어지는 것을 특징으로 하는 나노선
9 9
제 7 항에 있어서, 상기 나노선의 구성 물질은 희토류 금속을 포함하는 것을 특징으로 하는 나노선
10 10
수직 자기 이방성을 가지는 나노선에 있어서, 상기 나노선의 구성 물질인 강자성체의 단위면적당 포화 자화양에 의해 연산 되는 전류 밀도 가 일 때, 상기 나노선의 자벽 두께 , 상기 나노선의 선 폭 및 상기 나노선의 두께 에 따른 및 가 하기의 식 4에 따라 구성되고, 상기 전류 밀도 Q와 자벽의 감자 계수는 (은 자벽이동을 위한 임계 전류 밀도)의 관계를 가지고 있고, 상기 는 상기 나노선의 자벽 두께 , 상기 나노선의 선 폭 및 상기 나노선의 두께 의 함수이며, 는 미만인 값이고, 0〈≤(4216/1730)2인 것을 특징으로 하는 나노선
11 11
제 10 항에 있어서, 상기 나노선의 구성 물질은 Fe, Co, Ni 및 이들의 혼합물 중에서 선택된 어느 하나로 이루어지는 것을 특징으로 하는 나노선
12 12
제 10 항에 있어서, 상기 나노선의 구성 물질은 희토류 금속을 포함하는 것을 특징으로 하는 나노선
13 13
수직 자기 이방성을 가지는 나노선에 있어서, 상기 나노선의 구성 물질인 강자성체의 단위면적당 포화 자화양, 자벽 두께 및 스핀 분극률에 의해 연산 되는 전류 밀도 가 일 때, 상기 나노선의 자벽 두께 , 상기 나노선의 선 폭 및 상기 나노선의 두께 에 따른 및 가 하기의 식 5에 따라 구성되고, 상기 전류 밀도 Q와 자벽의 감자 계수는 (은 자벽이동을 위한 임계 전류 밀도)의 관계를 가지고 있고, 상기 는 상기 나노선의 자벽 두께 , 상기 나노선의 선 폭 및 상기 나노선의 두께 의 함수이며, 는 미만인 값이고, 0〈≤(989/283)2인 것을 특징으로 하는 나노선
14 14
제 13 항에 있어서, 상기 나노선의 구성 물질은 Fe, Co, Ni 및 이들의 혼합물 중에서 선택된 어느 하나로 이루어지는 것을 특징으로 하는 나노선
15 15
제 13 항에 있어서, 상기 나노선의 구성 물질은 희토류 금속을 포함하는 것을 특징으로 하는 나노선
16 16
수직 자기 이방성을 가지는 나노선에 있어서, 상기 나노선의 구성 물질인 강자성체의 단위면적당 포화 자화양, 자벽 두께 및 스핀 분극률에 의해 연산되는 전류 밀도 가 일 때, 상기 나노선의 자벽 두께 , 상기 나노선의 선 폭 및 상기 나노선의 두께 에 따른 및 가 하기의 식 6에 따라 구성되고, 상기 전류 밀도 Q와 자벽의 감자 계수는 (은 자벽이동을 위한 임계 전류 밀도)의 관계를 가지고 있고, 상기 는 상기 나노선의 자벽 두께 , 상기 나노선의 선 폭 및 상기 나노선의 두께 의 함수이며, 는 미만인 값이고, 0〈≤(14900/4232)2 것을 특징으로 하는 나노선
17 17
제 16 항에 있어서, 상기 나노선의 구성 물질은 Fe, Co, Ni 및 이들의 혼합물 중에서 선택된 어느 하나로 이루어지는 것을 특징으로 하는 나노선
18 18
제 16 항에 있어서, 상기 나노선의 구성 물질은 희토류 금속을 포함하는 것을 특징으로 하는 나노선
19 19
제 1 항 내지 제 18 항 중 어느 한 항에 따른 나노선을 포함하는 전류 인가 자벽 이동을 이용한 메모리 소자
지정국 정보가 없습니다
순번, 패밀리번호, 국가코드, 국가명, 종류의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 패밀리정보 - 패밀리정보 표입니다.
순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US08300445 US 미국 FAMILY
2 US20110007559 US 미국 FAMILY
3 WO2009072819 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

순번, 패밀리번호, 국가코드, 국가명, 종류의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 패밀리정보 - DOCDB 패밀리 정보 표입니다.
순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US2011007559 US 미국 DOCDBFAMILY
2 US8300445 US 미국 DOCDBFAMILY
3 WO2009072819 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
국가 R&D 정보가 없습니다.