요약 | 본 발명은 양자점의 전구체를 포함하는 무기 매트릭스 전구체 용액을 제조한 후 기판 위에 회전도포하고 열처리하여 양자점-무기 매트릭스 복합체를 수득하는 것을 특징으로 하는 양자점-무기매트릭스 복합체의 제조방법에 관한 것으로, 본 발명에 의해서 제조되는 양자점-무기매트릭스 복합체는 무기 매트릭스 내에 고효율의 양자점이 고밀도로 충진되어 발광 효율이 우수하고, 저온공정에 의해 용이하게 제조될 수 있어 여러 가지 디스플레이 및 전자소자의 재료로 유용하게 응용될 수 있다.양자점, 무기 매트릭스, 복합체, 무기 매트릭스 전구체 용액, 회전도포, 열처리, 전구체 |
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Int. CL | B82B 3/00 (2006.01) |
CPC | |
출원번호/일자 | 1020080037883 (2008.04.23) |
출원인 | 삼성전자주식회사, 포항공과대학교 산학협력단 |
등록번호/일자 | 10-1462652-0000 (2014.11.11) |
공개번호/일자 | 10-2009-0112159 (2009.10.28) 문서열기 |
공고번호/일자 | (20141117) 문서열기 |
국제출원번호/일자 | |
국제공개번호/일자 | |
우선권정보 | |
법적상태 | 등록 |
심사진행상태 | 수리 |
심판사항 | 심판사항 |
구분 | 신규 |
원출원번호/일자 | |
관련 출원번호 | |
심사청구여부/일자 | Y (2013.04.23) |
심사청구항수 | 9 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 삼성전자주식회사 | 대한민국 | 경기도 수원시 영통구 |
2 | 포항공과대학교 산학협력단 | 대한민국 | 경상북도 포항시 남구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 김성지 | 대한민국 | 경상북도 포항시 남구 |
2 | 이진식 | 대한민국 | 부산광역시 남구 |
3 | 오송주 | 대한민국 | 부산광역시 동래구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 팬코리아특허법인 | 대한민국 | 서울특별시 강남구 논현로**길 **, 역삼***빌딩 (역삼동) |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 삼성전자 주식회사 | 경기도 수원시 영통구 | |
2 | 포항공과대학교 산학협력단 | 경상북도 포항시 남구 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | [특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application |
2008.04.23 | 수리 (Accepted) | 1-1-2008-0291311-10 |
2 | [출원서등 보정]보정서 [Amendment to Patent Application, etc.] Amendment |
2008.04.29 | 수리 (Accepted) | 1-1-2008-0308414-13 |
3 | 보정요구서 Request for Amendment |
2008.05.06 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 1-5-2008-0059994-80 |
4 | [출원서등 보정]보정서 [Amendment to Patent Application, etc.] Amendment |
2008.05.22 | 수리 (Accepted) | 1-1-2008-0364567-81 |
5 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2012.06.21 | 수리 (Accepted) | 4-1-2012-5132663-40 |
6 | [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서 [Appointment of Agent] Report on Agent (Representative) |
2012.07.19 | 수리 (Accepted) | 1-1-2012-0576071-36 |
7 | [심사청구]심사청구(우선심사신청)서 [Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination) |
2013.04.23 | 수리 (Accepted) | 1-1-2013-0357673-10 |
8 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2013.06.13 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-0025573-58 |
9 | 선행기술조사의뢰서 Request for Prior Art Search |
2014.02.07 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
10 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.02.25 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5024386-11 |
11 | 선행기술조사보고서 Report of Prior Art Search |
2014.03.12 | 수리 (Accepted) | 9-1-2014-0022936-54 |
12 | 의견제출통지서 Notification of reason for refusal |
2014.03.26 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2014-0211996-54 |
13 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2014.05.26 | 수리 (Accepted) | 1-1-2014-0492680-53 |
14 | 거절결정서 Decision to Refuse a Patent |
2014.05.30 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2014-0377485-83 |
15 | 명세서 등 보정서(심사전치) Amendment to Description, etc(Reexamination) |
2014.07.02 | 보정승인 (Acceptance of amendment) | 7-1-2014-0025254-81 |
16 | 등록결정서 Decision to grant |
2014.09.04 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2014-0612326-34 |
17 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2019.11.20 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5243581-27 |
18 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2019.11.22 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5245997-53 |
19 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2019.11.25 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5247115-68 |
번호 | 청구항 |
---|---|
1 |
1 한 종류 이상의 양자점 전구체를 포함하는 무기 매트릭스 전구체 용액을 준비하는 단계;상기 단계에서 수득된 용액을 기판 위에 회전도포하여 무기 매트릭스 박막을 형성하는 단계; 및상기 무기 매트릭스 박막을 열처리하여 무기 매트릭스를 형성하면서 그 내부에서 양자점 전구체를 양자점으로 성장시켜 양자점-무기 매트릭스 복합체를 수득하는 단계를 포함하고,상기 무기 매트릭스 전구체 용액은 실란 화합물, 실록산 화합물, 실세스퀴옥산, 퍼하이드로실라잔, 및 실라잔으로 구성되는 군에서 선택되는 1 종을 유기 용매에 용해시켜 얻어지는 것인 양자점-무기 매트릭스 복합체의 제조방법 |
2 |
2 제1항에 있어서, 상기 무기 매트릭스 전구체 용액은 두 종류 이상의 양자점 전구체를 포함하는 것인 양자점-무기 매트릭스 복합체의 제조방법 |
3 |
3 제1항에 있어서, 상기 양자점 전구체는 2족, 13족, 14족, 15족 및 16족 전구체로 구성되는 군에서 선택되는 1종 이상인 양자점-무기 매트릭스 복합체의 제조방법 |
4 |
4 제1항에 있어서, 상기 한 종류 이상의 양자점 전구체를 포함하는 무기 매트릭스 전구체 용액을 준비하는 단계는 각각의 양자점 전구체를 이와 배위 가능한 용매에 용해시킨 양자점 전구체 용액을 무기 매트릭스 전구체 용액에 혼합하는 단계인 양자점-무기 매트릭스 복합체의 제조방법 |
5 |
5 삭제 |
6 |
6 제1항에 있어서, 상기 열처리 단계는 150℃ 내지 300℃의 온도에서 실시되는 것인 양자점-무기 매트릭스 복합체의 제조방법 |
7 |
7 제1항에 있어서, 상기 무기 매트릭스는 SiO2, TiO2, ZrO2, ZnO, ITO 및 SnO로 구성되는 군에서 선택되는 금속산화물 매트릭스인 양자점-무기 매트릭스 복합체의 제조방법 |
8 |
8 제1항에 있어서, 상기 열처리 단계에서 무기 매트릭스 내에 형성되는 양자점은 12-16족 양자점, 13-15족 양자점, 14-16족 양자점, 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상인 양자점-무기 매트릭스 복합체의 제조방법 |
9 |
9 제1항 내지 제4항 및 제6항 내지 제8항 중 어느 한 항의 방법에 의해 제조된 양자점-무기 매트릭스 복합체를 포함하는 전자 소자 |
10 |
10 제9항에 있어서, 상기 전자소자는 광 증폭기, 레이저, 광학 디스플레이, 광학 평면 회로, 또는 유기 발광 다이오드(OLED)인 전자소자 |
지정국 정보가 없습니다 |
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순번 | 패밀리번호 | 국가코드 | 국가명 | 종류 |
---|---|---|---|---|
1 | JP05370987 | JP | 일본 | FAMILY |
2 | JP21263621 | JP | 일본 | FAMILY |
3 | US07985607 | US | 미국 | FAMILY |
4 | US20090267051 | US | 미국 | FAMILY |
순번 | 패밀리번호 | 국가코드 | 국가명 | 종류 |
---|---|---|---|---|
1 | JP2009263621 | JP | 일본 | DOCDBFAMILY |
2 | JP5370987 | JP | 일본 | DOCDBFAMILY |
3 | US2009267051 | US | 미국 | DOCDBFAMILY |
4 | US7985607 | US | 미국 | DOCDBFAMILY |
국가 R&D 정보가 없습니다. |
---|
특허 등록번호 | 10-1462652-0000 |
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표시번호 | 사항 |
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1 |
출원 연월일 : 20080423 출원 번호 : 1020080037883 공고 연월일 : 20141117 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20140904 청구범위의 항수 : 9 유별 : B82B 3/00 발명의 명칭 : 양자점-무기 매트릭스 복합체의 제조방법 존속기간(예정)만료일 : |
순위번호 | 사항 |
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1 |
(권리자) 포항공과대학교 산학협력단 경상북도 포항시 남구... |
1 |
(권리자) 삼성전자 주식회사 경기도 수원시 영통구... |
제 1 - 3 년분 | 금 액 | 396,000 원 | 2014년 11월 11일 | 납입 |
제 4 년분 | 금 액 | 238,000 원 | 2017년 10월 18일 | 납입 |
제 5 년분 | 금 액 | 238,000 원 | 2018년 10월 19일 | 납입 |
제 6 년분 | 금 액 | 238,000 원 | 2019년 10월 17일 | 납입 |
제 7 년분 | 금 액 | 442,000 원 | 2020년 10월 20일 | 납입 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | [특허출원]특허출원서 | 2008.04.23 | 수리 (Accepted) | 1-1-2008-0291311-10 |
2 | [출원서등 보정]보정서 | 2008.04.29 | 수리 (Accepted) | 1-1-2008-0308414-13 |
3 | 보정요구서 | 2008.05.06 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 1-5-2008-0059994-80 |
4 | [출원서등 보정]보정서 | 2008.05.22 | 수리 (Accepted) | 1-1-2008-0364567-81 |
5 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2012.06.21 | 수리 (Accepted) | 4-1-2012-5132663-40 |
6 | [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서 | 2012.07.19 | 수리 (Accepted) | 1-1-2012-0576071-36 |
7 | [심사청구]심사청구(우선심사신청)서 | 2013.04.23 | 수리 (Accepted) | 1-1-2013-0357673-10 |
8 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2013.06.13 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-0025573-58 |
9 | 선행기술조사의뢰서 | 2014.02.07 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
10 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.02.25 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5024386-11 |
11 | 선행기술조사보고서 | 2014.03.12 | 수리 (Accepted) | 9-1-2014-0022936-54 |
12 | 의견제출통지서 | 2014.03.26 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2014-0211996-54 |
13 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2014.05.26 | 수리 (Accepted) | 1-1-2014-0492680-53 |
14 | 거절결정서 | 2014.05.30 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2014-0377485-83 |
15 | 명세서 등 보정서(심사전치) | 2014.07.02 | 보정승인 (Acceptance of amendment) | 7-1-2014-0025254-81 |
16 | 등록결정서 | 2014.09.04 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2014-0612326-34 |
17 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2019.11.20 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5243581-27 |
18 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2019.11.22 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5245997-53 |
19 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2019.11.25 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5247115-68 |
기술정보가 없습니다 |
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과제고유번호 | 1340015894 |
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세부과제번호 | 2005-005-J13102 |
연구과제명 | 정보발생용나노포토닉스신소재 |
성과구분 | 출원 |
부처명 | 교육과학기술부 |
연구관리전문기관명 | 한국학술진흥재단 |
연구주관기관명 | 포항공과대학교 |
성과제출연도 | 2005 |
연구기간 | 200811~200512 |
기여율 | 0.33333334 |
연구개발단계명 | 기초연구 |
6T분류명 | IT(정보기술) |
과제고유번호 | 1345075686 |
---|---|
세부과제번호 | 2007-04049 |
연구과제명 | 다광자공초점현미경기반초고도분해능생체영상시스템개발 |
성과구분 | 출원 |
부처명 | 교육과학기술부 |
연구관리전문기관명 | 한국과학재단 |
연구주관기관명 | 연세대학교 |
성과제출연도 | 2008 |
연구기간 | 200710~201208 |
기여율 | 0.33333334 |
연구개발단계명 | 개발연구 |
6T분류명 | BT(생명공학기술) |
과제고유번호 | 1350011626 |
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세부과제번호 | R01-2006-000-10647-0 |
연구과제명 | 양자점히알루론산복합체를이용한생체내실시간암조직및림프관발달의영상촬영 |
성과구분 | 출원 |
부처명 | 교육과학기술부 |
연구관리전문기관명 | 한국과학재단 |
연구주관기관명 | 한양대학교 |
성과제출연도 | 2006 |
연구기간 | 200603~200902 |
기여율 | 0.33333334 |
연구개발단계명 | 기초연구 |
6T분류명 | BT(생명공학기술) |
[1020090015201] | 체내 이식형 광학 바이오 센서 및 이를 포함하는 광학 생체 모니터링 시스템 | 새창보기 |
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번호 | 심판번호(숫자) | 심판번호(문자) | 사건의표시 | 청구일 | 심결일자 |
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1 | 2014101004189 | 2014원4189 | 2008년 특허출원 제0037883호 거절결정불복 | 2014.07.02 | 2014.09.04 |