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(a) 지지기판과, 필름 형성시 상기 지지기판과 표면 에너지 차이가 150 mJ/m2 이상인 고분자 용액을 준비하는 단계;(b) 상기 지지기판 위에 고분자 용액을 스핀 코팅하고 경화하여 유연한 기판용 고분자 필름을 형성하는 단계;(c) 상기 고분자 필름 위 일부에 소자를 형성하는 단계;(d) 상기 고분자 필름 위에 형성된 소자 영역을 제외한 부분에 테이프를 부착하는 단계; 및 (e) 테이프의 접착력을 이용하여 상기 고분자 필름을 지지기판으로부터 분리하는 단계를 포함하며,상기 지지기판은 실리콘 옥사이드로 덮여진 기판이고,상기 고분자 용액은 폴리비닐리덴 플루오라이드, 폴리비닐 플루오라이드, 폴리아믹산, 폴리스티렌, 폴리메틸 아크릴레이트, 폴리메틸 메타크릴레이트, 폴리카보네이트, 폴리비닐 피롤리돈 및 폴리크실릴렌으로 이루어진 군으로부터 선택된 1종을 포함하는 것을 특징으로 하는 플렉서블 소자의 제조방법
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청구항 1에 있어서, 상기 고분자 용액은 (b)단계의 스핀 코팅과 경화 후 두께 500 nm 이하의 필름을 형성하는 것을 특징으로 하는 플렉서블 소자의 제조방법
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청구항 1에 있어서, 상기 고분자 용액은 폴리아믹산을 포함하는 것을 특징으로 하는 플렉서블 소자의 제조방법
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청구항 1에 있어서, 상기 (b)단계에서 형성된 고분자 필름은 30 내지 50 mJ/m2 의 표면에너지를 갖는 것을 특징으로 하는 플렉서블 소자의 제조방법
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청구항 1에 있어서, 상기 (c)단계에서 고분자 필름 위에 형성되는 소자는 나노선 전계효과 소자인 것을 특징으로 하는 플렉서블 소자의 제조방법
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청구항 1에 있어서, 상기 (d)단계에서 소자가 노출된 경우 테이프는 소자 영역을 제외한 고분자 필름의 외곽부분만 덮는 것을 특징으로 하는 플렉서블 소자의 제조방법
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청구항 1에 있어서, 상기 (d)단계에서 소자가 노출되지 않은 경우 테이프로 고분자 필름 전체를 덮거나 그물형 테이프로 고분자 필름을 덮어 고분자 필름에 크랙이 생기거나 늘어나지 않도록 하는 것을 특징으로 하는 플렉서블 소자의 제조방법
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청구항 1에 있어서, 상기 (e)단계에서 부착된 테이프의 네 모서리 중 일부 또는 전체를 잡아당겨 고분자 필름을 지지기판으로부터 분리하는 것을 특징으로 하는 플렉서블 소자의 제조방법
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청구항 1에 있어서, 상기 지지기판으로부터 분리된 고분자 필름을 유연한 다른 기판에 전이하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 플렉서블 소자의 제조방법
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청구항 1에 있어서, 상기 고분자 필름에 부착되어 있는 테이프를 오려내어 제거하거나, 테이프 또는 테이프의 접착제를 제거하는 유기용매를 사용함으로써 제거하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 플렉서블 소자의 제조방법
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청구항 1 및 청구항 4 내지 청구항 12 중 어느 한 항의 방법에 따라 제조한 플렉서블 소자
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청구항 13의 플렉서블 소자를 적용하여 제조한 플렉서블 디스플레이
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