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안테나에 있어서,캐비티(cavity);상기 캐비티 내에 형성되는 슬롯(slot); 상기 슬롯 및 상기 캐비티의 적어도 일부를 덮는 기판; 및상기 슬롯에 수직 방향으로 연결되며 서로 떨어져 배치되는 제1 급전 라인 및 제2 급전 라인을 통해, 상기 안테나에 전력을 공급하는 제1 포트(port) 및 제2 포트를 포함하고, 상기 제1 포트에서 바라본 상기 안테나의 제1 입력 임피던스와 상기 제2 포트에서 바라본 상기 안테나의 제2 입력 임피던스는 서로 상이하며, 상기 제1 입력 임피던스는상기 슬롯의 중심으로부터 상기 슬롯과 상기 제1 급전 라인이 만나는 제1 급전점(feeding point)까지의 피딩 오프셋(feeding offset)에 따라 변화하는,안테나
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제1항에 있어서, 상기 제2 입력 임피던스는상기 슬롯의 중심으로부터 상기 슬롯과 상기 제2 급전 라인이 만나는 제2 급전점까지의 피딩 오프셋(feeding offset)에 따라 변화되는 안테나
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제1항에 있어서, 상기 제1 급전 라인에 위치하며, 상기 제1 급전 라인을 통해 공급되는 전력을 상기 슬롯으로 스위칭하는 제1 스위치를 더 포함하고, 상기 안테나의 공진 주파수는 상기 제1 급전 라인에서의 상기 제1 스위치의 위치에 기초하여 조절되는 안테나
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제1항에 있어서,상기 제2 급전 라인에 위치하며, 상기 제2 급전 라인을 통해 공급되는 전력을 상기 슬롯으로 스위칭하는 제2 스위치를 더 포함하고, 상기 안테나의 공진 주파수는 상기 제2 급전 라인에서의 상기 제2 스위치의 위치에 기초하여 조절되는 안테나
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안테나에 있어서,평면형의 그라운드부;상기 그라운드부에 형성되는 제1 급전 라인 및 제2 급전 라인 -상기 제2 급전 라인의 적어도 일부는 상기 제1 급전 라인과 평행하고, 상기 제2 급전 라인의 나머지 일부는 상기 제1 급전 라인에 수직 방향으로 배치됨- 을 통해, 상기 안테나에 전력을 공급하는 제1 포트 및 제2 포트; 및상기 그라운드부와 이격되어 상기 그라운드부의 적어도 일부를 덮으며, 외곽선을 따라 방사부- 상기 방사부는 상기 공급된 전력에 의해 생성된 에너지를 외부로 방사(radiation)함- 가 형성된 패치부를 포함하고, 상기 제1 포트에서 바라본 상기 안테나의 제1 입력 임피던스와 상기 제2 포트에서 바라본 상기 안테나의 제2 입력 임피던스는 서로 상이하고, 상기 제1 입력 임피던스는 상기 그라운드부에서의 상기 제1 포트의 위치에 대응하는 상기 제1 급전 라인의 종단부 위치에 기초하여 조절되는, 안테나
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제6항에 있어서,상기 그라운드부와 상기 패치부의 사이에는 유전체층이 배치되고,상기 방사부는상기 패치부의 외곽선의 안쪽 방향으로 함몰되어 형성되는 안테나
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제6항에 있어서, 상기 제2 입력 임피던스는상기 그라운드부에서의 상기 제2 포트의 위치에 대응하는 상기 제2 급전 라인의 종단부 위치에 기초하여 조절되는 안테나
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제6항에 있어서, 상기 안테나의 공진 주파수는 상기 제1 급전 라인 또는 상기 제2 급전 라인이 상기 그라운드부에 만입되는 깊이에 기초하여 조절되는 안테나
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