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형광 표면증강 라만 산란 나노-표지 입자 및 이의 제조방법

  • 기술번호 : KST2015159630
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 생체 분석 물질을 빠르게 추적(tracking), 표적(targeting) 및 형상(imaging) 하는데 이용할 수 있는 형광 표면증강 라만 산란 나노-표지 입자 및 이의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 형광 표면증강 라만 산란 나노-표지 입자는 형광 및 라만 산란에 매우 민감하기 때문에 생체 분석 물질을 보다 쉽고, 빠르게 분석할 수 있다. 따라서, 본 발명에 따른 형광 표면증강 라만 산란 나노-표지 입자는 세포와 조직에서 암 또는 다른 질병과 관련된 다양한 세포학적 및 분자학적 현상의 분석에 쉽게 이용될 수 있다. 라만, 형광, 나노-표지입자, 아포프토시스
Int. CL A61K 49/08 (2006.01) A61K 9/16 (2006.01)
CPC A61K 49/0093(2013.01) A61K 49/0093(2013.01) A61K 49/0093(2013.01) A61K 49/0093(2013.01) A61K 49/0093(2013.01)
출원번호/일자 1020070060545 (2007.06.20)
출원인 재단법인서울대학교산학협력재단
등록번호/일자 10-1006700-0000 (2010.12.31)
공개번호/일자 10-2008-0111950 (2008.12.24) 문서열기
공고번호/일자 (20110110) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2008.04.04)
심사청구항수 14

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 재단법인서울대학교산학협력재단 대한민국 서울특별시 관악구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이윤식 대한민국 경기 안양시 동안구
2 정대홍 대한민국 서울 관악구
3 조명행 대한민국 서울 관악구
4 이상명 대한민국 서울 관악구
5 김종호 대한민국 서울 동작구
6 유경남 대한민국 경기 용인시 구
7 전봉현 대한민국 대구 북구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 신성특허법인(유한) 대한민국 서울특별시 송파구 중대로 ***, ID타워 ***호 (가락동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 주식회사 지티아이바이오사이언스 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2007.06.20 수리 (Accepted) 1-1-2007-0446599-08
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.01.29 수리 (Accepted) 4-1-2008-5015497-73
3 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2008.04.04 수리 (Accepted) 1-1-2008-0247253-94
4 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2008.04.14 불수리 (Non-acceptance) 1-1-2008-0264430-12
5 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2008.04.14 수리 (Accepted) 1-1-2008-0264832-63
6 서류반려이유안내서
Notice of Reason for Return of Document
2008.04.15 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2008-0051421-65
7 서류반려안내서
Notification for Return of Document
2008.07.17 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2008-0088526-16
8 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2010.05.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0224876-39
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2010.07.26 수리 (Accepted) 1-1-2010-0479811-49
10 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2010.07.26 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2010-0479810-04
11 등록결정서
Decision to grant
2010.09.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0437927-10
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.08.22 수리 (Accepted) 4-1-2014-5100909-62
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.03.20 수리 (Accepted) 4-1-2015-5036045-28
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
실리카 중심 입자; 상기 실리카 중심 입자 주변을 둘러싸고 있는 은나노입자층; 상기 은나노입자층을 둘러싸고 있는 극성고분자층; 상기 극성고분자층을 둘러싸고 있고, 형광물질을 포함하는 실리카 껍질; 및 상기 실리카 껍질을 둘러싸고 있는 기능기층 으로 이루어진 형광 표면증강 라만 산란 나노-표지 입자
2 2
제 1 항에 있어서, 상기 은나노입자층의 은나노입자 표면이 표지물질로 코팅되어 있는 형광 표면증강 라만 산란 나노-표지 입자
3 3
제 2 항에 있어서, 상기 표지물질은 2-메틸벤젠티올, 4-메틸벤젠티올, 4-머켑토피리딘, 2-나프탈렌티올, 4-메톡시벤젠티올, 3-메톡시벤젠티올, 3,4-디메틸벤젠티올, 티오페놀, 3,5-디메틸벤젠티올, 아미노티오페놀 및 4-머켑토톨루엔으로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상인 형광 표면증강 라만 산란 나노-표지 입자
4 4
제 1 항에 있어서, 상기 극성고분자는 폴리비닐피롤리돈, 폴리에틸렌이민 및 폴리비닐알코올로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상인 형광 표면증강 라만 산란 나노-표지 입자
5 5
제 1 항에 있어서, 상기 형광물질은 플루오레세인 이소티오시아네이트, 로다민 6G 이소티오시아네이트, Cy3, Cy5, 알렉사플루오로 405, 알렉사플루오로 430, 알렉사플루오로 488, 알렉사플루오로 532, 알렉사플루오로 546, 알렉사플루오로 555, 알렉사플루오로 568, 알렉사플루오로 594, 알렉사플루오로 633, 알렉사플루오로 647, 알렉사플루오로 660, 알렉사플루오로 680 및 알렉사플루오로 700으로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나 이상인 형광 표면증강 라만 산란 나노-표지 입자
6 6
제 1 항에 있어서, 상기 기능기층은 폴리에틸렌글리콜과 아민기를 포함하는 형광 표면증강 라만 산란 나노-표지 입자
7 7
실리카 중심 입자 주변에 은나노입자층을 형성시키는 단계; 상기 은나노입자층의 은나노입자 표면에 표지물질을 코팅시키는 단계; 상기 표지물질이 코팅된 은나노입자층 주변에 극성고분자층을 형성시키는 단계; 상기 극성고분자층 주변에 형광물질을 포함하는 실리카 껍질을 형성시키는 단계; 및 상기 실리카 껍질 주변에 기능기층을 형성시키는 단계 를 포함하는 형광 표면증강 라만 산란 나노-표지 입자의 제조방법
8 8
제 7 항에 있어서, 상기 실리카 껍질을 형성시키는 단계는, 형광물질과 3-아미노프로필트리에톡시실란의 혼합물을 실리카 전구 물질 및 암모니아수와 함께 상기 극성고분자층이 형성된 입자에 첨가한 후, 실온에서 6 ~ 12시간 동안 교반하여 수행되는 형광 표면증강 라만 산란 나노-표지 입자의 제조방법
9 9
제 7 항에 있어서, 상기 형광물질과 3-아미노프로필트리에톡시실란의 혼합비는 1:2~1:24인 형광 표면증강 라만 산란 나노-표지 입자의 제조방법
10 10
제 7 항에 있어서, 상기 극성고분자는 폴리비닐피롤리돈, 폴리에틸렌이민 및 폴리비닐알코올로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상인 형광 표면증강 라만 산란 나노-표지 입자의 제조방법
11 11
제 7 항에 있어서, 상기 표지물질은 2-메틸벤젠티올, 4-메틸벤젠티올, 4-머켑토피리딘, 2-나프탈렌티올, 4-메톡시벤젠티올, 3-메톡시벤젠티올, 3,4-디메틸벤젠티올, 티오페놀, 3,5-디메틸벤젠티올, 아미노티오페놀 및 4-머켑토톨루엔으로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상인 형광 표면증강 라만 산란 나노-표지 입자의 제조방법
12 12
제 7 항에 있어서, 상기 형광물질은 플루오레세인 이소티오시아네이트, 로다민 6G 이소티오시아네이트, Cy3, Cy3
13 13
제 7 항에 있어서, 상기 기능기층은 폴리에틸렌글리콜과 아민기를 포함하는 형광 표면증강 라만 산란 나노-표지 입자의 제조방법
14 14
제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 따른 형광 표면증강 라만 산란 나노-표지 입자에 아넥신 V(annexin V)를 도입한 후, 상기 형광 표면증강 라만 산란 나노-표지 입자를 사용하여 아포프토시스를 분석하는 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.