맞춤기술찾기

이전대상기술

자가조립 단층막의 패턴형성을 이용한 직접 패터닝 방법

  • 기술번호 : KST2015132431
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 자가조립 단층막(SAM, Self Assembled Monolayer)의 패턴형성을 이용한 직접 패터닝 방법을 제공하기 위한 것으로, 기판에 SAM 레이어로 패턴을 형성하는 제 1 단계와; 상기 제 1 단계 후 상기 SAM 레이어로 형성된 패턴에 코팅을 수행하는 제 2 단계;를 포함하여 구성함으로서, 자가조립방법의 패턴을 이용하여 손쉽게 대면적의 영역에서 바텀-업 패터닝이 가능하게 되는 것이다. 자가조립 단층막, SAM, 패턴형성, 직접 패터닝, 소수성, 친수성
Int. CL B82Y 40/00 (2011.01) H01L 21/027 (2011.01)
CPC G03F 7/2018(2013.01) G03F 7/2018(2013.01) G03F 7/2018(2013.01) G03F 7/2018(2013.01)
출원번호/일자 1020080113369 (2008.11.14)
출원인 고려대학교 산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2010-0054436 (2010.05.25) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2008.11.14)
심사청구항수 5

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 고려대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 주병권 대한민국 서울특별시 종로구
2 윤호규 대한민국 서울특별시 서초구
3 허진우 대한민국 경기도 수원시 영통구
4 권대홍 대한민국 서울특별시 성북구
5 정진욱 대한민국 서울특별시 성북구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 김희곤 대한민국 대전시 유성구 문지로 ***-*(문지동) *동(웰쳐국제특허법률사무소)
2 김인한 대한민국 서울특별시 서초구 사임당로 **, **층 (서초동, 신영빌딩)(특허법인세원)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
최종권리자 정보가 없습니다
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2008.11.14 수리 (Accepted) 1-1-2008-0788087-00
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.06.09 수리 (Accepted) 4-1-2009-5111177-32
3 [대리인사임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Resignation of Agent] Report on Agent (Representative)
2009.12.10 수리 (Accepted) 1-1-2009-0764769-13
4 [대리인사임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Resignation of Agent] Report on Agent (Representative)
2009.12.10 수리 (Accepted) 1-1-2009-0764767-11
5 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)
2009.12.10 수리 (Accepted) 1-1-2009-0764774-31
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2010.08.12 수리 (Accepted) 4-1-2010-5149278-93
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2010.09.08 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0398659-18
8 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2010.11.08 수리 (Accepted) 1-1-2010-0725639-41
9 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2010.12.08 수리 (Accepted) 1-1-2010-0807634-14
10 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2010.12.29 수리 (Accepted) 1-1-2010-0872342-01
11 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2010.12.29 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2010-0872328-61
12 최후의견제출통지서
Notification of reason for final refusal
2011.07.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0425800-29
13 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2011.09.29 수리 (Accepted) 1-1-2011-0761901-88
14 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2011.10.31 수리 (Accepted) 1-1-2011-0855871-22
15 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2011.12.13 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0737056-40
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.02.11 수리 (Accepted) 4-1-2014-5018243-16
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.04.22 수리 (Accepted) 4-1-2014-5049934-62
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.10.10 수리 (Accepted) 4-1-2019-5210941-09
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
기판에 SAM 레이어로 패턴을 형성하는 제 1 단계와; 상기 제 1 단계 후 상기 SAM 레이어로 형성된 패턴에 코팅을 수행하는 제 2 단계; 를 포함하여 수행하는 것을 특징으로 하는 자가조립 단층막의 패턴형성을 이용한 직접 패터닝 방법
2 2
청구항 1에 있어서, 상기 제 1 단계에서 상기 SAM 레이어는, 상기 기판에 대해 패턴할 재료와의 표면특성(친수성, 소수성)이 상반된 특성을 가짐으로써 서로에 대해 선택성을 갖도록 한 것을 특징으로 하는 자가조립 단층막의 패턴형성을 이용한 직접 패터닝 방법
3 3
청구항 1에 있어서, 상기 제 1 단계에서 패턴을 형성하는 재료는, 소수성을 가지는 -CH3, CF3, -C6H5 중에서 하나 이상의 기능기 또는 친수성을 가지는 -COOH, -SO3, -OH, -SH, -NH2 중에서 하나 이상의 기능기를 포함하는 것을 특징으로 하는 자가조립 단층막의 패턴형성을 이용한 직접 패터닝 방법
4 4
청구항 1에 있어서, 상기 제 1 단계에서 상기 기판은, 기판 표면이 Au, Ag, Pd, Pt, Cu, Ni, ITO, SiO2 중에서 하나 이상으로 구성되거나 또는 Silicon 기판, glass 기판, 플라스틱 기판 중에서 하나 이상의 기판으로 구성된 것을 특징으로 하는 자가조립 단층막의 패턴형성을 이용한 직접 패터닝 방법
5 5
청구항 1에 있어서, 상기 제 1 단계에서 상기 SAM 레이어의 패턴은, 잉크젯 프린팅을 포함한 직접 프린팅에 의해 패턴을 형성하거나, 나노임프린팅 또는 UV mask로 노광하여 패턴을 형성하거나, 또는 포토리소그래피에 의해 패턴을 형성하는 것을 특징으로 하는 자가조립 단층막의 패턴형성을 이용한 직접 패터닝 방법
6 6
청구항 1 내지 청구항 5 중 어느 하나의 항에 있어서, 상기 제 2 단계에서 상기 코팅은, 딥 코팅, 스핀 코팅, 캐스팅 또는 스프레잉 중에서 하나 이상을 사용하여 코딩을 수행하는 것을 특징으로 하는 자가조립 단층막의 패턴형성을 이용한 직접 패터닝 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 한국과학재단 한국과학재단 국가지정연구실사업(NRL) [NRL-2차년도] 하이브리드 나노임프린트 포토 마스크 및 소프트 리소그래피 기술을 이용한 나노전자소자 개발