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유리, 플라스틱, 세라믹, 또는 금속의 판상, 구상, 또는 원통형의 지지체 및 상기 지지체 상에 고정된 광 촉매 층을 포함하되, 상기 광 촉매층은
지지체 상에 고정되고, 3
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삭제
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3
제1항에 있어서,
3 eV 미만의 밴드 갭 에너지를 갖는 촉매는 CdS, Fe2O3 및 WO3로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 광분해 촉매
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4
제1항에 있어서,
제1촉매 층의 두께는 0
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제1항에 있어서,
이산화티탄 촉매의 평균입경은 10 내지 30nm인 것을 특징으로 하는 광분해 촉매
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6
제1항에 있어서,
제2촉매 층의 두께는 제1촉매 층 두께의 50 내지 100배인 것을 특징으로 하는 광분해 촉매
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7
제1항에 있어서,
광 촉매 층의 두께는 2 내지 15㎛인 것을 특징으로 하는 밴드 갭 에너지가 상이한 물질을 함유하는 광분해 촉매
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8
제1항에 있어서,
지지체는 광섬유가 내장된 글라스 튜브인 것을 특징으로 하는 광분해 촉매
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9
제8항에 있어서,
광섬유의 직경은 0
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10
제8항에 있어서,
광섬유가 내장된 글라스 튜브의 직경은 광섬유의 직경보다 0
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11
3
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12
삭제
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13
제11항에 있어서,
제1촉매 층은 건식도포법에 의해 지지체 상에 고정된 것을 특징으로 하는 광분해 촉매의 제조방법
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14
제13항에 있어서,
건식도포법이 스퍼터링법 또는 증착법인 것을 특징으로 하는 광분해 촉매의 제조방법
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15
제11항에 있어서,
제2촉매 층은 습식도포법에 의해 제1촉매 층 상에 고정된 것을 특징으로 하는 광분해 촉매의 제조방법
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16
제15항에 있어서,
습식도포법이 이산화티탄을 함유하는 코팅 용액을 제조하는 단계 a); 및
상기 코팅 용액에 제1촉매 층이 고정된 지지체를 침전시키는 단계 b)를 포함하는 딥 코팅(dip coating)법인 것을 특징으로 하는 광분해 촉매의 제조방법
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17
제16항에 있어서,
단계 a)는 용매에 무기 바인더 및 산 수용액을 첨가하여 졸을 형성하는 단계; 및
상기 졸에 이산화티탄 고형물을 첨가하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 광분해 촉매의 제조방법
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18
제17항에 있어서,
무기 바인더가 티타늄계 화합물인 것을 특징으로 하는 광분해 촉매의 제조방법
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19
제17항에 있어서,
용매와 무기 바인더의 부피비는 4
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20
제17항에 있어서,
이산화티탄 고형물의 함량은 졸 100 중량부에 대하여 1 내지 20 중량부인 것을 특징으로 하는 광분해 촉매의 제조방법
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21
제16항에 있어서,
제1촉매 층 상에 고정된 제2촉매 층을 상온에서 1차 건조시키는 단계; 및
150 내지 250℃에서 2차 건조시키는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 광분해 촉매의 제조방법
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