요약 |
본 발명은 N-아세틸 파이토스핑고신 유도체와 다이메틸 파이토스핑고신 유도체를 함께 포함하는 방사선 치료 증진제 조성물에 관한 것으로, 더욱 상세하게는, 암을 치료하기 위하여 암세포에 방사선을 조사하기 전, 또는 조사하는 동안 투여하여 방사선 치료 증진 효과를 나타낼 수 있는 하기 일반식(Ⅰ)의 N-아세틸 파이토스핑고신과 일반식(Ⅱ)의 다이메틸 파이토스핑고신의 병용에 따른 새로운 방사선 치료 증진제 조성물에 관한 것이다.(일반식 Ⅰ)(일반식 Ⅱ) 상기 식에서, R1, R2, R3 는 각각 서로 독립적으로 탄소수 1∼4의 저급알킬 또는 치환된 저급알킬이다. 상기 일반식(Ⅰ)과 일반식(Ⅱ)는 고농도에서는 세포 독성을 나타내나 정상 세포에 손상을 주지 않는 농도로 방사선을 함께 처리함에 있어서, 방사선 치료의 선량을 낮추면서도 고선량 처치와 동일한 효과를 얻을 수가 있고, 정상세포에의 부작용을 현저히 줄일 수 있는 효과가 있으므로 방사선 치료의 효율을 극대화할 수 있다.N-아세틸 파이토스핑고신, 다이메틸 파이토스핑고신, 방사선 치료, 민감작용, 조성물, 암세포
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