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박막 다이오드 및 그 제조 방법

  • 기술번호 : KST2015145720
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 연성 고분자 기판에 적용 가능한 박막 다이오드 및 그 제조 방법에 관한 것이다. 이를 위하여 본 발명의 실시예는, 기판 위에 연성 재질의 하부 전극이 형성되고, 상기 기판과 하부 전극의 상부에 유기물질의 절연막이 도포되는 단계, 하부 전극과 대응되는 위치의 절연막의 상부 마스크가 도포되는 단계, 건식 식각을 이용하여 절연막을 패터닝(patterning)하는 단계, 하부전극의 일부 영역에 상부 전극이 형성되는 단계를 포함한다. 따라서, 본 발명은 하부 전극과 상부 전극 사이에 절연막과 마스크를 형성한 박막 다이오드 구조로 인해 연성 고분자 기판에 적용 가능하고, 또한 하부 전극을 연성 재질로 형성하고 절연막을 유기 물질로 형성함으로써 연성 고분자 기판에 적용시 기판의 변형이나 전극의 균열이 방지될 수 있어 소자의 안정성 및 신뢰성이 향상될 수 있는 효과를 제공하여 준다. 박막 다이오드, 하부전극, 상부전극, 절연막, 마스크
Int. CL B82Y 30/00 (2011.01) H01L 29/861 (2011.01)
CPC H01L 29/861(2013.01) H01L 29/861(2013.01) H01L 29/861(2013.01) H01L 29/861(2013.01) H01L 29/861(2013.01) H01L 29/861(2013.01)
출원번호/일자 1020020028411 (2002.05.22)
출원인 전자부품연구원
등록번호/일자 10-0481613-0000 (2005.03.29)
공개번호/일자 10-2003-0090825 (2003.12.01) 문서열기
공고번호/일자 (20050411) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항 심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2002.05.22)
심사청구항수 12

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자기술연구원 대한민국 경기도 성남시 분당구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 홍성제 대한민국 경기도군포시산
2 이찬재 대한민국 충청북도 청주시 흥덕구
3 한정인 대한민국 서울특별시송파구
4 김원근 대한민국 경기도오산시
5 문대규 대한민국 경기도용인시
6 곽민기 대한민국 경기도오산시
7 박성규 대한민국 경상남도 밀양시 하남
8 김영훈 대한민국 경기도 평택시 송탄공원로 ***

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 유미특허법인 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, 서림빌딩 **층 (역삼동)
2 특허법인(유한) 다래 대한민국 서울 강남구 테헤란로 ***, **층(역삼동, 한독타워)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 전자부품연구원 대한민국 경기도 성남시 분당구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2002.05.22 수리 (Accepted) 1-1-2002-0157072-75
2 전자문서첨부서류제출서
Submission of Attachment to Electronic Document
2002.05.23 수리 (Accepted) 1-1-2002-5127316-12
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2004.01.09 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2004.02.13 수리 (Accepted) 9-1-2004-0008916-77
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2004.06.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2004-0246096-41
6 지정기간연장신청서
Request for Extension of Designated Period
2004.08.18 수리 (Accepted) 1-1-2004-0369017-15
7 의견서
Written Opinion
2004.09.24 수리 (Accepted) 1-1-2004-0436472-15
8 명세서 등 보정서
Amendment to Description, etc.
2004.09.24 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2004-0436473-61
9 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2004.11.08 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2004-0471566-10
10 명세서 등 보정서 (심사전치)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2005.01.07 보정승인 (Acceptance of amendment) 7-1-2005-0000284-10
11 등록결정서
Decision to grant
2005.02.07 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2005-0066207-91
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2005.04.15 수리 (Accepted) 4-1-2005-5036534-08
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.04.17 수리 (Accepted) 4-1-2013-0013766-37
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.08.24 수리 (Accepted) 4-1-2020-5189497-57
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
a) 연성 고분자 기판 위에 연성 재질의 하부 전극이 형성되고, 상기 기판과 하부 전극의 상부에 유기물질의 절연막이 도포되는 단계; b) a) 단계가 완료되면, 상기 하부 전극과 대응되는 위치의 절연막의 상부에 알루미늄(Al), Au, Si3N4 또는 SiO2와 같은 물질의 마스크가 도포되는 단계; c) 상기 b) 단계를 통해 마스크가 도포되면, 건식 식각을 이용하여 절연막을 패터닝(patterning)하는 단계; 및 d) 상기 c) 단계를 통해 절연막 패터닝이 완료되면, 상기 하부 전극의 일부 영역에 상부 전극이 형성되는 단계 를 포함하는 박막 다이오드의 제조 방법
2 2
삭제
3 3
a) 고분자 연성 기판 위에 연성 재질의 하부 전극이 형성되고, 상기 하부 전극의 상부에 알루미늄(Al) 또는 금(Au) 재질의 제1 마스크를 도포한 후, 상기 제1 마스크와 기판의 상부에 유기물질의 절연막을 도포하는 단계; b) 상기 a) 단계가 완료되면, 상기 절연막의 상부에 제1 마스크와 동일한 두께와 동일한 재질로 제1 마스크와 대응되는 위치에 제2 마스크를 도포하는 단계; c) 상기 c) 단계에서 제2 마스크가 도포되면 건식 식각을 이용하여 절연막을 패터닝(patterning)하는 단계; 및 d) 상기 c) 단계를 통해 절연막 패터닝이 완료되면, 상기 하부 전극의 일부 영역에 상부 전극이 형성되는 단계 를 포함하는 박막 다이오드의 제조 방법
4 4
삭제
5 5
제 1 항 또는 제 3 항에 있어서, 상기 a) 단계 및 d) 단계에서 형성되는 하부 전극과 상부 전극은, 알루미늄(Al), 은(Ag), 니켈(Ni), 구리(Cu), 투명전도막 또는 투명도전성 소재와 같은 연성 재질을 사용하는 박막 다이오드의 제조 방법
6 6
제 1 항 또는 제 3 항에 있어서, 상기 a) 단계 및 d) 단계에서 하부 전극과 상부 전극을 형성하는 단계는, 건식 박막 증착 및 뒤이은 사진 식각 공정으로 형성되는 박막 다이오드의 제조방법
7 7
제 1 항 또는 제 3 항에 있어서, 상기 a) 단계 및 d) 단계에서 하부 전극과 상부 전극을 형성하는 단계는, 사진 식각 공정으로 형성되는 박막 다이오드의 제조방법
8 8
제 1 항 또는 제 3 항에 있어서, 상기 a) 단계 및 d) 단계에서 하부 전극과 상부 전극을 형성하는 단계에서 사진 식각 공정만을 이용할 경우에 나노 금속입자와 감광제를 혼합하여 사용하는 박막 다이오드의 제조방법
9 9
제 1 항 또는 제 3 항에 있어서, 상기 a) 단계에서 형성되는 절연막은 PVP(PolyVinylphenole), PVP 도핑(doped)된 폴리마이드(polymide), PMMA(Polymethylmethacrylate)와 같은 유기물질을 사용하는 박막 다이오드의 제조방법
10 10
제 1 항 또는 제 3 항에 있어서, 상기 c) 단계에서 상기 절연막의 패터닝시 건식 식각은 반응성 이온 식각을 사용하는 박막 다이오드의 제조 방법
11 11
제 1 항 또는 제 3 항에 있어서, 상기 a) 단계에서 상기 절연막을 도포하는 방법은 스핀 코팅(spin coating), 스크린 프린팅(screen printing), 잉크젯(ink jet) 분사 방법을 이용하는 박막 다이오드의 제조 방법
12 12
연성 고분자 기판 위에 일정한 두께로 형성되는 연성 재질의 하부 전극; 상기 하부 전극의 상부면을 따라 유기물질로 형성되는 절연막; 상기 절연막의 상부면을 따라 상기 절연막의 패터닝(patterning)을 위해 도포되는 알루미늄(Al), Au, Si3N4 또는 SiO2로 이루어진 마스크; 상기 마스크의 상부에 기판의 상부면 일부와 상기 하부 전극, 절연막, 및 마스크를 감싸도록 형성되는 상부 전극 을 포함하는 박막 다이오드
13 13
삭제
14 14
연성 고분자 기판 위에 일정한 두께로 형성되는 연성 재질의 하부 전극; 상기 하부전극의 상부면을 따라 형성되는 알루미늄 또는 Au 재질의 제1 마스크; 상기 제1 마스크의 상부면을 따라 유기물질로 형성되는 절연막; 상기 절연막 상부면을 따라 상기 절연막의 패터닝(patterning)을 위해 상기 제1 마스크와 동일한 두께로 도포되는 알루미늄 또는 Au 재질의 제2 마스크; 상기 제2 마스크의 상부에 기판의 상부면 일부와 상기 하부 전극, 제1 마스크, 절연막, 및 제2 마스크를 감싸도록 형성되는 상부 전극 을 포함하는 박막 다이오드
15 15
삭제
16 16
제 13 항에 있어서, 상기 하부 전극 및 상부 전극의 재질은, 알루미늄(Al), 은(Ag), 니켈(Ni), 구리(Cu), 투명전도막 또는 투명도전성 소재와 같은 연성 재질을 사용하는 박막 다이오드
17 16
제 13 항에 있어서, 상기 하부 전극 및 상부 전극의 재질은, 알루미늄(Al), 은(Ag), 니켈(Ni), 구리(Cu), 투명전도막 또는 투명도전성 소재와 같은 연성 재질을 사용하는 박막 다이오드
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.