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반도체 웨이퍼 폴리싱 장치의 유동헤드장치

  • 기술번호 : KST2015157327
  • 담당센터 : 인천기술혁신센터
  • 전화번호 : 032-420-3580
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명에 개시된 반도체 웨이퍼 폴리싱 장치의 유동헤드는 폴리싱 패드를 형성한 테이블과, 상기 테이블의 폴리싱 표면에 대하여 웨이퍼를 유지하기 위하여 고정자로 설치된 유동헤드로 구성된 반도체 웨이퍼 폴리싱 장치에 있어서, 상기 유동헤드에는 내부에 웨이퍼의 가압력과 마찰력을 측정하기 위하여 설치되는 로드셀과 피에조센서로 구성된 감지수단이 설치된다.이와 같은 반도체 웨이퍼 폴리싱 장치의 유동헤드는 집적회로 등이 만들어지게 되는 반도체 웨이퍼 재료를 폴리싱하는 것에 관한 것이다. 즉, 폴리싱 패드 표면에 대한 최적의 마찰력과 가압력이 유지되도록 유동헤드에 설치되는 로드셀과 피에조센서를 이용 웨이퍼에 전달되는 진동 감지뿐만 아니라 마찰력과 가압력 신호를 출력하여 파이널 폴리싱이 정밀하게 도모되도록 한 효과가 있다.웨이퍼, 폴리싱헤드, 유동헤드, 모니터링, 로드셀,
Int. CL H01L 21/304 (2006.01)
CPC
출원번호/일자 1020060083679 (2006.08.31)
출원인 인하대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-0796466-0000 (2008.01.15)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20080121) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2006.08.31)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 인하대학교 산학협력단 대한민국 인천광역시 미추홀구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이은상 대한민국 인천 남구
2 원종구 대한민국 인천 남구
3 이정택 대한민국 인천 남구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이은철 대한민국 서울특별시 송파구 법원로**길 **, A동 *층 ***호 (문정동, H비지니스파크)(*T국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 인하대학교 산학협력단 대한민국 인천광역시 미추홀구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2006.08.31 수리 (Accepted) 1-1-2006-0631834-94
2 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.
2006.09.04 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2006-0637623-07
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2007.06.07 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2007.07.12 수리 (Accepted) 9-1-2007-0043464-11
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2007.07.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2007-0419897-12
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2007.09.13 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2007-0663573-01
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2007.09.13 수리 (Accepted) 1-1-2007-0663574-46
8 등록결정서
Decision to grant
2008.01.14 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0017054-78
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.03.07 수리 (Accepted) 4-1-2008-0003929-31
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2008-5093865-89
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.11.17 수리 (Accepted) 4-1-2009-5220324-82
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.07.22 수리 (Accepted) 4-1-2015-5098802-16
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2016.09.05 수리 (Accepted) 4-1-2016-5127132-49
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.03.02 수리 (Accepted) 4-1-2018-5036549-31
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266647-91
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
폴리싱 패드를 형성한 테이블과, 상기 테이블의 폴리싱 표면에 대하여 웨이퍼를 유지하기 위하여 고정자로 설치된 유동헤드로 구성된 반도체 웨이퍼 폴리싱 장치에 있어서,상기 유동헤드에는 내부에 웨이퍼의 가압력과 마찰력을 측정하기 위하여 설치되는 로드셀과 피에조센서로 구성된 감지수단이 설치되는 것을 특징으로 하는 반도체 폴리싱 장치의 유동헤드
2 2
청구항 1에 있어서, 상기 유동헤드는 고정자의 분기로드 사이에 개재되는 롤로 연결 설치되는 것을 특징으로 하는 반도체 폴리싱 장치의 유동헤드
3 3
청구항 1에 있어서,상기 유동헤드에는 마찰력을 측정하게 플래튼의 저부에 플렉시블 피에조센서가 설치되는 것을 특징으로 하는 반도체 폴리싱 장치의 유동헤드
4 4
청구항 1에 있어서,상기 유동헤드에는 프레임의 바닥 가장자리 둘레에 설치되는 리테이너링의 내측에 설치된 웨이퍼와, 상기 웨이퍼와 프레임 사이에 로드셀이 설치되는 것을 특징으로 하는 반도체 폴리싱 장치의 유동헤드
5 5
청구항 1에 있어서,상기 유동헤드에는 웨이퍼의 전체적인 가압력을 검출하게 다섯 개 이상 로드셀이 설치되어 구성되는 것을 특징으로 하는 반도체 폴리싱 장치의 유동헤드
6 6
청구항 1에 있어서,상기 로드셀은 센터 및 주변 사방에 일정 간격을 두고 각각 배치되는 것을 특징으로 하는 반도체 폴리싱 장치의 유동헤드
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1 US7294041 US 미국 DOCDBFAMILY
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