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산소 플라즈마와 급속 열처리를 이용한 산화 티타늄광촉매의 제조방법

  • 기술번호 : KST2015142078
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 산소 플라즈마와 급속 열처리를 이용한 산화 티타늄 광촉매의 제조방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 티타늄을 산소 플라즈마로 처리하여 상기 티타늄의 표면을 산화 티타늄으로 산화시키는 단계; 및 급속 열처리를 수행하는 단계를 거쳐 제조되는 산화 티타늄 광촉매의 제조방법에 관한 것이다.본 발명에 의해 제조된 광촉매는 고순도를 가지고, 나노 사이즈의 결정 입자를 가지며, 상기 결정이 아타나제형의 구조 구조를 가져 광촉매 특성이 매우 우수하여 각종 수처리 장치, 금속 멤브레인, 각종 유기물 분해용 및 수소 제조용 광촉매, 물을 분해하여 수소를 생산하기 위한 전기화학 전지의 전극 등 다양한 분야에 유용하게 이용될 수 있다. 산소 플라즈마, 급속 열처리, 광촉매, 아나타제
Int. CL B01J 21/06 (2006.01.01) B82Y 30/00 (2017.01.01)
CPC
출원번호/일자 1020070007413 (2007.01.24)
출원인 한양대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-0852496-0000 (2008.08.08)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20080818) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항 심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2007.01.24)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한양대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 성동구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박재우 대한민국 서울특별시 서초구
2 장준원 대한민국 경기도 광주시
3 이주인 대한민국 대전광역시 유성구
4 최재영 대한민국 강원도 강릉시 가작로

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 현종철 대한민국 서울특별시 중구 다산로 **, *층 특허법인충현 (신당동, 두지빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한양대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 성동구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2007.01.24 수리 (Accepted) 1-1-2007-0072116-53
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2007.08.02 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)
2007.09.03 수리 (Accepted) 1-1-2007-0639302-37
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2007.09.11 수리 (Accepted) 9-1-2007-0051943-12
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2007.10.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2007-0583208-43
6 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2007.12.24 수리 (Accepted) 1-1-2007-0928817-39
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2008.01.18 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2008-0045112-83
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2008.01.18 수리 (Accepted) 1-1-2008-0045082-01
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.03.11 수리 (Accepted) 4-1-2008-5037763-28
10 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2008.05.01 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0239505-19
11 명세서 등 보정서(심사전치)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2008.05.21 보정승인 (Acceptance of amendment) 7-1-2008-0021525-69
12 등록결정서
Decision to grant
2008.07.09 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0364785-74
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.06.05 수리 (Accepted) 4-1-2014-5068294-39
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.02.16 수리 (Accepted) 4-1-2015-5022074-70
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.05 수리 (Accepted) 4-1-2019-5155816-75
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.06 수리 (Accepted) 4-1-2019-5156285-09
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
a) 7
2 2
삭제
3 3
제1항에 있어서,상기 플라즈마 처리는 산소, 산화이질소(N2O), 산소를 포함하는 공기 및 이들의 혼합 가스로 이루어진 군에서 선택된 1종의 가스를 공급하여 수행하는 것인 광촉매의 제조방법
4 4
제3항에 있어서,상기 가스는 5 내지 15 sccm으로 주입하는 것인 광촉매의 제조방법
5 5
삭제
6 6
제1항에 있어서,상기 급속 열처리는 400 내지 500 ℃에서 1 분 내지 3 분 동안 수행하는 것인 광촉매의 제조방법
7 7
제1항에 있어서,상기 티타늄은 벌크 또는 박막 형태인 것인 광촉매의 제조방법
8 8
삭제
9 9
삭제
10 10
삭제
11 11
삭제
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1 WO2008091053 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

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1 WO2008091053 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
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