| 1 |
1
투명 기판; 및 상기 투명 기판의 상면에 형성된 복수의 탄소나노튜브와 복수의 나노와이어의 네트워크를 포함하고,상기 네트워크의 상기 나노와이어 상호간 접합부분이 형성되며, 상기 접합부분은 플라즈모닉 용접(plasmonic welding)에 의해 물리적으로 융착된 것을 특징으로 하는 하이브리드 나노소재의 투명 전도성 필름
|
| 2 |
2
제1항에 있어서,상기 탄소나노튜브는 상기 나노와이어의 1 내지 25 중량%로 함유되는 것인 하이브리드 나노소재의 투명 전도성 필름
|
| 3 |
3
제1항에 있어서,상기 탄소나노튜브는 다중벽 탄소나노튜브, 단일벽 탄소나노튜브 및 탄소 화이버로 이루어진 군에서 선택되는 하나 또는 그 이상인 것인 하이브리드 나노소재의 투명 전도성 필름
|
| 4 |
4
제1항에 있어서,상기 나노와이어는 Ag, Ni, Cu 및 Au로 이루어진 군에서 선택되는 하나 또는 그 이상의 금속을 포함하는 것인 하이브리드 나노소재의 투명 전도성 필름
|
| 5 |
5
제4항에 있어서,상기 나노와이어는 상기 금속 이외에 반도체 또는 폴리머를 추가로 포함하는 것인 하이브리드 나노소재의 투명 전도성 필름
|
| 6 |
6
제5항에 있어서,상기 반도체는 Si, InP, GaN 및 ZnO 이루어진 군에서 선택되는 하나 또는 그 이상인 것인 하이브리드 나노소재의 투명 전도성 필름
|
| 7 |
7
제5항에 있어서,상기 폴리머는 폴리아세틸렌(Polyacetylene), 폴리아닐린(Polyaniline), 폴리피롤(Polypyrrole), 폴리티오펜(polythiophene) 및 폴리설퍼니트리드(poly sulfur nitride)로 이루어진 군에서 선택되는 하나 또는 그 이상인 것인 하이브리드 나노소재의 투명 전도성 필름
|
| 8 |
8
제1항에 있어서,상기 네트워크는 상기 복수의 나노와이어와 상기 복수의 탄소나노튜브가 서로 섞여있는 구조인 것인 하이브리드 나노소재의 투명 전도성 필름
|
| 9 |
9
제1항에 있어서,상기 네트워크는 상기 복수의 나노와이어와 상기 복수의 탄소나노튜브가 교차적으로 층층이 겹쳐진(layer-by-layer) 구조인 것인 하이브리드 나노소재의 투명 전도성 필름
|
| 10 |
10
제1항에 있어서,상기 투명 전도성 필름은 고분자, 그래핀, 환원된 그래핀 산화물(reduced graphene oxide), 그래핀 산화물 및 금속 입자로 이루어진 군에서 선택되는 하나 또는 그 이상을 추가로 포함하는 것인 하이브리드 나노소재의 투명 전도성 필름
|
| 11 |
11
제1항에 있어서,상기 투명 전도성 필름은 투과도가 95 %이상이고, 표면저항이 100 Ω/sq 이하인 것을 특징으로 하는 하이브리드 나노소재의 투명 전도성 필름
|
| 12 |
12
(i) 투명 기판 위에 나노와이어를 도포하는 단계;(ii) 탄소나노튜브를 도포하는 단계; 및(ⅲ) 상기 투명 기판 상에 도포된 나노와이어를 플라즈모닉 용접(plasmonic welding)으로 융착시키는 단계;를 포함하는 하이브리드 나노소재의 투명 전도성 필름의 제조 방법
|
| 13 |
13
제12항에 있어서,상기 (i) 및 (ii) 단계는 동시 또는 순차적으로 진행될 수 있는 것을 특징으로 하는 하이브리드 나노소재의 투명 전도성 필름의 제조 방법
|
| 14 |
14
(i) 나노와이어와 탄소나노튜브를 혼합하는 단계;(ii) 상기 혼합물을 투명 기판 상에 도포하는 단계; 및(ⅲ) 상기 투명 기판 상에 도포된 혼합물을 플라즈모닉 용접(plasmonic welding)으로 융착시키는 단계;를 포함하는 하이브리드 나노소재의 투명 전도성 필름의 제조 방법
|
| 15 |
15
제12항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서,상기 (ⅲ) 단계에서 상기 플라즈모닉 용접(plasmonic welding)은 상온에서 2 내지 5 분 동안 수행되는 것을 특징으로 하는 하이브리드 나노소재의 투명 전도성 필름의 제조방법
|
