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(a) 외부와 차단될 수 있는 챔버 내의 기판 홀더에 광투과성 기판을 결합하는 단계;(b) 증착물질을 경사 입사각으로 기판에 입사시켜 증착하는 경사 입사각 증착법(glancing angle deposition: GLAD)으로 상기 기판 홀더에 결합된 상기 광투과성 기판의 표면에 금속 증착물질을 증착시켜 상기 광투과성 기판의 표면에 상기 금속 증착물질로 이루어진 다수의 미세 패턴 구조물을 형성하는 단계; 및(c) 상기 다수의 미세 패턴 구조물을 마스크 패턴으로 이용하여 상기 광투과성 기판의 표면을 상기 다수의 미세 패턴 구조물이 제거될 때까지 식각하여 상기 광투과성 기판 상에 다수의 무반사 미세 구조물을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 무반사 미세 구조물의 형성방법
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제 1 항에 있어서,상기 (c) 단계에서 상기 광투과성 기판의 표면을 건식 식각법을 이용하여 식각하는 것을 특징으로 하는 무반사 미세 구조물의 형성방법
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제 1 항에 있어서,상기 (b) 단계에서 상기 광투과성 기판의 표면에 금속 증착물질을 증착하는 방법은 스퍼터링(sputtering), 전자빔 증착법(e-beam evaporation), 열 증착법(thermal evaporation), 레이저 분자빔 증착법(laser molecular beam epitaxy: L-MBE) 및 펄스레이저 증착법(pulsed laser deposition: PLD) 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 무반사 미세 구조물의 형성방법
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제 1 항에 있어서,상기 금속 증착물질은 금, 은, 니켈, 알루미늄, 크롬 중에서 선택된 것을 특징으로 하는 무반사 미세 구조물의 형성방법
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제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광투과성 기판은 판유리인 것을 특징으로 하는 무반사 미세 구조물의 형성 방법
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광투과성 기판; 및상기 광투과성 기판에 경사 입사각 증착법(glancing angle deposition: GLAD)으로 증착시킨 다수의 미세 패턴 구조물을 마스크 패턴으로 식각하여 형성되는 무반사 미세 구조물을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 소자
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제 6 항에 있어서, 상기 미세 패턴 구조물은증착물질을 경사 입사각으로 기판에 입사시켜 증착하는 경사 입사각 증착법(glancing angle deposition: GLAD)으로 상기 광투과성 기판의 표면에 금속 증착물질을 증착시켜 형성되는 것을 특징으로 하는 광학 소자
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제 7 항에 있어서, 상기 무반사 미세 구조물은상기 광투과성 기판의 표면을 상기 다수의 미세 패턴 구조물이 제거될 때까지 식각하여 상기 광투과성 기판 상에 형성되는 것을 특징으로 하는 광학 소자
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제 8 항에 있어서,상기 관투과성 기판의 표면에 금속 증착물질을 증착하는 방법은 스퍼터링(sputtering), 전자빔 증착법(e-beam evaporation), 열 증착법(thermal evaporation), 레이저 분자빔 증착법(laser molecular beam epitaxy: L-MBE) 및 펄스레이저 증착법(pulsed laser deposition: PLD) 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 광학 소자
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제 8 항에 있어서,상기 금속 증착물질은 금, 은, 니켈, 알루미늄, 크롬 중에서 선택된 것을 특징으로 하는 광학 소자
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제 6 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광투과성 기판은 판유리인 것을 특징으로 광학 소자
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