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광원발생장치로부터 입사되는 광을 표면 물질의 변화에 의해 두 편광간 위상변화가 발생하도록 하는 광도파로;
상기 광도파로의 두 편광에 대해 45°의 각도로 기울어져 있으며, 상기 광도파로로부터 출력된 광의 위상을 지연지키기 위한 1/4 파장 위상지연기;
광이 통과하지 못하는 불투명 영역이 형성되고 축 회전이 가능하며, 상기 1/4 파장 위상지연기를 통과한 광을 필터링하기 위한 편광자; 및
상기 편광자를 통과한 광의 광세기를 전기적 신호로 변환하는 광검출기
를 포함하는 편광간섭 표면 검출장치
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광원발생장치로부터 입사되는 광을 표면 물질의 변화에 의해 두 편광간 위상변화가 발생하도록 하는 광도파로;
상기 광도파로의 두 편광에 대해 45°의 각도로 기울어져 있으며, 상기 광도파로로부터 출력된 광의 위상을 지연지키기 위한 1/4 파장 위상지연기;
상기 1/4 파장 위상 지연기를 통과한 광의 위상을 지연시키기 위한 불투명 영역이 존재하고 축 회전이 가능한 1/2 파장 위상지연기;
상기 1/2 파장 위상지연기를 통과한 광을 필터링하기 위한 편광자; 및
상기 편광자를 통과한 광의 광세기를 전기적 신호로 변환하는 광검출기
를 포함하는 편광간섭 표면 검출장치
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삭제
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제 1항 또는 제 2항에 있어서,
상기 광원발생장치로부터 상기 광도파로에 상기 광원을 전달하는 광파이버; 및
상기 광원을 상기 광파이버로부터 상기 광도파로에 원활히 입사시키기 위한 파이버 블록 및 도파로 블록을 더 포함하는 편광간섭 표면 검출장치
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제 1항 또는 제 2항에 있어서,
상기 광검출기로부터의 전기적 신호를 저장하고 분석하는 신호처리장치를 더 포함하는 편광간섭 표면 검출장치
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6
제 1항 또는 제 2항에 있어서,
상기 광도파로로 입사되는 광은 45°의 편극 각도로 입사되는 편광간섭 표면 검출장치
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광이 광도파로를 거치면서 상기 광도파로 표면의 물질 변화에 따라 두 편광간에 위상변화가 발생하는 단계;
상기 광도파로로부터 출력된 광이 위상지연기와 편광자를 통과하면서 변환되는 단계;
변환된 상기 광을 광검출기에서 검출하여 광세기를 전기적 신호로 변환하는 단계; 및
상기 전기적 신호를 신호처리장치에서 저장하고, 하기의 [수학식 8] 또는 [수학식 15]을 이용하여 연속적으로 상기 편광간 위상변화를 검출하는 단계
를 포함하는 편광간 위상변화 검출방법
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8
광이 광도파로를 거치면서 상기 광도파로 표면의 물질 변화에 따라 두 편광간에 위상변화가 발생하는 단계;
상기 광도파로로부터 출력된 광이 위상지연기와 편광자를 통과하면서 변환되는 단계;
변환된 상기 광을 광검출기에서 검출하여 광세기를 전기적 신호로 변환하는 단계; 및
상기 전기적 신호를 신호처리장치에서 저장하고, 주파수 성분의 크기를 검출한 후, 하기의 [수학식 20]을 이용하여 연속적으로 상기 편광간 위상변화를 검출하는 단계
를 포함하는 편광간 위상변화 검출방법
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