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무기 전계발광 소자의 제조에 있어서,
(a) 금속 전극층 상에 기계적 공정으로 다수의 기공을 포함하는 다공질 구조체를 형성하는 단계;
(b) 상기 다공질 구조체의 기공 내표면을 산화시켜 금속 산화물층을 포함하는 다공질 구조체를 형성하는 단계;
(c) 상기 다공질 구조체의 상기 금속 산화물층 위에 형광체를 도포하여 발광층을 형성하는 단계를 포함하여 전극-유전층을 일체화하여 형성하는 것을 특징으로 하는 무기 전계발광 소자의 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 기계적 가공은 샌딩(sanding)공정, 프레스(press)공정을 이용하는 것을 특징으로 하는 무기 전계발광 소자의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 산화는 양극산화공정, 고온산화공정을 이용하는 것을 특징으로 하는 무기 전계발광 소자의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 다공질 구조체의 상기 기공이 원형인 경우 기공의 직경은 1um 이상 10mm 미만인 것을 특징으로 하는 무기 전계발광 소자의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 다공질 구조체의 상기 기공이 사각형인 경우 기공의 가로, 세로는 1um 이상 10mm 미만인 것을 특징으로 하는 무기 전계발광 소자의 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 금속 전극은 알루미늄(Al), 구리(Cu), 티타늄(Ti)으로 이루어진 군으로부터 선택되는 금속 재료를 포함하는 것을 특징으로 하는 무기 전계발광 소자의 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 다공질 구조체의 기공의 형태는 원형, 사각형, 일자형, 와인잔형 또는 아령형인 것을 특징으로 하는 무기 전계발광 소자의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 다공질 구조체의 금속 산화물층의 두께는 40nm 이하인 것을 특징으로 하는 무기 전계발광 소자의 제조방법
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제 1 항에 있어서, 상기 방법이 상기 발광층을 형성하는 단계 후에 상기 발광층의 상부에 유전층을 형성하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 무기 전계발광 소자의 제조방법
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제1항 내지 제 9항 중 어느 하나의 항에 따른 방법에 의해 제조된 전극-유전층이 일체화된 것을 특징으로 하는 무기 전계발광 소자
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제 10항에 있어서, 상기 소자의 다공질 구조체의 기공이 원형인 경우 기공의 직경은 1um 이상 10mm 미만인 것을 특징으로 하는 무기 전계발광 소자
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제 10항에 있어서, 상기 소자의 다공질 구조체의 기공이 사각형인 경우 기공의 가로, 세로는 1um 이상 10mm 미만인 것을 특징으로 하는 무기 전계발광 소자
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