맞춤기술찾기

이전대상기술

고분자와 결합한 양자점 발광소자

  • 기술번호 : KST2015140620
  • 담당센터 : 인천기술혁신센터
  • 전화번호 : 032-420-3580
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 양자점 활성층 양면에 p형과 n형 반도체 박막의 정공 및 전자 주입층의 형성이나, 전자나 정공 전달층인 다층 전도성 고분자의 형성하지 않고 절연성 고분자 내에 자발 형성된 금속 또는 금속 산화물 나노 결정체로 구성되는 양자점 활성층을 형성하여 양자점 발광소자를 제조함으로써 나노 결정체의 응집현상 없이 양자점 활성층 내의 나노 결정체의 크기나 밀도를 변화시켜 여러 가지 발광색 및 높은 발광 효율을 갖는 발광소자를 얻을 수 있다. 상기 양자점 발광 소자는 교류 전력을 사용하므로 저전력이 소모되며 제조방법이 간단하므로 비용 및 노력을 감소시킬 수 있다.발광소자, 양자점, 나노 결정체, Cu₂O, 고분자 박막
Int. CL H01L 33/04 (2010.01.01) H01L 33/44 (2010.01.01) H01L 33/00 (2010.01.01)
CPC H01L 33/04(2013.01) H01L 33/04(2013.01) H01L 33/04(2013.01) H01L 33/04(2013.01)
출원번호/일자 1020050021856 (2005.03.16)
출원인 한양대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-0665698-0000 (2006.12.29)
공개번호/일자 10-2006-0100151 (2006.09.20) 문서열기
공고번호/일자 (20070109) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2005.03.16)
심사청구항수 10

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한양대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 성동구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 김태환 대한민국 서울시 마포구
2 김영호 대한민국 서울시 송파구
3 정재훈 대한민국 서울시 광진구
4 송문섭 대한민국 전북 익산시

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 이경란 대한민국 서울(특허법인 퇴사후 사무소변경 미신고)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 인텔렉추얼디스커버리 주식회사 서울특별시 강남구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2005.03.16 수리 (Accepted) 1-1-2005-0138237-25
2 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2006.05.25 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2006-0303595-63
3 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.
2006.07.19 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2006-0512276-14
4 의견서
Written Opinion
2006.07.19 수리 (Accepted) 1-1-2006-0512262-75
5 등록결정서
Decision to grant
2006.12.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2006-0781403-05
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.03.11 수리 (Accepted) 4-1-2008-5037763-28
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.06.05 수리 (Accepted) 4-1-2014-5068294-39
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.02.16 수리 (Accepted) 4-1-2015-5022074-70
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.05 수리 (Accepted) 4-1-2019-5155816-75
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.06 수리 (Accepted) 4-1-2019-5156285-09
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
기판 상부에 금속을 코팅하는 단계; 상기 금속층 상에 절연체 고분자 단량체를 포함하는 산성 전구체를 용매에 녹여 액상으로 만든 후, 이를 스핀 코팅하고 코팅된 산성 전구체로부터 용매를 제거하는 단계; 상기 코팅된 산성전구체 내부에서 가교결합이 일어나도록, 상기 고분자 물질에 열을 가하는 단계를 포함하는 양자점 활성층 형성방법
2 2
제 1항에 있어서, 상기 고분자는 폴리이미드임을 특징으로 하는 양자점 활성층 형성방법
3 3
제 1항 에 있어서, 상기 절연체 고분자 단량체를 포함하는 산성 전구체는 카르복실기를 포함하는 산성 전구체인 것을 특징으로 하는 양자점 활성층 형성방법
4 4
기판 상부에 Cu를 스퍼터링 하는 단계; 상기 Cu층 상에 N-메틸-2-피롤리돈(N-Methyl-2-Pyrrolidone, NMP)을 용매로 하여 비페닐테트라카르복실릭 디언하이드라이드-p-페닐렌디아민(Biphenyltetracarboxylic Dianhydride-p-Phenylenediamine, BPDA-PDA)형의 폴리아믹산을 스핀 코팅하고 용매를 제거하는 단계; 및 300~400℃정도에서 가열하여 상기 폴리이미드 층을 경화시키는 단계를 포함하는 양자점 활성층 형성방법
5 5
제 4항에 있어서, 상기 N-메틸-2-피롤리돈(N-Methyl-2-Pyrrolidone, NMP)과 전구체 비페닐테트라카르복실릭 디언하이드라이드-p-페닐렌디아민(Biphenyltetracarboxylic Dianhydride-p-Phenylenediamine, BPDA-PDA)의 혼합비는 1: 3의 부피비인 양자점 활성층 형성방법
6 6
절연성 고분자 박막 내에 자발형성된 금속 또는 금속 산화물 나노 결정체로 구성되는 양자점을 포함하는 양자점 활성층
7 7
제 6항에 있어서, 상기 절연성 고분자는 폴리이미드이고 상기 양자점은 Cu2O 나노 결정체인 양자점 활성층
8 8
기판; 상기 기판 상에 형성된 제 1전극층; 상기 제 1 전극층 상부에 형성된 제 6항 또는 제 7항의 양자점 활성층; 및 상기 양자점 활성층 상부에 형성된 제 2전극층을 포함하여 구성되되, 교류 전원을 사용하여 작동되는 양자점 발광 소자
9 9
기판의 전면상에 제 1 전극층을 형성하는 단계; 상기 제 1 전극층 상에 제 1항 내지 제 5항 중 어느 한 항의 양자점 활성층을 형성방법에 따라 양자점 활성층을 형성하는 단계; 상기 양자점 활성층 상에 제 2 전극층을 형성하는 단계를 포함하는 양자점 발광소자의 제조방법
10 10
제 9항에 있어서, 상기 제 1전극은 ITO이고 제 2전극은 Al인 양자점 발광소자의 제조방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.