| 1 |
1
하기 화학식 1로 표시되는 폴리옥시에틸렌계 고분자를 포함하는 극소수성막 형성용 조성물:[화학식 1] (상기 화학식 1에서, n은 7 내지 15의 정수이고; 수평균 분자량은 5,000 내지 500,000이고; 및분산도는 1
|
| 2 |
2
제1항에 있어서, 상기 화학식 1의 n은 8 내지 12의 정수인 것을 특징으로 하는 극소수성막 형성용 조성물
|
| 3 |
3
제1항에 있어서, 상기 화학식 1로 표시되는 폴리옥시에틸렌계 고분자는 폴리[옥시(옥틸티오에테르메틸)에틸렌], 폴리[옥시(노닐티오에테르메틸)에틸렌] 및 폴리[옥시(데실티오에테르메틸)에틸렌]으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 극소수성막 형성용 조성물
|
| 4 |
4
하기 화학식 1로 표시되는 폴리옥시에틸렌계 고분자 10 내지 90 중량%; 및 하기 화학식 2 내지 6으로 표시되는 범용성 고분자로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 10 내지 90 중량%로 포함하는 것을 특징으로 하는 극소수성막 형성용 조성물:[화학식 1] ,[화학식 2][화학식 3],[화학식 4],[화학식 5] 및[화학식 6](상기 화학식 1에서 n은 7 내지 15의 정수이고, 화학식 1 내지 6으로 표시되는 고분자의 수평균 분자량은 5,000 내지 500,000이고, 분산도는 1
|
| 5 |
5
제4항에 있어서, 상기 화학식 1의 n은 8 내지 12의 정수인 것을 특징으로 하는 극소수성막 형성용 조성물
|
| 6 |
6
제4항에 있어서,상기 화학식 1로 표시되는 폴리옥시에틸렌계 고분자는 폴리[옥시(옥틸티오에테르메틸)에틸렌], 폴리[옥시(노닐티오에테르메틸)에틸렌] 및 폴리[옥시(데실티오에테르메틸)에틸렌]으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 극소수성막 형성용 조성물
|
| 7 |
7
제4항에 있어서,상기 범용성 고분자는 상기 화학식 2로 표시되는 고분자인 것을 특징으로 하는 극소수성막 형성용 조성물
|
| 8 |
8
제1항 또는 제4항의 조성물을 도포하여 형성된 극소수성막
|
| 9 |
9
제8항에 있어서,상기 극소수성막은 100 내지 140°의 접촉각을 갖는 것을 특징으로 하는 극소수성막
|
| 10 |
10
제1항 또는 제4항의 조성물을 용매에 용해시켜 용액을 제조하는 단계(단계 1); 및상기 단계 1에서 제조한 용액을 기판에 코팅하는 단계(단계 2);를 포함하는 극소수성막의 제조방법
|
| 11 |
11
제10항에 있어서,상기 단계 1의 용매는 클로로포름, 디클로로메탄, 아세톤, 피리딘, 테트라하이드로퓨란, 클로로벤젠 및 디크롤로벤젠으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 단독 또는 혼합하여 사용하는 것을 특징으로 하는 극소수성막의 제조방법
|
| 12 |
12
제10항에 있어서,상기 단계 2의 기판은 유리, 금속, 섬유, 플라스틱 및 세라믹으로부터 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 극소수성막의 제조방법
|
| 13 |
13
제10항에 있어서,상기 단계 2의 코팅은 스핀 코팅, 딥 코팅, 롤 코팅, 용액 코팅 및 스프레이 코팅으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 극소수성막의 제조방법
|
