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효율적인 계산 시간을 갖는 이온주입 수치 해석 방법

  • 기술번호 : KST2015157275
  • 담당센터 : 인천기술혁신센터
  • 전화번호 : 032-420-3580
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 반도체 장치의 이온주입 공정에 대한 수치 해석기 구축에 관한 것으로서, 복잡한 토폴로지 형태를 갖는 다층 구조의 대면적 시뮬레이션 영역에서 빠른 수행 시간을 갖는 이온주입 시뮬레이터 제작 방법을 제공한다. 본 발명의 이온주입 공정 시뮬레이터는 계산 시간의 최적화를 위해서 단위 공간에서 가상 궤적 발생법(trajectory split method)을 적용하여 계산하였으며, 계산된 결과를 대면적 구조에 적용하기 위하여 이온 분포 복사법(ion distribution replica method)을 개발하여 적용하였다. 본 발명의 이온주입 시뮬레이터는 3차원 반도체 구조 형성을 위하여 3차원 공정 시뮬레이터 3D-SURFILER의 한 모듈로서 개발되었다. 이와 같이 본원 발명은 정확한 물리적 해석을 기반으로 한 이온주입 모델과 연계하여 서브 하프 마이크론급 미세 소자의 시뮬레이션에 적용한다면, ULSI 소자 개발비용 및 시간을 크게 단축시킬 수 있으리라 기대된다. 반도체, 이온주입, 수치해석, 시뮬레이션, 가상 궤적 방법, 이온 분포 복사법
Int. CL H01L 21/265 (2006.01) H01L 21/66 (2006.01)
CPC H01L 21/265(2013.01) H01L 21/265(2013.01) H01L 21/265(2013.01)
출원번호/일자 1020040099631 (2004.12.01)
출원인 인하대학교 산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2006-0060848 (2006.06.07) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 취하
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 N
심사청구항수 2

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 인하대학교 산학협력단 대한민국 인천광역시 미추홀구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 원태영 대한민국 서울특별시 강남구
2 윤상호 대한민국 인천광역시 연수구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이원희 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, 성지하이츠빌딩*차 ***호 (역삼동)

최종권리자

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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 2004.12.01 수리 (Accepted) 1-1-2004-0565031-97
2 서지사항 보정서
Amendment to Bibliographic items		 2004.12.06 수리 (Accepted) 1-1-2004-0572439-75
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2005.01.17 수리 (Accepted) 4-1-2005-0001909-78
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2005.02.05 수리 (Accepted) 4-1-2005-0004879-11
5 출원인변경신고서
Applicant change Notification		 2006.02.02 수리 (Accepted) 1-1-2006-0079748-61
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2008.03.07 수리 (Accepted) 4-1-2008-0003929-31
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2008.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2008-5093865-89
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2009.11.17 수리 (Accepted) 4-1-2009-5220324-82
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.07.22 수리 (Accepted) 4-1-2015-5098802-16
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2016.09.05 수리 (Accepted) 4-1-2016-5127132-49
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2018.03.02 수리 (Accepted) 4-1-2018-5036549-31
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266647-91
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번호 청구항
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효율적인 계산 시간을 갖는 3차원 이온주입 수치해석 방법에 있어서, 3차원 이온주입을 위해 이온 분포 복사 방법을 적용하는 단계; 다층 이온주입 계산을 위해 레이어 판별 알고리즘을 적용하는 단계; 및 표면 단차가 있는 구조에 대하여 이온주입을 적용하는 단계 를 포함하는 것을 특징으로 수치해석 방법
2 2
제1항에 있어서, 다른 공정 시뮬레이터와 연계하여 적용할 수 있는 것을 특징으로 하는 반도체 공정 수치해석 방법
3 2
제1항에 있어서, 다른 공정 시뮬레이터와 연계하여 적용할 수 있는 것을 특징으로 하는 반도체 공정 수치해석 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.