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액적 토출용 노즐 제조 방법 및 이를 이용해 제조된 노즐을 이용한 정전식 액적 토출 장치

  • 기술번호 : KST2015145856
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 반도체, 디스플레이, PCB, 태양전지 등 미세한 패턴이 필요한 분야에서 마이크로미터 크기의 액적을 기판 위에 토출하여 미세한 패턴을 직접 형성하는데 사용되는 정전식 액적 토출 장치 및 그 토출 장치에 사용되는 정액적 토출용 노즐을 제조하는 방법이 개시되어 있다. 방법은 a) 기판 상에 적어도 하나의 실리콘 기둥을 형성하는 단계; b) 충전재를 상기 적어도 하나의 실리콘 기둥 주위에 채우는 단계; c) 상기 충전재의 상부를 평탄화하여, 상기 적어도 하나의 실리콘 기둥의 상단부를 노출시키는 단계; d) 상기 기판의 후면에 상기 적어도 하나의 실리콘 기둥의 위치에 구멍을 뚫어 상기 적어도 하나의 기둥의 후단부를 노출시키는 단계; 및 e) 상기 적어도 하나의 실리콘 기둥을 제거하는 단계를 포함한다.
Int. CL B41J 2/175 (2006.01) B41J 2/16 (2006.01)
CPC B41J 2/1433(2013.01) B41J 2/1433(2013.01) B41J 2/1433(2013.01) B41J 2/1433(2013.01) B41J 2/1433(2013.01)
출원번호/일자 1020110110900 (2011.10.28)
출원인 전자부품연구원
등록번호/일자 10-1249723-0000 (2013.03.27)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20130402) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2011.10.28)
심사청구항수 8

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자기술연구원 대한민국 경기도 성남시 분당구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이경일 대한민국 경기도 과천시
2 조진우 대한민국 경기도 성남시 분당구
3 김성현 대한민국 경기도 용인시 수지구
4 이철승 대한민국 경기도 성남시 분당구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 홍순우 대한민국 서울특별시 서초구 서초중앙로 **, 영진벤처빌딩 *층 (서초동)(라온국제특허법률사무소)
2 김해중 대한민국 서울특별시 서초구 서초중앙로 **, 영진벤처빌딩 *층 라온국제특허법률사무소 (서초동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자기술연구원 경기도 성남시 분당구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2011.10.28 수리 (Accepted) 1-1-2011-0846219-73
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2013.01.30 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2013.03.06 수리 (Accepted) 9-1-2013-0011790-93
4 등록결정서
Decision to grant
2013.03.25 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0198731-87
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.04.17 수리 (Accepted) 4-1-2013-0013766-37
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.08.24 수리 (Accepted) 4-1-2020-5189497-57
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
a) 기판 상에 적어도 하나의 실리콘 기둥을 형성하는 단계;b) 충전재를 상기 적어도 하나의 실리콘 기둥 주위에 채우는 단계;c) 상기 충전재의 상부를 평탄화하여, 상기 적어도 하나의 실리콘 기둥의 상단부를 노출시키는 단계;d) 상기 기판의 후면에 상기 적어도 하나의 실리콘 기둥의 위치에 구멍을 뚫어 상기 적어도 하나의 기둥의 후단부를 노출시키는 단계; 및e) 상기 적어도 하나의 실리콘 기둥을 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 액적 토출용 노즐 제조 방법
2 2
제 1 항에 있어서,상기 기판은 유리 기판 및 실리콘 기판이 상호 부착된 것을 포함하며, 상기 적어도 하나의 실리콘 기둥은 상기 실리콘 기판을 에칭하여 형성하는 것을 특징으로 하는 액적 토출용 노즐 제조 방법
3 3
제 1 항에 있어서,상기 액적 토출용 노즐 제조 방법은 f) 상기 단계 a) 이후, 상기 적어도 하나의 실리콘 기둥 상에 노즐 몸체용 막을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 액적 토출용 노즐 제조 방법
4 4
제 1 항에 있어서,상기 액적 토출용 노즐 제조 방법은g) 상기 단계 c) 이 후, 상기 평탄화된 충전재를 가공하여 노즐의 외형을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 액적 토출용 노즐 제조 방법
5 5
제 4 항에 있어서,상기 단계 g)는 상기 평탄화된 충전재 상부에 DFR을 부착하고, 상기 DFR을 패터닝한 후, 상기 패터닝된 DFR을 마스크로 하는 샌딩 공정으로 상기 노즐의 외형을 형성하는 것을 특징으로 하는 액적 토출용 노즐 제조 방법
6 6
제 4 항에 있어서, 상기 단계 d)는 상기 기판 후면 상에 DFR를 부착하고, 상기 DFR를 패터닝한 후, 상기 패터닝된 DFR을 마스크로 하는 샌딩 공정으로 상기 구멍을 형성하는 것을 특징으로 하는 액적 토출용 노즐 제조 방법
7 7
A) 제 1 기판의 일면 상에 적어도 하나의 실리콘 기둥을 형성하는 단계;B) 상기 제 1 기판과 상기 적어도 하나의 실리콘 기둥 사이에 상기 적어도 하나의 실리콘 기둥이 묻히도록 충전재를 채우는 단계;C) 상기 충전재의 상부를 평탄화한 후, 상기 평탄화된 충전재 상에 제 2 기판을 부착하는 단계;D) 상기 제 2 기판의 후면에 DFR 패터닝 및 샌딩 공정으로 상기 적어도 하나의 실리콘 기둥의 위치에 구멍을 뚫어 상기 적어도 하나의 기둥의 상단부를 노출시키는 단계; E) 상기 충전재를 스토퍼로서 상기 제 1 기판의 후면으로부터 식각하여 상기 제 1 기판을 제거하는 단계;F) 단계 E) 이후, 노출되는 상기 충전재를 노즐 외경 DFR 패터닝 및 샌딩 공정을 통해 노즐 외경을 형성하는 단계; 및G) 단계 F)에 의해 노출되는 상기 적어도 하나의 실리콘 기둥을 제거하여 노즐의 구멍을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 액적 토출용 노즐 제조 방법
8 8
제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 의해 제조된 노즐;상기 노즐의 후면에 형성되며, 잉크통과 연결되어 상기 잉크 통으로부터 잉크를 수용하고, 잉크를 상기 노즐에 공급하기 위한 연결부; 및상기 연결부와 기판 사이에 고압을 제공하기 위한 고압 발생기를 포함하는 정전식 액적 토출 장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 지식경제부 전자부품연구원 전략기술개발사업 다이렉트 나노패터닝용 고해상도 EHD 인쇄모듈 기술 개발