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순수광학이성질체 제조용 분자각인 고분자 분리막 및 이의제조방법
- 기술번호 : KST2015138685
- 담당센터 : 대전기술혁신센터
- 전화번호 : 042-610-2279
| 요약 | 본 발명은 광학이성질체 분리효율의 극대화를 위한 분리막의 제조방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 폴리설폰 용액을 이용하여 다공성 지지체를 제조하고 피페라진(PIP)과 트리메소일클로라이드(TMC)를 계면중합하여 분리막 표면에 폴리 아마이드 활성층을 갖는 복합막 제조과정에서 (D)-세린과 같은 분리하고자 하는 특정 광학 이성질체를 복합막의 활성층에 분자각인(Molecular Imprinting) 시킴으로써 특정물질의 선택적 분리효율을 극대화시킬 수 있으며 장시간 높은 분리효율을 유지시킬 수 있는 분리막 제조방법에 관한 것이다.분자각인, 광학이성질체, 분리막 |
|---|---|
| Int. CL | C08F 8/30 (2006.01) C08G 75/20 (2006.01) B01D 71/56 (2006.01) C08J 7/04 (2006.01) |
| CPC | B01D 71/56(2013.01) B01D 71/56(2013.01) B01D 71/56(2013.01) |
| 출원번호/일자 | 1020060027664 (2006.03.27) |
| 출원인 | 한국화학연구원 |
| 등록번호/일자 | 10-0817450-0000 (2008.03.21) |
| 공개번호/일자 | 10-2007-0096705 (2007.10.02) 문서열기 |
| 공고번호/일자 | (20080327) 문서열기 |
| 국제출원번호/일자 | |
| 국제공개번호/일자 | |
| 우선권정보 | |
| 법적상태 | 소멸 |
| 심사진행상태 | 수리 |
| 심판사항 | |
| 구분 | |
| 원출원번호/일자 | |
| 관련 출원번호 | |
| 심사청구여부/일자 | Y (2006.03.27) |
| 심사청구항수 | 10 |
출원인
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 한국화학연구원 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
발명자
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 제갈종건 | 대한민국 | 대전 유성구 |
| 2 | 이규호 | 대한민국 | 대전 유성구 |
| 3 | 손승희 | 대한민국 | 대전 중구 |
대리인
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 박창희 | 대한민국 | 대전광역시 서구 한밭대로 ***번지 (둔산동, 사학연금회관) **층(특허법인 플러스) |
| 2 | 권오식 | 대한민국 | 대전광역시 서구 한밭대로 ***번지 (둔산동, 사학연금회관) **층(특허법인 플러스) |
최종권리자
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 한국화학연구원 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
| 번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | 특허출원서 Patent Application |
2006.03.27 | 수리 (Accepted) | 1-1-2006-0215810-52 |
| 2 | 선행기술조사의뢰서(내부) Request for Prior Art Search (Inside) |
2006.10.30 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
| 3 | 선행기술조사보고서 Report of Prior Art Search |
2006.11.30 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-6-2006-0075757-04 |
| 4 | 의견제출통지서 Notification of reason for refusal |
2007.03.27 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2007-0160355-92 |
| 5 | 명세서등보정서 Amendment to Description, etc. |
2007.05.22 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2007-0373180-92 |
| 6 | 의견서 Written Opinion |
2007.05.22 | 수리 (Accepted) | 1-1-2007-0373171-81 |
| 7 | 의견제출통지서 Notification of reason for refusal |
2007.09.13 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2007-0496303-64 |
| 8 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2007.11.12 | 수리 (Accepted) | 1-1-2007-0808569-29 |
| 9 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2007.11.12 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2007-0808587-41 |
| 10 | 등록결정서 Decision to grant |
2008.03.11 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2008-0136166-96 |
| 11 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2008.04.16 | 수리 (Accepted) | 4-1-2008-5059312-66 |
| 12 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2008.05.14 | 수리 (Accepted) | 4-1-2008-5074743-27 |
| 13 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2008.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2008-5208083-56 |
| 14 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2017.09.14 | 수리 (Accepted) | 4-1-2017-5149265-52 |
| 15 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2017.09.14 | 수리 (Accepted) | 4-1-2017-5149242-13 |
| 번호 | 청구항 |
|---|---|
| 1 |
1 다공성 지지체상에 수용성 광학이성질체를 각인시킨 분자각인 층을 형성시켜 광학이성질체를 선택적으로 분리하는 것을 특징으로 하는 광학이성질체 분리용 고분자분리막의 제조방법 |
| 2 |
2 제 1항에 있어서,상기 다공성지지체는 폴리설폰으로 제조되는 것을 특징으로 하는 광학이성질체 분리용 고분자분리막의 제조방법 |
| 3 |
3 제 2항에 있어서,상기 분자각인층은 계면중합에 의해 형성되는 폴리아마이드 층인 것을 특징으로 하는 광학이성질체 분리용 고분자분리막의 제조방법 |
| 4 |
4 제 3항에 있어서,상기 폴리아마이드 층은 아민과 아실할라이드의 가교중합체인 것을 특징으로 하는 광학이성질체 분리용 고분자분리막의 제조방법 |
| 5 |
5 제 4항에 있어서,상기 폴리아마이드 층은 피페라진과 트리메소일클로라이드의 중합체인 것을 특징으로 하는 광학이성질체 분리용 고분자분리막의 제조방법 |
| 6 |
6 제 1항 내지 제5항에서 선택되는 어느 한 항의 제조방법으로 제조되는 광학이성질체 분리용 고분자 분리막 |
| 7 |
7 (a)다공성지지체를 제조하는 단계;(b)상기 다공성지지체를 아민단량체와 분자각인을 위한 수용성 광학이성질체의 혼합물 수용액에 침지하는 단계;(c)상기 침지된 다공성지지체의 표면에 존재하는 수용액을 제거하는 단계;(d)상기 (c)의 다공성지지체를 아실할라이드가 용해된 용매에 침지, 계면중합하여 폴리아마이드층을 형성하는 단계;(e)상기 폴리아마이드층으로부터 수용성 광학이성질체를 추출하여 분자각인하는 단계;로 구성되는 광학이성질체 분리용 고분자분리막의 제조방법 |
| 8 |
8 제 7항에 있어서,상기 폴리아마이드 층은 가교중합체 층인 것을 특징으로 하는 광학이성질체 분리용 고분자 분리막의 제조방법 |
| 9 |
9 제 8항에 있어서,상기 아민단량체와 수용성 광학이성질체의 비가 1~5:1의 중량비인 것을 특징으로 하는 광학이성질체 분리용 고분자분리막의 제조방법 |
| 10 |
10 제 7항 내지 제9항에서 선택되는 어느 한 항의 제조방법으로 제조된 분리막으로 광학이성질화합물을 분리하는 방법 |
| 지정국 정보가 없습니다 |
|---|
| 패밀리정보가 없습니다 |
|---|
| 국가 R&D 정보가 없습니다. |
|---|
- 본 등록정보는 참고용으로 법적증빙자료로 사용할 수 없습니다.
- 데이터 이관에 따른 소요기간(1일)으로 인하여 등록원부와 일부 차이가 발생할 수 있으며, 일부 정보(부기, 상세 주소 등)를 제공하지 않고 있습니다.
- 법적증빙자료로 활용하시거나 더 자세한 정보를 보시려면 등록원부를 발급받아 사용하시기 바랍니다.
| 특허 등록번호 | 10-0817450-0000 |
|---|
권리란
| 표시번호 | 사항 |
|---|---|
| 1 |
출원 연월일 : 20060327 출원 번호 : 1020060027664 공고 연월일 : 20080327 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20080311 청구범위의 항수 : 10 유별 : B01D 71/56 발명의 명칭 : 순수광학이성질체 제조용 분자각인 고분자 분리막 및 이의제조방법 존속기간(예정)만료일 : 20110322 |
특허권자란
| 순위번호 | 사항 |
|---|---|
| 1 |
(권리자) 한국화학연구원 대전광역시 유성구... |
등록료란
| 제 1 - 3 년분 | 금 액 | 258,000 원 | 2008년 03월 24일 | 납입 |
- 본 '원본보기 서비스'는 참고용이므로, 일부 오류 및 누락이 발생할 수 있습니다.
- 정확한 서류를 확인하시려면 해당 웹사이트에서 조회하시기 바랍니다. (특허로 바로가기: http://www.patent.go.kr)
- 해당 서비스는 점검으로 인해 매주 일요일 00:00 ~ 02:00까지 이용이 중단됩니다.
| 번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | 특허출원서 | 2006.03.27 | 수리 (Accepted) | 1-1-2006-0215810-52 |
| 2 | 선행기술조사의뢰서(내부) | 2006.10.30 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
| 3 | 선행기술조사보고서 | 2006.11.30 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-6-2006-0075757-04 |
| 4 | 의견제출통지서 | 2007.03.27 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2007-0160355-92 |
| 5 | 명세서등보정서 | 2007.05.22 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2007-0373180-92 |
| 6 | 의견서 | 2007.05.22 | 수리 (Accepted) | 1-1-2007-0373171-81 |
| 7 | 의견제출통지서 | 2007.09.13 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2007-0496303-64 |
| 8 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2007.11.12 | 수리 (Accepted) | 1-1-2007-0808569-29 |
| 9 | [명세서등 보정]보정서 | 2007.11.12 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2007-0808587-41 |
| 10 | 등록결정서 | 2008.03.11 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2008-0136166-96 |
| 11 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2008.04.16 | 수리 (Accepted) | 4-1-2008-5059312-66 |
| 12 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2008.05.14 | 수리 (Accepted) | 4-1-2008-5074743-27 |
| 13 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2008.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2008-5208083-56 |
| 14 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2017.09.14 | 수리 (Accepted) | 4-1-2017-5149265-52 |
| 15 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2017.09.14 | 수리 (Accepted) | 4-1-2017-5149242-13 |
| 기술정보가 없습니다 |
|---|
| 과제고유번호 | 1415092143 |
|---|---|
| 세부과제번호 | INFRA11 |
| 연구과제명 | 특허경비지원 |
| 성과구분 | 등록 |
| 부처명 | 지식경제부 |
| 연구관리전문기관명 | 한국산업기술평가원 |
| 연구주관기관명 | 한국산업기술진흥협회 |
| 성과제출연도 | 2008 |
| 연구기간 | 200604~201103 |
| 기여율 | 1 |
| 연구개발단계명 | 응용연구 |
| 6T분류명 | 기타 |
| 과제고유번호 | 1410030576 |
|---|---|
| 세부과제번호 | b0008643 |
| 연구과제명 | 특허경비지원 |
| 성과구분 | 출원 |
| 부처명 | 지식경제부 |
| 연구관리전문기관명 | 한국산업기술평가원 |
| 연구주관기관명 | 한국산업기술진흥협회 |
| 성과제출연도 | 2006 |
| 연구기간 | 200604~201103 |
| 기여율 | 1 |
| 연구개발단계명 | 응용연구 |
| 6T분류명 | 기타 |
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