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금속 미세 패턴 형성 방법

  • 기술번호 : KST2015132094
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 낮은 공정 온도에서 다이렉트 임프린팅 기술을 이용하여 금속 표면에 미세 패턴을 형성하는 방법에 관한 것으로, (a)제1금속 재질의 기판 상에 제1금속-제2금속 유텍틱 합금(Eutectic Alloy)을 형성할 수 있는 제2금속을 증착하는 단계; (b)상기 기판을 제1금속-제2금속 합금의 유텍틱 온도(Eutectic Temperature)로 가열하여, 상기 제1금속-제2금속 합금의 유텍틱 조성(Eutectic Composition)을 형성하는 단계; (c)형성하고자 하는 미세 패턴에 대응하는 반대패턴이 형성된 템플릿을 이용하여 상기 제1금속-제2금속 합금의 유텍틱 온도보다 높은 온도에서 스탬핑(stamping)하는 단계; 및 (d)상기 템플릿을 분리하는 단계를 구비하는 것으로 이루어진다.
Int. CL H01L 21/027 (2006.01)
CPC G03F 7/0002(2013.01)
출원번호/일자 1020080090547 (2008.09.12)
출원인 고려대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-0972027-0000 (2010.07.16)
공개번호/일자 10-2010-0031429 (2010.03.22) 문서열기
공고번호/일자 (20100722) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2008.09.12)
심사청구항수 11

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 고려대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이헌 대한민국 서울특별시 노원구
2 홍성훈 대한민국 서울특별시 동대문구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인(유한) 대아 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로 ***, 한양빌딩*층(역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 인텔렉추얼디스커버리 주식회사 서울특별시 강남구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2008.09.12 수리 (Accepted) 1-1-2008-0649672-28
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.11.29 수리 (Accepted) 4-1-2008-5190370-99
3 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)
2009.07.18 수리 (Accepted) 1-1-2009-0437952-81
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.12.21 수리 (Accepted) 4-1-2009-5251534-89
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.12.21 수리 (Accepted) 4-1-2009-5251574-05
6 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2010.03.15 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
7 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2010.04.15 수리 (Accepted) 9-1-2010-0022678-20
8 등록결정서
Decision to grant
2010.04.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0166310-71
9 [출원인변경]권리관계변경신고서
[Change of Applicant] Report on Change of Proprietary Status
2010.07.13 수리 (Accepted) 1-1-2010-5024182-18
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2010.08.12 수리 (Accepted) 4-1-2010-5149278-93
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.02.11 수리 (Accepted) 4-1-2014-5018243-16
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.04.22 수리 (Accepted) 4-1-2014-5049934-62
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.10.10 수리 (Accepted) 4-1-2019-5210941-09
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
(a)제1금속 재질의 기판 상에 제1금속-제2금속 유텍틱 합금(Eutectic Alloy)을 형성할 수 있는 제2금속을 증착하는 단계; (b)상기 기판을 제1금속-제2금속 합금의 유텍틱 온도(Eutectic Temperature)로 가열하여, 상기 제1금속-제2금속 합금의 유텍틱 조성(Eutectic Composition)을 형성하는 단계; (c)형성하고자 하는 미세 패턴에 대응하는 반대패턴이 형성된 템플릿을 이용하여 상기 제1금속-제2금속 합금의 유텍틱 온도보다 높은 온도에서 스탬핑(stamping)하는 단계; 및 (d)상기 템플릿을 분리하는 단계를 구비하는 것을 특징으로 하는 금속 미세 패턴 형성 방법
2 2
(a)기판 상에 제1금속-제2금속 유텍틱 합금을 형성할 수 있는 제1금속 및 제2금속을 순차적으로 증착하는 단계; (b)상기 기판을 제1금속-제2금속 합금의 유텍틱 온도로 가열하여, 상기 제1금속-제2금속 합금의 유텍틱 조성을 형성하는 단계; (c)형성하고자 하는 미세 패턴에 대응하는 반대패턴이 형성된 템플릿을 이용하여 상기 제1금속-제2금속 합금의 유텍틱 온도보다 높은 온도에서 스탬핑하는 단계; 및 (d)상기 템플릿을 분리하는 단계를 구비하는 것을 특징으로 하는 금속 미세 패턴 형성 방법
3 3
(a)기판 상에 제1금속-제2금속 유텍틱 합금을 형성할 수 있는 제1금속 파우더 및 제2금속 파우더를 도포하는 단계; (b)상기 기판을 제1금속-제2금속 합금의 유텍틱 온도로 가열하여, 상기 제1금속-제2금속 합금의 유텍틱 조성을 형성하는 단계; (c)형성하고자 하는 미세 패턴에 대응하는 반대패턴이 형성된 템플릿을 이용하여 상기 제1금속-제2금속 합금의 유텍틱 온도보다 높은 온도에서 스탬핑하는 단계; 및 (d)상기 템플릿을 분리하는 단계를 구비하는 것을 특징으로 하는 금속 미세 패턴 형성 방법
4 4
제1항 내지 제3항 중 어느 하나의 항에 있어서, 상기 제1금속-제2금속 합금은 Al-Zn, Al-Ag, Al-Cu, Al-Ge, Al-Mg, Al-Si, Cu-Ag, Al-Be, Sn-Ag, Sn-Pb 및 Pt-Ag 합금 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 금속 미세 패턴 형성 방법
5 5
제1항 내지 제3항 중 어느 하나의 항에 있어서, 상기 (b)단계는 상기 제1금속-제2금속 합금의 유텍틱 온도보다 30℃ ~ 150℃ 높은 온도에서 이루어지는 것을 특징으로 하는 금속 미세 패턴 형성 방법
6 6
제1항 내지 제3항 중 어느 하나의 항에 있어서, 상기 템플릿은 SiC, SiO2, Si3N4, Al2O3, MgO, Si 및 Ni 중 어느 하나의 재질로 된 것을 특징으로 하는 금속 미세 패턴 형성 방법
7 7
제1항 내지 제3항 중 어느 하나의 항에 있어서, 상기 템플릿은 이형물질로 코팅되어 있는 것을 특징으로 하는 금속 미세 패턴 형성 방법
8 8
제7항에 있어서, 상기 이형물질은 그라파이트(Graphite)인 것을 특징으로 하는 금속 미세 패턴 형성 방법
9 9
(a)제1금속 재질의 기판 상에 제1금속과 3원계 유텍틱 합금(Ternary Eutectic Alloy)을 형성할 수 있는 2종의 금속들을 순차적으로 증착하는 단계; (b)상기 기판을 상기 제1금속과 상기 2종의 금속들을 성분으로 하는 3원계 합금의 유텍틱 온도로 가열하여, 상기 3원계 합금의 유텍틱 조성을 형성하는 단계; (c)형성하고자 하는 미세 패턴에 대응하는 반대패턴이 형성된 템플릿을 이용하여 상기 3원계 합금의 유텍틱 온도보다 높은 온도에서 스탬핑하는 단계; 및 (d)상기 템플릿을 분리하는 단계를 구비하는 것을 특징으로 하는 금속 미세 패턴 형성 방법
10 10
(a)기판 상에 3원계 유텍틱 합금을 형성할 수 있는 3종의 금속들을 순차적으로 증착하는 단계; (b)상기 기판을 상기 3종의 금속들을 성분으로 하는 3원계 합금의 유텍틱 온도로 가열하여, 상기 3원계 합금의 유텍틱 조성을 형성하는 단계; (c)형성하고자 하는 미세 패턴에 대응하는 반대패턴이 형성된 템플릿을 이용하여 상기 3원계 합금의 유텍틱 온도보다 높은 온도에서 스탬핑하는 단계; 및 (d)상기 템플릿을 분리하는 단계를 구비하는 것을 특징으로 하는 금속 미세 패턴 형성 방법
11 11
(a)기판 상에 3원계 합금을 형성할 수 있는 3종의 금속들의 파우더를 도포하는 단계; (b)상기 기판을 상기 3종의 금속들을 성분으로 하는 3원계 합금의 유텍틱 온도로 가열하여, 상기 3원계 합금의 유텍틱 조성을 형성하는 단계; (c)형성하고자 하는 미세 패턴에 대응하는 반대패턴이 형성된 템플릿을 이용하여 상기 3원계 합금의 유텍틱 온도보다 높은 온도에서 스탬핑하는 단계; 및 (d)상기 템플릿을 분리하는 단계를 구비하는 것을 특징으로 하는 금속 미세 패턴 형성 방법
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패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.