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제1고분자를 유기 용매에 용해시킨 제1용액을 소정의 습도 분위기에서 스핀 코팅하여 제1다공성층을 형성하는 제1단계;제2고분자층에 상기 제1다공성층을 스탬퍼로써 임프린팅하여 제2다공성층을 형성하는 제2단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 다공성층의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 제1단계는 습도, 스핀 코팅의 속도 및 용액에 포함된 제1고분자의 농도 중 어느 하나를 조절하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 다공성층의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 제1단계에서 습도는,원심력을 이용하여 물을 입자화하는 원심분무 가습 장치, 초음파를 이용하여 물에 진동을 일으키는 초음파 가습 장치 및 통풍되는 젖은 필터를 이용하여 물을 증발시키는 필터 가습 장치 중 어느 하나에 의해 조절되는 것을 특징으로 하는 다공성층 제조방법
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제1항에 있어서,상기 습도는 50% 내지 100%인 것을 특징으로 하는 다공성층의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 스핀 코팅의 속도는 1,000rpm 내지 10,000rpm 인 것을 특징으로 하는 다공성층의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 제1용액에 포함된 제1고분자의 농도는 5 내지 50 중량%인 것을 특징으로 하는 다공성층의 제조방법
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삭제
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제1항에 있어서,상기 제2고분자층은 UV 경화성 또는 열경화성 고분자층인 것을 특징으로 하는 다공성층의 제조방법
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제8항에 있어서,상기 제2단계는,제2고분자가 포함된 제2용액을 코팅하여 상기 제2고분자층을 형성하는 제2-1단계;상기 제2고분자층에 상기 제1다공성층을 스탬퍼로써 압착하는 제2-2단계;상기 제2고분자층에 UV광을 조사하거나 열을 공급하여 상기 제2고분자층을 경화시키는 제2-3단계;상기 제2고분자층과 제1다공성층을 분리시키는 제2-4단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 다공성층의 제조방법
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제9항에 있어서,상기 제2-4단계는,유기 용매를 이용하여 상기 제1다공성층을 용해시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 다공성층의 제조방법
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제9항에 있어서,상기 제2단계는,임프린팅의 압착 압력이 1 kgf/cm2 내지 10 kgf/cm2 인 것을 특징으로 하는 다공성층의 제조방법
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제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 따라 제조되는 다공성층
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제1전극, 상기 제1전극 상에 구비된 발광층, 상기 발광층 상에 구비된 제2전극 및 상기 제2전극 상에 구비된 투명기재를 포함하는 발광소자로서,상기 투명기재 상에 제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 따라 제조되는 다공성층을 포함하는 것을 특징으로 하는 발광소자
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제13항에 있어서,상기 투명기재는 봉지층인 것을 특징으로 하는 발광소자
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제1전극, 상기 제1전극 상에 구비된 발광층, 상기 발광층 상에 구비된 제2전극 및 상기 제2전극 상에 구비된 투명기재를 포함하는 발광소자로서,상기 투명기재와 제2전극 사이에 제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 따라 제조되는 다공성층을 포함하는 것을 특징으로 하는 발광소자
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제15항에 있어서,상기 제2전극과 투명기재 사이에 구비된 캐핑층을 더 포함하며,상기 다공성층은 상기 캐핑층과 투명기재 사이에 구비되는 것을 특징으로 하는 발광소자
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제15항에 있어서,상기 제2전극과 다공성층 사이에 구비된 평탄층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 발광소자
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발광층 및 상기 발광층에서 발광된 광을 통과시키는 투명기재를 포함하는 발광소자로서,상기 투명기재는 제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 따라 제조되는 다공성층인 것을 특징으로 하는 발광소자
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