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서로 다른 굴절률을 가지는 두 매질 사이에 형성되어 상기 두 매질 사이의 전자기파의 반사를 방지하기 위한 무반사막으로서,상기 무반사막은 아래의 수학식에 따른 유전율, 및 투자율 공간분포 특성을 가지며, , ,상기 전자기파의 파동 어드미턴스는 아래의 수학식에 따른 공간분포특성을 가지고,,상기 전자기파의 전기장의 진폭은 아래의 수학식에 따른 공간분포특성을 가지고, , 여기서, 상기 두 매질은 상기 무반사막에 의해 x 방향으로 서로 이격되고, ε(x)는 상기 무반사막내의 유전률 공간분포함수이고, μ(x)는 상기 무반사막내의 투자율 공간분포함수이고, P(x)는 상기 전자기파의 전기장의 진폭이고, ω는 상기 전자기파의 각주파수이고, Y(x)와 Z(x)는 각각 상기 무반사막내의 파동 어드미턴스와 파동 임피던스의 공간분포함수이고, Sx는 포인팅(Poynting) 벡터의 x 방향의 시간 평균인 것을 특징으로 하는 무반사막
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제 1항에 있어서,상기 전자기파의 전기장 및 자기장의 위상은 아래의 수학식에 따른 공간분포특성을 가지고,, 상기 전자기파의 자기장의 진폭은 아래의 수학식에 따른 공간분포특성을 가지며,, Q(x)는 상기 전자기파의 위상이고, R(x)는 상기 전자기파의 자기장의 진폭인 것을 특징으로 하는 무반사막
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제 1항에 있어서,상기 무반사막의 유전율은, 상기 무반사막의 투자율이 공간에 대하여 균일한 경우, 아래의 수학식에 따른 공간분포 특성을 가지고,,μ는 공간에 대하여 상수인 투자율인 것을 특징으로 하는 무반사막
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제 3항에 있어서,상기 P(x)는 아래의 수학식에 의한 공간분포 특성을 가지며,여기서, μ0는 진공에서의 투자율이고, c는 진공에서의 광속도이고, n1 및 n2는 각각 상기 무반사막에 의해 이격되는 제 1 매질 및 제 2 매질의 굴절률, d는 상기 무반사막의 두께인 것을 특징으로 하는 무반사막
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제 4항에 있어서,상기 무반사막은 분산 매질인 것을 특징으로 하는 무반사막
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제 5항에 있어서,상기 무반사막은 정상 분산 매질 영역과 음의 유전율을 가지는 이상 분산 매질 영역을 포함하는 것을 특징으로 하는 무반사막
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서로 다른 굴절률을 가지는 두 매질 사이에 형성되어 상기 두 매질 사이의 전자기파의 반사를 방지하기 위한 무반사막 형성 방법으로서,상기 무반사막은 아래의 수학식에 따른 유전율, 및 투자율 공간분포 특성을 가지며, , ,상기 전자기파의 파동 어드미턴스는 아래의 수학식에 따른 공간분포특성을 가지고,,상기 전자기파의 전기장의 진폭은 아래의 수학식에 따른 공간분포특성을 가지고, , 여기서, 상기 두 매질은 상기 무반사막에 의해 x 방향으로 서로 이격되고, ε(x)는 상기 무반사막내의 유전률 공간분포함수이고, μ(x)는 상기 무반사막내의 투자율 공간분포함수이고, P(x)는 상기 전자기파의 전기장의 진폭이고, ω는 상기 전자기파의 각주파수이고, Y(x)와 Z(x)는 각각 상기 무반사막내의 파동 어더미턴스와 파동 임피던스의 공간분포함수이고, Sx는 포인팅(Poynting) 벡터의 x 방향의 시간 평균인 것을 특징으로 하는 무반사막 형성 방법
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제 7항에 있어서,상기 전자기파의 전기장 및 자기장의 위상은 아래의 수학식에 따른 공간분포특성을 가지고,, 상기 전자기파의 자기장의 진폭은 아래의 수학식에 따른 공간분포특성을 가지며,, Q(x)는 상기 전자기파의 위상이고, R(x)는 상기 전자기파의 자기장의 진폭인 것을 특징으로 하는 무반사막 형성 방법
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제 7항에 있어서,상기 무반사막의 유전율은, 상기 무반사막의 투자율이 공간에 대하여 균일한 경우, 아래의 수학식에 따른 공간분포 특성을 가지고,,μ는 공간에 대하여 상수인 투자율인 것을 특징으로 하는 무반사막 형성 방법
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제 9항에 있어서,상기 P(x)는 아래의 수학식에 의한 공간분포 특성을 가지며,여기서, μ0는 진공에서의 투자율이고, c는 진공에서의 광속도이고, n1 및 n2는 각각 상기 무반사막에 의해 이격되는 제 1 매질 및 제 2 매질의 굴절률, d는 상기 무반사막의 두께인 것을 특징으로 하는 무반사막 형성 방법
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제 10항에 있어서,상기 무반사막은 분산 매질인 것을 특징으로 하는 무반사막 형성 방법
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제 11항에 있어서,상기 무반사막은 정상 분산 매질 영역과 음의 유전율을 가지는 이상 분산 매질 영역을 포함하는 것을 특징으로 하는 무반사막 형성 방법
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