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실리카 중심 입자;
상기 실리카 중심 입자 주변을 둘러싸고 있는 은나노입자층;
상기 은나노입자층을 둘러싸고 있는 극성고분자층;
상기 극성고분자층을 둘러싸고 있고, 형광물질을 포함하는 실리카 껍질; 및
상기 실리카 껍질을 둘러싸고 있는 기능기층
으로 이루어진 형광 표면증강 라만 산란 나노-표지 입자
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2
제 1 항에 있어서,
상기 은나노입자층의 은나노입자 표면이 표지물질로 코팅되어 있는
형광 표면증강 라만 산란 나노-표지 입자
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3
제 2 항에 있어서,
상기 표지물질은 2-메틸벤젠티올, 4-메틸벤젠티올, 4-머켑토피리딘, 2-나프탈렌티올, 4-메톡시벤젠티올, 3-메톡시벤젠티올, 3,4-디메틸벤젠티올, 티오페놀, 3,5-디메틸벤젠티올, 아미노티오페놀 및 4-머켑토톨루엔으로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상인
형광 표면증강 라만 산란 나노-표지 입자
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4
제 1 항에 있어서,
상기 극성고분자는 폴리비닐피롤리돈, 폴리에틸렌이민 및 폴리비닐알코올로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상인
형광 표면증강 라만 산란 나노-표지 입자
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5
제 1 항에 있어서,
상기 형광물질은 플루오레세인 이소티오시아네이트, 로다민 6G 이소티오시아네이트, Cy3, Cy5, 알렉사플루오로 405, 알렉사플루오로 430, 알렉사플루오로 488, 알렉사플루오로 532, 알렉사플루오로 546, 알렉사플루오로 555, 알렉사플루오로 568, 알렉사플루오로 594, 알렉사플루오로 633, 알렉사플루오로 647, 알렉사플루오로 660, 알렉사플루오로 680 및 알렉사플루오로 700으로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나 이상인
형광 표면증강 라만 산란 나노-표지 입자
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6
제 1 항에 있어서,
상기 기능기층은 폴리에틸렌글리콜과 아민기를 포함하는
형광 표면증강 라만 산란 나노-표지 입자
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7
실리카 중심 입자 주변에 은나노입자층을 형성시키는 단계;
상기 은나노입자층의 은나노입자 표면에 표지물질을 코팅시키는 단계;
상기 표지물질이 코팅된 은나노입자층 주변에 극성고분자층을 형성시키는 단계;
상기 극성고분자층 주변에 형광물질을 포함하는 실리카 껍질을 형성시키는 단계; 및
상기 실리카 껍질 주변에 기능기층을 형성시키는 단계
를 포함하는 형광 표면증강 라만 산란 나노-표지 입자의 제조방법
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8
제 7 항에 있어서,
상기 실리카 껍질을 형성시키는 단계는, 형광물질과 3-아미노프로필트리에톡시실란의 혼합물을 실리카 전구 물질 및 암모니아수와 함께 상기 극성고분자층이 형성된 입자에 첨가한 후, 실온에서 6 ~ 12시간 동안 교반하여 수행되는
형광 표면증강 라만 산란 나노-표지 입자의 제조방법
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9
제 7 항에 있어서,
상기 형광물질과 3-아미노프로필트리에톡시실란의 혼합비는 1:2~1:24인
형광 표면증강 라만 산란 나노-표지 입자의 제조방법
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10
제 7 항에 있어서,
상기 극성고분자는 폴리비닐피롤리돈, 폴리에틸렌이민 및 폴리비닐알코올로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상인
형광 표면증강 라만 산란 나노-표지 입자의 제조방법
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11
제 7 항에 있어서,
상기 표지물질은 2-메틸벤젠티올, 4-메틸벤젠티올, 4-머켑토피리딘, 2-나프탈렌티올, 4-메톡시벤젠티올, 3-메톡시벤젠티올, 3,4-디메틸벤젠티올, 티오페놀, 3,5-디메틸벤젠티올, 아미노티오페놀 및 4-머켑토톨루엔으로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상인
형광 표면증강 라만 산란 나노-표지 입자의 제조방법
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12
제 7 항에 있어서,
상기 형광물질은 플루오레세인 이소티오시아네이트, 로다민 6G 이소티오시아네이트, Cy3, Cy3
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13
제 7 항에 있어서,
상기 기능기층은 폴리에틸렌글리콜과 아민기를 포함하는
형광 표면증강 라만 산란 나노-표지 입자의 제조방법
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제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 따른 형광 표면증강 라만 산란 나노-표지 입자에 아넥신 V(annexin V)를 도입한 후, 상기 형광 표면증강 라만 산란 나노-표지 입자를 사용하여 아포프토시스를 분석하는 방법
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