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(1) 다음 구조식(Ⅱ)의 화합물을 포밀화하여 다음 구조식(Ⅲ)의 화합물을 제조하는 단계와, (2) 상기에서 얻어진 다음 구조식(Ⅲ)의 화합물을 다음 구조식(Ⅳ)의 화합물과 반응시켜서 다음 구조식(Ⅴ)의 화합물을 제조하는 단계와, (3) 상기에서 얻어진 다음 구조식(Ⅴ)의 화합물을 알루미나를 이용하여 다음 구조식(Ⅳ)과 축합반응시키는 단계로 이루어진 다음 구조식(Ⅰ)의 플루오로 퀴놀린 유도체의 제조방법
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제 1 항에 있어서, 상기 단계(1)은 상기 구조식(Ⅱ)의 화합물을 3 : 1
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제 2 항에 있어서, 상기 단계(1)의 반응은 0℃의 온도에서 실시함을 특징으로 하는 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 단계(1)은 상기 구조식(Ⅱ)의 화합물을 개미산에만 첨가하고 환류시켜서 됨을 특징으로 하는 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 단계(2)는 상기 구조식(Ⅲ)의 화합물을 포스포러스옥시클로리드, 포스겐, 디포스겐, 트리포스겐, 티오닐클로리드, 포스포러스옥시브로미드 또는 포스포러스펜타클로리드의 존재하에 상기구조식(Ⅳ)와 반응시킴을 특징으로 하는 방법
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제 1 항 또는 제 5 항에 있어서, 상기 구조식(Ⅲ)의 화합물 대 상기 구조식(Ⅳ)의 화합물의 반응비는 1 : 0
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제 1 항 또는 제 5 항에 있어서, 상기 구조식(Ⅲ)의 화합물과 상기 구조식(Ⅳ)의 화합물은 25∼150℃, 바람직하게 80∼90℃의 온도하에서 실시함을 특징으로 하는 방법
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제 1 항 또는 제 5 항에 있어서, 상기 단계(2)의 반응은 용매로서 사염화탄소, 벤젠, 톨루엔, 크실렌 또는 아세트니트릴, 바람직한 것은 벤젠 또는 톨루엔을 사용하거나 용매를 사용하지 않는 것임을 특징으로 하는 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 단계(3)의 알루미나는 산성알루미나, 중성알루미나 또는 염기성알루미나, 바람직하게는 염기성알루미나를 사용하여서 됨을 특징으로 하는 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 단계(3)의 축합반응은 약 60∼120℃의 온도에서 실시함을 특징으로 하는 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 단계(3)의 축합반응시의 용매로는 아세트니트릴, 피리딘, 디메틸포름아미드, 디메틸설폭시드, 헥사메틸렌포스포아미드 또는 헥사메틸렌 포스트리아미드, 바람직하게는 아세토니트릴 또는 디메틸포름아미드를 사용하여서 됨을 특징으로 하는 방법,
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제 1 항에 있어서, 상기 구조식(Ⅴ) : 상기 구조식(Ⅵ) : 알루미나의 반응비는 1 : 1
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제 12 항에 있어서, 상기 알루미나가 산성알루미나 또는 중성알룸L나인 경우에는 3∼4당량을 사용하여서 됨을 특징으로 하는 방법
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제 1 항, 제12항 또는 제13항에 있어서, 반응조건은 가열환류하여 10∼12시간 동안 반응시킴을 특징으로 하는 방법
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제12항에 있어서, 상기 알루미나가 염기성 알루미나인 경우에는 1∼2당량을 사용하여서 도미을 특징으로 하는 방법
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제 1 항, 제12항 또는 제15항에 있어서, 반응조건은 C-7원자가 불소인 경우에는 60℃에서 6시간동안 반응시키고, C-7원자가 염소인 경우에는 가열환류하여 24시간 동안 반응시킴을 특징으로 하는 방법
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