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스퀴지로 잉크를 밀어 스크린을 통하여 잉크가 기판에 코팅되도록 하는 스크린 인쇄를 이용하여 단일 유기물 박막을 제조하는 방법
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기판 상에 ITO로 이루어진 하부 전극을 형성하는 단계; 스퀴지로 잉크를 밀어 스크린을 통하여 잉크가 기판에 코팅되도록 하여 단일 유기물 박막을 형성하는 단계; 및 금속으로 이루어진 상부 전극을 상기 유기물 박막상에 형성하는 단계를 포함하는 유기발광소자 제조 방법
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제 2항에 있어서, 상기 유기물 박막을 형성하는 단계 전에, 하부전극인 ITO 표면을 플라즈마 처리하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기발광소자 제조 방법
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제 2항에 있어서, 상기 유기물 박막을 형성하는 단계 전에, 하부전극인 ITO 표면 상에 PEDOT:PSS로 이루어진 완충층을 형성시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기발광소자 제조 방법
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제 2항에 있어서, 상기 상부전극은 스크린 인쇄를 통하여 형성되는 것을 특징으로 하는 유기발광소자 제조 방법
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제 2항에 있어서, 상기 잉크는 용매에 전자수송층, 정공수송층, 고분자유기물 및 염료를 혼합하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 유기발광소자 제조 방법
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제 6항에 있어서, 상기 전자수송층은 Alq3(트리스(8-옥소퀴놀린)알루미늄(III)), 트리아졸 유도체(TAZ) 및 2-(4-비페닐)-5-(4-t-부틸페닐)-1,3,4-옥사디아졸 (PBD)를 포함하는 그룹으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 유기발광소자 제조 방법
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제 6항에 있어서, 상기 정공수송층으로서는 NPB(α-naphthylphenylbiphenyl dimine), TPD 및 PVK(poly-vinyl carbazole)를 포함하는 그룹으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 유기발광소자 제조 방법
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제 6항에 있어서, 상기 염료는 루브렌(Rubrene) 또는 Ir(ppy)3을 사용하는 것을 특징으로 하는 유기발광소자 제조 방법
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제 6항에 있어서, 상기 고분자 유기물은 PVK(poly-vinyl carbazole), PC(폴리카보네이트) 및 PS(폴리스틸렌)를 포함하는 그룹으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 유기발광소자 제조 방법
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제 6항에 있어서, 상기 전자수송층(ETL)의 함량은 5 내지 35중량%이고, 상기 정공수송층(HTL)의 함량은 5 내지 35중량%이며, 상기 고분자유기물의 함량은 20 내지 80중량%인 것을 특징으로 하는 유기발광소자 제조 방법
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제 6항에 있어서, 상기 염료의 함량은 전자수송층, 정공수송층 및 고분자유기물의 전체 함량의 1 내지 10중량%인 것을 특징으로 하는 유기발광소자 제조 방법
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제 6항에 있어서, 상기 용매는 클로로포름 및 디클로로메탄을 포함하는 그룹으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 유기발광소자 제조 방법
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제 2항에 있어서, 상기 스크린의 마스크는 그물눈 300 내지 그물눈 600에서 선택되는 것을 특징으로 하는 유기발광소자 제조 방법
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스퀴지로 잉크를 밀어 스크린을 통하여 잉크가 기판에 코팅되도록 하는 스크린 인쇄를 이용하여 제작한 단일 유기물 박막
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기판; ITO로 이루어진 하부 전극; 스퀴지로 잉크를 밀어 스크린을 통하여 잉크가 기판에 코팅되도록 하는 스크린 인쇄를 이용하여 제작한 단일 유기물 박막; 및 금속으로 이루어진 상부 전극을 포함하는 유기발광소자
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제 16항에 있어서, 상기 유기발광소자는 핀홀이 없는 단일 유기물 박막을 형성시키기 위하여 하부전극인 ITO 표면을 플라즈마 처리하는 것을 특징으로 하는 유기발광소자
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제 16항에 있어서, 상기 유기발광소자는 핀홀이 없는 단일 유기물 박막을 형성시키기 위하여 하부전극인 ITO 표면 상에 PEDOT:PSS로 이루어진 완충층을 형성시키는 것을 특징으로 하는 유기발광소자
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