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이방 전도성 접착제에서 사용되는 도전입자에 있어서,고분자 미립자로 이루어진 경질입자;경질입자와 금속과의 접착력을 증가시키기 위해 경질입자 표면을 -SO3 및 -SH 중 선택된 하나 이상의 작용기로 개질시킨 제 1 피복층; 및상기 제 1 피복층을 둘러싸는 Au 코팅층으로 이루어진 제 2 피복층으로 구성됨을 특징으로 하는, 도전입자
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제 1항에 있어서, 상기 경질입자가 폴리디비닐벤젠(polydivinylbenzene)으로 이루어진 구형의 고분자 수지 미립자임을 특징으로 하는 전도성 입자
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제 1항에 있어서, 상기 경질입자의 평균 입경이 2 내지 5 ㎛이며, 제 2 피복층이 0
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이방 전도성 접착제에서 사용되는 도전입자를 제조하는 방법에 있어서,고분자 미립자로 이루어진 경질입자를 제공하는 단계;경질입자의 표면을 -SO3 및 -SH 중 선택된 하나 이상의 작용기로 개질시켜 제 1 피복층을 제조하는 단계; 및제 1 피복층 상에 Au 착물을 환원반응시켜 Au층으로 코팅된 제 2 피복층을 제조하는 단계를 포함하는, 도전입자를 제조하는 방법
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제 5항에 있어서, 디비닐벤젠을 침전중합시켜 경질입자를 제조함을 특징으로 하는 도전입자를 제조하는 방법
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제 5항에 있어서, 제 1 피복층을 지닌 경질입자 상에 [Au-페난트롤린-Cl2]Cl을 환원반응시켜 제 2 피복층을 제조함을 특징으로 하는 도전입자를 제조하는 방법
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제 1항, 제 2항 또는 제 4항 중 어느 한 항에 따른 도전입자를 포함함을 특징으로 하는 이방성 도전용 잉크
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제 1항, 제 2항 또는 제 4항 중 어느 한 항에 따른 도전입자를 포함함을 특징으로 하는 이방성 도전 필름
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제 9항에 따른 이방성 도전용 잉크를 포함함을 특징으로 하는 반도체 소자
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제 10항에 따른 이방성 도전 필름을 포함함을 특징으로 하는 인쇄회로 기판
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