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용매에 라디칼 중합 단량체, 분산안정제, 가교제 및 개시제를 투입하되 가교제의 투입 중량이 라디칼 중합성 단량체, 개시제, 가교제, 분산안정제 및 용매 전체 합계 100 중량%에 대하여 0
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제 4항에 있어서, 상기 라디칼 중합성 단량체는 스티렌, p-메틸스티렌, m-메틸스티렌, p-에틸스티렌, m-에틸스티렌, p-클로로스티렌, m-클로로스티렌, p-클로로메틸스티렌, m-클로로메틸스티렌, 스티렌설포닉에시드, p-t-부톡시스티렌, m-t-부톡시스티렌, 플로로스티렌, 알파메틸스티렌, 비닐톨루엔, 클로로스티렌, 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 옥틸(메타)아크릴레이트, 스테아릴(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트, 글리시딜(메타)아크릴레이트, 플루오르에틸아크릴레이트, 트리플루오르에틸메타크릴레이트, 펜타플루오르프로필메타크릴레이트, 플로로에틸메타크릴레이트, 헥사플루오르부틸(메타)아크릴레이트, 헥사플루오르이소프로필메타크릴레이트, 퍼플루오르알킬아크릴레이트, 옥타플루오르페닐메타크릴레이트, 비닐아세테이트, 비닐프로피오네이트, 비닐부틸레이트, 비닐에테르, 알릴부틸에테르, 알릴글리시딜에테르, (메타)아크릴산, 말레산, 알킬(메타)아크릴아미드 및 (메타)아크릴로니트릴로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 화합물인 것을 특징으로 하는 타원체 하이브리드 입자의 제조방법
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제 4항에 있어서, 라디칼 중합성 단량체의 투입 중량은 라디칼 중합성 단량체, 개시제, 가교제, 분산안정제 및 용매 전체 합계 100 중량%에 대하여 1 ~ 50 중량%인 것을 특징으로 하는 타원체 하이브리드 입자의 제조방법
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제 4항에 있어서, 상기 가교제는 디비닐벤젠, 1,4-디비닐옥시부탄, 디비닐술폰, 디알릴프탈레이트, 디알릴아크릴아미드, 트리알릴(이소)시아누레이트, 트리알릴트리멜리테이트, 헥산디올디아크릴레이트, 에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 디에틸렌글리콜메타크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 트리메틸렌프로판트리메타크릴레이트, 1,3-부탄디올메타크릴레이트, 1,6-헥산디올디메타크릴레이트, 펜타에릴트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 펜타에릴트리톨트리(메타)아크릴레이트, 펜타에릴트리톨디(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판, 트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에릴트리톨헥사(메타)아크릴레이트, 디펜타에릴트리톨펜타(메타)아크릴레이트, 글리세롤트리(메타)아크릴레이트 및 알릴(메타)아크릴레이트로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 화합물인 것을 특징으로 하는 타원체 하이브리드 입자의 제조방법
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제 4항에 있어서, 상기 개시제는 벤조일퍼옥사이드, 라우릴퍼옥사이드, 큐멘하이드로퍼옥사이드, 메틸에틸케톤퍼옥사이드, t-부틸하이드로퍼옥사이드, t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, t-헥실퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, 1,1,3,3-테트라메틸부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, 2,2''-아조비스이소부티로니트릴, 2,2''-아조비스2,4-디메틸발레로니트릴, 2,2''-아조비스2-메틸이소부티로니트릴, 암모늄퍼설페이트, 포타슘퍼설페이트, 소듐퍼설페이트, 암모늄바이설페이트 및 소듐바이설페이트로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 화합물인 것을 특징으로 하는 타원체 하이브리드 입자의 제조방법
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제 4항에 있어서, 상기 개시제의 투입 중량은 라디칼 중합성 단량체, 가교제, 개시제, 분산안정제 및 용매 전체 합계 100 중량%에 대하여 0
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제 4항에 있어서, 상기 분산안정제는 메틸셀룰로스, 에틸셀룰로스, 하이드록시프로필셀룰로스, 폴리비닐알콜, 폴리비닐메틸에테르, 폴리아크릴산, 폴리비닐아세테이트, 폴리비닐피롤리돈 및 비닐피롤리돈-비닐아세테이트 공중합체로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 화합물인 것을 특징으로 하는 타원체 하이브리드 입자의 제조방법
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제 4항에 있어서, 상기 분산안정제의 투입 중량은 라디칼 중합성 단량체, 가교제,개시제, 분산안정제 및 용매 전체 합계 100 중량%에 대하여 0
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제 4항에 있어서, 상기 자성 무기 입자는 산화철, 니켈, 코발트, 크롬, 백금, 망간, 알루미늄, 비스무스, 안티모니, 금 또는 은인 것을 특징으로 하는 타원체 하이브리드 입자의 제조방법
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