요약 | 본 발명은 합성 반강자성체로 이루어지는 나노구조 셀의 안상점에서 나타나는 열적안정성을 고려한 고밀도 자기 메모리 셀 설계 방법에 관한 것으로, 3층막구조의 합성 반강자성체의 열적 안정성 계수를 계산하는데 사용되는 해석적 및 수치적 통합 방법에 있어서, 마이크로자기 컴퓨터 시뮬레이션을 이용하여 평형 자기 상태의 유효 정자기장(Effective Magnetostatic Fields)을 구하고, 그 결과들을 자기 에너지 배리어를 나타내는 총 에너지에 관한 해석적 수학식에 대입함으로써, 열적 안정성 계수를 계산하는 발명에 관한 것이다. 아울러, 본 발명은 3층막구조의 합성 반강자성체를 자유층으로 사용하는 자기랜덤액세스메모리(MRAM: magnetic random access memory)의 열적 안정성 계수를 신속하게 계산함으로써 열적으로 안정된 자기 셀을 설계하는데 유용하게 사용될 수 있도록 하는 발명에 관한 것이다. |
---|---|
Int. CL | G11C 11/15 (2006.01) |
CPC | G11C 11/16(2013.01) G11C 11/16(2013.01) G11C 11/16(2013.01) G11C 11/16(2013.01) G11C 11/16(2013.01) |
출원번호/일자 | 1020090079427 (2009.08.26) |
출원인 | 고려대학교 산학협력단 |
등록번호/일자 | 10-1094557-0000 (2011.12.08) |
공개번호/일자 | 10-2011-0021559 (2011.03.04) 문서열기 |
공고번호/일자 | (20111220) 문서열기 |
국제출원번호/일자 | |
국제공개번호/일자 | |
우선권정보 | |
법적상태 | 소멸 |
심사진행상태 | 수리 |
심판사항 | |
구분 | 신규 |
원출원번호/일자 | |
관련 출원번호 | |
심사청구여부/일자 | Y (2009.08.26) |
심사청구항수 | 9 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 고려대학교 산학협력단 | 대한민국 | 서울특별시 성북구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 임상호 | 대한민국 | 경기도 남양주시 |
2 | 한창완 | 대한민국 | 서울특별시 강남구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 특허법인(유한) 대아 | 대한민국 | 서울특별시 강남구 역삼로 ***, 한양빌딩*층(역삼동) |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 인텔렉추얼디스커버리 주식회사 | 서울특별시 강남구 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | [특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application |
2009.08.26 | 수리 (Accepted) | 1-1-2009-0524614-83 |
2 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2010.08.12 | 수리 (Accepted) | 4-1-2010-5149278-93 |
3 | 선행기술조사의뢰서 Request for Prior Art Search |
2011.01.12 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
4 | 선행기술조사보고서 Report of Prior Art Search |
2011.02.14 | 수리 (Accepted) | 9-1-2011-0007645-62 |
5 | 의견제출통지서 Notification of reason for refusal |
2011.02.16 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2011-0087418-51 |
6 | [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서 [Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief) |
2011.04.18 | 수리 (Accepted) | 1-1-2011-0287414-68 |
7 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2011.05.13 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2011-0355799-48 |
8 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2011.05.13 | 수리 (Accepted) | 1-1-2011-0355798-03 |
9 | 등록결정서 Decision to grant |
2011.11.30 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2011-0707083-25 |
10 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.02.11 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5018243-16 |
11 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.04.22 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5049934-62 |
12 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2019.10.10 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5210941-09 |
번호 | 청구항 |
---|---|
1 |
1 단층 반강자성체 또는 제 1 자성층, 중간 비자성층 및 제 2 자성층을 포함하는 3층막구조의 합성 반강자성체의 열적 안정성 계수를 측정하여 고밀도 자기메모리 셀을 설계하는 방법에 있어서, 하기 [수학식 1] 및 [수학식 2]에 의해서 계산되는, y축 방향으로의 유효자기 소거 자기장(Hdem-y) 및 y축 방향으로의 유효 다이폴 자기장(Hdip-y)과, [수학식 3] 및 [수학식 4]에 의해 계산되는 자기 에너지 배리어(EM)를 이용하여, 자기 에너지 배리어(EM)와 열 에너지(kT)의 비율로 정의되는 열적 안정성 계수를 측정하는 것을 특징으로 하는 고밀도 자기메모리 셀 설계 방법 |
2 |
2 제 1 항에 있어서, 상기 단층 반강자성체에 대해서는 상기 [수학식 1] 및 [수학식 3]을 적용하고, 상기 3층막구조의 합성 반강자성체에 대해서는 [수학식 2] 및 [수학식 4]를 적용하는 것을 특징으로 하는 고밀도 자기메모리 셀 설계 방법 |
3 |
3 제 1 항에 있어서, 상기 3층막구조의 합성 반강자성체의 평면 형태는 가로 대 세로의 비율이 1 |
4 |
4 제 1 항에 있어서, 상기 3층막구조의 합성 반강자성체의 평면 형태는 장축 대 단축의 비가 1 |
5 |
5 제 1 항에 있어서, 상기 열적 안정성 계수 측정은 상기 3층막구조의 합성 반강자성체의 총 두께 및 상기 중간 비자성층의 두께를 고정시킨 상태에서, 상기 제 1 자성층 및 상기 제 2 자성층 중 적어도 하나의 두께를 변화시키면서 측정하는 것을 특징으로 하는 고밀도 자기메모리 셀 설계 방법 |
6 |
6 제 5 항에 있어서, 상기 열적 안정성 계수 측정은 상기 제 1 자성층의 두께(t1)가 상기 제 2 자성층의 두께(t2) 보다 크거나 같도록(t1 ≥ t2) 상기 제 1 자성층 및 상기 제 2 자성층의 두께를 변화시키는 것을 특징으로 하는 고밀도 자기메모리 셀 설계 방법 |
7 |
7 제 1 항에 있어서, 상기 HA 는 마이크로매거스(MicroMagus)를 이용한 마이크로 마그네틱 시뮬레이션을 사용하여 단축 방향 M-H 루프(loop)를 측정하여 계산하는 것을 특징으로 하는 고밀도 자기메모리 셀 설계 방법 |
8 |
8 제 1 항에 있어서, 상기 Hdem-y는 이상적인 단자구 상태의 합성 반강자성체가 안상점 배열 상태일 때의 측정값 및 표준화된(normalized) 자기소거자기장(rdem)을 곱한 값에 의해 정의되는 것을 특징으로 하는 고밀도 자기메모리 셀 설계 방법 |
9 |
9 제 1 항에 있어서, 상기 열적 안정성 계수 측정 결과를 이용하여 자기메모리 셀 구조를 나타내는 에너지 배리어(EM)를 계산하는 것을 특징으로 하는 고밀도 자기메모리 셀 설계 방법 |
10 |
10 삭제 |
지정국 정보가 없습니다 |
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패밀리정보가 없습니다 |
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순번 | 연구부처 | 주관기관 | 연구사업 | 연구과제 |
---|---|---|---|---|
1 | 한국과학재단 | 고려대학교 산학협력단 | 국가지정연구실사업(NRL) | 새로운 해석적/수치적 방법에 의한 나노 자성체의 열적안정성 예측 및 이를 통한 초고밀도 자기메모리 설계기술 개발(3) |
특허 등록번호 | 10-1094557-0000 |
---|
표시번호 | 사항 |
---|---|
1 |
출원 연월일 : 20090826 출원 번호 : 1020090079427 공고 연월일 : 20111220 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20111130 청구범위의 항수 : 9 유별 : G11C 11/15 발명의 명칭 : 열적안정성을 고려한 고밀도 자기 메모리 셀 설계 방법 존속기간(예정)만료일 : 20141209 |
순위번호 | 사항 |
---|---|
1 |
(권리자) 고려대학교 산학협력단 서울 성북구... |
2 |
(권리자) 인텔렉추얼디스커버리 주식회사 서울특별시 강남구... |
2 |
(의무자) 고려대학교 산학협력단 서울 성북구... |
제 1 - 3 년분 | 금 액 | 198,000 원 | 2011년 12월 08일 | 납입 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | [특허출원]특허출원서 | 2009.08.26 | 수리 (Accepted) | 1-1-2009-0524614-83 |
2 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2010.08.12 | 수리 (Accepted) | 4-1-2010-5149278-93 |
3 | 선행기술조사의뢰서 | 2011.01.12 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
4 | 선행기술조사보고서 | 2011.02.14 | 수리 (Accepted) | 9-1-2011-0007645-62 |
5 | 의견제출통지서 | 2011.02.16 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2011-0087418-51 |
6 | [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서 | 2011.04.18 | 수리 (Accepted) | 1-1-2011-0287414-68 |
7 | [명세서등 보정]보정서 | 2011.05.13 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2011-0355799-48 |
8 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2011.05.13 | 수리 (Accepted) | 1-1-2011-0355798-03 |
9 | 등록결정서 | 2011.11.30 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2011-0707083-25 |
10 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.02.11 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5018243-16 |
11 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.04.22 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5049934-62 |
12 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2019.10.10 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5210941-09 |
기술정보가 없습니다 |
---|
과제고유번호 | 1345161991 |
---|---|
세부과제번호 | 과C6A2001 |
연구과제명 | 첨단부품소재사업단 |
성과구분 | 등록 |
부처명 | 교육과학기술부 |
연구관리전문기관명 | 한국연구재단 |
연구주관기관명 | 고려대학교 |
성과제출연도 | 2011 |
연구기간 | 200603~201302 |
기여율 | 1 |
연구개발단계명 | 응용연구 |
6T분류명 | IT(정보기술) |
과제고유번호 | 1345096817 |
---|---|
세부과제번호 | 과C6A2001 |
연구과제명 | 첨단부품소재사업단 |
성과구분 | 출원 |
부처명 | 교육과학기술부 |
연구관리전문기관명 | 한국연구재단 |
연구주관기관명 | 고려대학교 |
성과제출연도 | 2009 |
연구기간 | 200603~201302 |
기여율 | 1 |
연구개발단계명 | 응용연구 |
6T분류명 | IT(정보기술) |
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