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폴리디비닐벤젠 구형 입자와 금속을 이용한 코어/쉘도전입자 및 이의 제조방법

  • 기술번호 : KST2015144607
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 폴리디비닐벤젠 구형 입자와 금속을 이용한 코어/쉘 도전입자 및 이의 제조방법에 관한 것으로, 이방 전도성 접착제에서 사용되는 도전입자에 있어서, 고분자 미립자로 이루어진 경질입자; 경질입자와 금속과의 접착력을 증가시키기 위해 경질입자 표면을 작용기로 개질시킨 제 1 피복층; 및 상기 제 1 피복층을 둘러싸는 Au 코팅층으로 이루어진 제 2 피복층으로 구성됨을 특징으로 하는 도전입자, 및 이의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명의 도전입자는 입자의 크기 조절이 가능하며, 동시에 전도성 입자로 전기전도도가 양호하여 접속신뢰성이 높은 효과를 나타낼 수 있으며, 또한 경질입자에 금속층을 직접 코팅하므로써, 원가 절감 및 공정 향상의 효과를 얻을 수 있어 액정디스플레이 패널과 인쇄회로기판 등의 접착에 사용되는 이방성 도전필름의 구성요소로서 유용하게 이용할 수 있다.
Int. CL H01B 1/22 (2006.01)
CPC H01B 1/22(2013.01) H01B 1/22(2013.01) H01B 1/22(2013.01) H01B 1/22(2013.01) H01B 1/22(2013.01)
출원번호/일자 1020050127633 (2005.12.22)
출원인 성균관대학교산학협력단
등록번호/일자 10-0718726-0000 (2007.05.09)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20070516) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2005.12.22)
심사청구항수 10

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 성균관대학교산학협력단 대한민국 경기도 수원시 장안구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이영관 대한민국 서울시 서초구
2 남재도 대한민국 서울시 강남구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 남상선 대한민국 서울(특허법인 퇴사후 사무소변경 미신고)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 성균관대학교산학협력단 대한민국 경기도 수원시 장안구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2005.12.22 수리 (Accepted) 1-1-2005-0752320-53
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2006.10.12 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2006.11.14 수리 (Accepted) 9-1-2006-0074226-32
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2006.11.17 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2006-0680877-20
5 의견서
Written Opinion
2007.01.17 수리 (Accepted) 1-1-2007-0047648-44
6 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.
2007.01.17 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2007-0047649-90
7 등록결정서
Decision to grant
2007.05.07 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2007-0249104-58
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2007.08.10 수리 (Accepted) 4-1-2007-0015278-18
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.04.26 수리 (Accepted) 4-1-2012-5090770-53
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.06.20 수리 (Accepted) 4-1-2012-5131828-19
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.06.27 수리 (Accepted) 4-1-2012-5137236-29
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.02.23 수리 (Accepted) 4-1-2017-5028829-43
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번호 청구항
1 1
이방 전도성 접착제에서 사용되는 도전입자에 있어서,고분자 미립자로 이루어진 경질입자;경질입자와 금속과의 접착력을 증가시키기 위해 경질입자 표면을 -SO3 및 -SH 중 선택된 하나 이상의 작용기로 개질시킨 제 1 피복층; 및상기 제 1 피복층을 둘러싸는 Au 코팅층으로 이루어진 제 2 피복층으로 구성됨을 특징으로 하는, 도전입자
2 2
제 1항에 있어서, 상기 경질입자가 폴리디비닐벤젠(polydivinylbenzene)으로 이루어진 구형의 고분자 수지 미립자임을 특징으로 하는 전도성 입자
3 3
삭제
4 4
제 1항에 있어서, 상기 경질입자의 평균 입경이 2 내지 5 ㎛이며, 제 2 피복층이 0
5 5
이방 전도성 접착제에서 사용되는 도전입자를 제조하는 방법에 있어서,고분자 미립자로 이루어진 경질입자를 제공하는 단계;경질입자의 표면을 -SO3 및 -SH 중 선택된 하나 이상의 작용기로 개질시켜 제 1 피복층을 제조하는 단계; 및제 1 피복층 상에 Au 착물을 환원반응시켜 Au층으로 코팅된 제 2 피복층을 제조하는 단계를 포함하는, 도전입자를 제조하는 방법
6 6
제 5항에 있어서, 디비닐벤젠을 침전중합시켜 경질입자를 제조함을 특징으로 하는 도전입자를 제조하는 방법
7 7
삭제
8 8
제 5항에 있어서, 제 1 피복층을 지닌 경질입자 상에 [Au-페난트롤린-Cl2]Cl을 환원반응시켜 제 2 피복층을 제조함을 특징으로 하는 도전입자를 제조하는 방법
9 9
제 1항, 제 2항 또는 제 4항 중 어느 한 항에 따른 도전입자를 포함함을 특징으로 하는 이방성 도전용 잉크
10 10
제 1항, 제 2항 또는 제 4항 중 어느 한 항에 따른 도전입자를 포함함을 특징으로 하는 이방성 도전 필름
11 11
제 9항에 따른 이방성 도전용 잉크를 포함함을 특징으로 하는 반도체 소자
12 12
제 10항에 따른 이방성 도전 필름을 포함함을 특징으로 하는 인쇄회로 기판
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.