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기재 상에 제1 폴리머와 제2 폴리머 및 용매를 포함하는 단일 상의 조성물을 도포 및 건조하여 제1 폴리머 상 및 제2 폴리머 상으로 상분리된 코팅층을 형성하는 단계;상기 상분리된 코팅층에서 제2 폴리머 상을 제거하여 나노 패턴층을 형성하는 단계; 및상기 나노 패턴층 상에 평탄화층을 형성하는 단계를 포함하는 광추출 향상층의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 조성물을 기재에 도포 방법은 막대코팅, 블레이드 코팅, 스핀코팅 또는 딥(dip) 코팅으로 수행되는 것을 특징으로 하는 광추출 향상층 제조방법
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제1항에 있어서,상기 제1 폴리머 및 제2 폴리머는 각각 독립적으로, UV 경화 수지 또는 열경화 수지인 것을 특징으로 하는 광추출 향상층의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 제1 폴리머는 폴리메틸메타크리레이트를 포함하고,상기 제2 폴리머는 폴리스티렌, 폴리카보네이트 및 폴리비닐클로라이드로 이루어진 군에서 선택된 1종을 포함하는 것을 특징으로 하는 광추출 향상층의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 조성물은 상기 제1 폴리머 용액 및 제2 폴리머 용액을 30:70 내지 90:10의 부피비로 혼합하여 생성되는 광추출 향상층의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 제1 폴리머 및 제2 폴리머의 중량 평균 분자량은 서로 독립적으로 2,000 내지 30,000인 광추출 향상층의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 용매는 테트라하이드로푸란, 메틸에틸케톤, 클로로포름, 디클로에탄,메틸렌클로라이드 및 톨루엔으로 이루어진 군에서 선택된 1종인 광추출 향상층의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 나노 패턴층이 원기둥의 포어 형상, 원기둥의 필러 및 섬 형상 중 어느 하나로 형성되는 광추출 향상층의 제조방법
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제8항에 있어서,상기 나노 패턴층에 형성되는 원기둥의 포어 형상 또는 원기둥의 필러 또는 섬 형상의 높이가 300nm 내지 500nm이고, 직경이 30nm 내지 1,000nm인 광추출 향상층의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 나노 패턴층을 형성하는 단계 후, 상기 나노 패턴층을 경화하는 단계를 더 포함하는 광추출 향상층의 제조방법
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제10항에 있어서,상기 경화하는 단계는 UV 경화 또는 열 경화를 통해 이루어지는 것을 특징으로 하는 광추출 향상층의 제조방법
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기재;상기 기재 상에 적층형성된 나노 패턴층 및 평탄화층을 포함하는 광추출 향상층;상기 광추출 향상층 상에 적층 형성되는 제1 전극;상기 제1 전극 상에 적층 형성되는 제2 전극; 및상기 제1 전극과 제2 전극 사이에 개재되는 1층 이상의 유기물층을 포함하는 유기 발광 소자
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제12항에 기재된 유기 발광 소자를 포함하는 조명
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제12항에 기재된 유기 발광 소자를 포함하는 디스플레이 장치
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