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블록 공중합체 및 이를 이용한 패턴 형성 방법

  • 기술번호 : KST2015134449
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명의 한 실시예에 따른 패턴 형성 방법은 케텐 계열 랜덤 공중합체(ketene based random copolymer)와 블록 공중합체를 이용한다.
Int. CL G02F 1/1335 (2006.01) G03F 7/004 (2006.01) H01L 21/027 (2006.01)
CPC B81C 1/00031(2013.01) B81C 1/00031(2013.01) B81C 1/00031(2013.01) B81C 1/00031(2013.01) B81C 1/00031(2013.01) B81C 1/00031(2013.01) B81C 1/00031(2013.01) B81C 1/00031(2013.01) B81C 1/00031(2013.01) B81C 1/00031(2013.01)
출원번호/일자 1020100095176 (2010.09.30)
출원인 삼성디스플레이 주식회사, 고려대학교 산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2012-0033583 (2012.04.09) 문서열기
공고번호/일자 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2015.09.09)
심사청구항수 15

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 삼성디스플레이 주식회사 대한민국 경기 용인시 기흥구
2 고려대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이수미 대한민국 경기도 화성시 메타폴리스로 *, **
2 강민혁 대한민국 서울특별시 영등포구
3 곽은애 대한민국 경기도 군포시 용호*로**번길 **, *
4 문봉진 대한민국 경기도 고양시 일산동구
5 방준하 대한민국 서울특별시 서초구
6 이문규 대한민국 경기도 수원시 영통구
7 정현중 대한민국 서울특별시 성북구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 팬코리아특허법인 대한민국 서울특별시 강남구 논현로**길 **, 역삼***빌딩 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 삼성디스플레이 주식회사 경기 용인시 기흥구
2 고려대학교 산학협력단 서울특별시 성북구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2010.09.30 수리 (Accepted) 1-1-2010-0632200-64
2 보정요구서
Request for Amendment		 2010.10.05 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2010-0088371-84
3 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment		 2010.11.01 수리 (Accepted) 1-1-2010-0709980-20
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2012.06.21 수리 (Accepted) 4-1-2012-5132663-40
5 [출원인변경]권리관계변경신고서
[Change of Applicant] Report on Change of Proprietary Status		 2012.09.13 수리 (Accepted) 1-1-2012-0742715-36
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.02.11 수리 (Accepted) 4-1-2014-5018243-16
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.04.22 수리 (Accepted) 4-1-2014-5049934-62
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.08.05 수리 (Accepted) 4-1-2015-5104722-59
9 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)		 2015.09.09 수리 (Accepted) 1-1-2015-0875941-37
10 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2015.09.09 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2015-0875940-92
11 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment		 2015.09.09 수리 (Accepted) 1-1-2015-0875942-83
12 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2017.01.16 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0038206-69
13 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2017.03.16 수리 (Accepted) 1-1-2017-0262304-32
14 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2017.03.16 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2017-0262305-88
15 등록결정서
Decision to grant		 2017.06.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0442024-77
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.01.24 수리 (Accepted) 4-1-2019-5016605-77
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.10.10 수리 (Accepted) 4-1-2019-5210941-09
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
기판 위에 케텐 계열 랜덤 공중합체를 도포하는 단계, 상기 케텐 계열 랜덤 공중합체에 대하여 자외선 처리 또는 열처리를 수행하는 단계,상기 케텐 계열 랜덤 공중합체 위에 블록 공중합체를 도포하는 단계,상기 블록 공중합체에 대하여 자외선 처리 또는 열처리를 수행하는 단계, 그리고상기 블록 공중합체의 일부를 식각하는 단계, 를 포함하는 패턴 형성 방법
2 2
삭제
3 3
제1항에서,상기 기판과 상기 케텐 계열 랜덤 공중합체 사이에 금속층을 형성하는 단계, 그리고 상기 블록 공중합체를 이용하여 상기 금속층을 식각하는 단계를 더 포함하는 패턴 형성 방법
4 4
제3항에서, 상기 금속층은 선격자 형태로 패터닝되는 패턴 형성 방법
5 5
제3항에서, 상기 금속층은 반사성 금속을 포함하는 패턴 형성 방법
6 6
제5항에서, 상기 금속층은 알루미늄을 포함하는 패턴 형성 방법
7 7
제1항에서,상기 케텐 계열 랜덤 공중합체는 하기 화학식 2로 표시되는 화합물인 패턴 형성 방법:[화학식 2]여기서, R은 치환 또는 비치환된 C1-C20의 알킬기, 또는 치환 또는 비치환된 C6-C20의 아릴기이고, m은 50-500이며, n은 50-500이며, k는 1-40이다
8 8
제7항에서,상기 케텐 계열 랜덤 공중합체의 수평균분자량은 10-100 kg/mol이며, PDI(polydispersity index)는 1
9 9
제1항에서,상기 케텐 계열 랜덤 공중합체는 하기 반응식 3에 기초하여 합성되는 패턴 형성 방법:[반응식 3]여기서 R은 치환 또는 비치환된 C1-C20의 알킬기,또는 치환 또는 비치환된 C6-C20의 아릴기이고, AIBN은 2,2'-Azobis(2-methylpropionitrile)이고, m은 50-500이며, n은 50-500이며, k는 1-40이다
10 10
제1항에서,상기 케텐 계열 랜덤 공중합체는 섭씨 200-300 도에서 10 초 내지 1 시간 동안 가교 결합이 형성되는 패턴 형성 방법
11 11
제1항에서, 상기 블록 공중합체는 수직 라멜라 상을 갖는 패턴 형성 방법
12 12
제11항에서, 상기 블록 공중합체는 PS-b-PMMA(polystyrene-block-polymethylmethacrylate), PS-b-PEO(polystyrene-block-polyethyleneoxide), PS-b-PVP(polystyrene-block-poly-2-vinylpyridine), PS-b-PDMS(polystyrene-block-polydimethylsiloxane), PS-b-PFS(polystyrene-block-polyferrocenyldimethylsilane), 또는 PS-b-PI(polystyrene-block-polyisoprene)인 패턴 형성 방법
13 13
제11항에서,상기 블록 공중합체의 일부를 건식각(dry etch) 또는 습식각(wet etch)하는 패턴 형성 방법
14 14
하기 화학식 2로 표시되는 케텐 계열 랜덤 공중합체:[화학식 2]여기서, R은 치환 또는 비치환된 C1-C20의 알킬기, 또는 치환 또는 비치환된 C6-C20의 아릴기이고, m은 50-500이며, n은 50-500이며, k는 1-40이다
15 15
제14항에서,상기 케텐 계열 랜덤 공중합체의 수평균분자량은 10-100 kg/mol이며, PDI(polydispersity index)는 1
16 16
제1항의 패턴 형성 방법을 이용하여 형성되어 있는 선격자 형태의 금속층을 포함하는 액정 표시 장치 용 편광판
지정국 정보가 없습니다
순번, 패밀리번호, 국가코드, 국가명, 종류의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 패밀리정보 - 패밀리정보 표입니다.
순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US08795539 US 미국 FAMILY
2 US20120080404 US 미국 FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

순번, 패밀리번호, 국가코드, 국가명, 종류의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 패밀리정보 - DOCDB 패밀리 정보 표입니다.
순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US2012080404 US 미국 DOCDBFAMILY
2 US8795539 US 미국 DOCDBFAMILY
국가 R&D 정보가 없습니다.