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광학 소자 폴링 장치 및 방법

  • 기술번호 : KST2015174429
  • 담당센터 : 광주기술혁신센터
  • 전화번호 : 062-360-4654
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 네거티브 멀티 펄스 폴링 방법을 이용하여 광학 소자를 폴링시키는 장치에 관한 것이다. 각종 레이저의 파장 변환이나 비선형 광학 소자로 이용되는 준위상 정합 광소자의 제작을 위해서는 상온에서 높은 전기장을 인가하여 주기적으로 분극 반전을 일으켜야 한다. 본 발명에 따른 장치는 광학 소자에 음의 다중 전압을 인큐베이션 전압으로 인가하여 광학 소자에 형성된 전극을 충전시키고 전극 충전된 광학 소자에 인큐베이션 전압보다 절대값이 더 큰 양의 전압을 폴링 전압으로 인가하여 광학 소자를 폴링시킴으로써 균일한 양질의 준위상 정합 소자를 제작할 수 있다.
Int. CL H01S 3/10 (2006.01)
CPC H01S 3/108(2013.01) H01S 3/108(2013.01) H01S 3/108(2013.01)
출원번호/일자 1020110068058 (2011.07.08)
출원인 광주과학기술원
등록번호/일자 10-1206062-0000 (2012.11.22)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20121128) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2011.07.08)
심사청구항수 13

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 광주과학기술원 대한민국 광주광역시 북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 유난이 대한민국 광주광역시 북구
2 최주원 대한민국 광주광역시 북구
3 고도경 대한민국 광주광역시 북구
4 노정훈 대한민국 광주광역시 북구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인우인 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로 ***, *층(역삼동, 중평빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 광주과학기술원 광주광역시 북구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2011.07.08 수리 (Accepted) 1-1-2011-0525992-42
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2011.09.15 수리 (Accepted) 4-1-2011-5187089-85
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2012.03.13 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2012.04.19 수리 (Accepted) 9-1-2012-0031338-03
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2012.07.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0443900-43
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2012.09.28 수리 (Accepted) 1-1-2012-0793964-72
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2012.09.28 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2012-0793965-17
8 등록결정서
Decision to grant		 2012.11.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0697005-39
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
광학 소자에 음의 전압을 인큐베이션 전압(incubation voltage)으로 제1 인가하여 상기 광학 소자에 형성된 전극을 충전시키는 전극 충전부;전극 충전된 상기 광학 소자에 상기 인큐베이션 전압보다 절대값이 더 큰 양의 전압을 폴링 전압(poling voltage)으로 제2 인가하여 상기 광학 소자를 폴링(poling)시키는 폴링부; 및폴링된 상기 광학 소자에 전압 강하 방지 목적의 안정화 전압(stabilization voltage)을 상기 제2 인가 때보다 낮은 값으로 상기 제2 인가 때보다 긴 시간동안 제3 인가하여 상기 폴링된 광학 소자에서의 백 스위칭을 보호하는 백 스위칭 보호부를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 소자 폴링 장치
2 2
삭제
3 3
제 1 항에 있어서,상기 전극 충전부는 음의 멀티 전압을 상기 인큐베이션 전압으로 제1 인가시키는 것을 특징으로 하는 광학 소자 폴링 장치
4 4
제 1 항에 있어서,상기 전극 충전부와 상기 폴링부 및 상기 백 스위칭 보호부는 순차적으로 반복 구동되는 것을 특징으로 하는 광학 소자 폴링 장치
5 5
제 1 항에 있어서,상기 전극 충전부는 상기 인큐베이션 전압으로 -4kV ~ -5kV를 미리 정해진 시간동안 계속적으로 제1 인가시키거나,상기 백 스위칭 보호부는 상기 인큐베이션 전압 값의 1
6 6
제 1 항에 있어서,광학 물질로부터 얻은 웨이퍼 형태의 상기 광학 소자에 전극을 형성하는 것으로서, 상기 웨이퍼로 리튬나오베이트 결정을 미리 정해진 방향으로 절단시켜 얻은 리튬나오베이트 웨이퍼를 이용하며, 상기 리튬나오베이트 웨이퍼의 절단면에 상기 전극을 형성하는 전극 형성부를 더욱 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 소자 폴링 장치
7 7
제 1 항에 있어서,상기 광학 소자 폴링 장치는 준위상 정합 광학 소자나 비선형 광학 소자를 제조할 때에 이용되는 것을 특징으로 하는 광학 소자 폴링 장치
8 8
제 1 항에 있어서,미리 정해진 기준 샘플과 비교하여 상기 폴링의 품질을 평가하는 폴링 품질 평가부를 더욱 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 소자 폴링 장치
9 9
제 8 항에 있어서,상기 폴링 품질 평가부는,상기 기준 샘플을 에칭시키는 기준 샘플 에칭부;상기 기준 샘플의 에칭면에 표시된 도메인 이미지를 관측하는 에칭면 관측부; 및상기 광학 소자의 도메인 이미지와 상기 기준 샘플의 도메인 이미지를 비교하여, 상기 광학 소자의 도메인 이미지가 상기 기준 샘플의 도메인 이미지보다 더 균일한 구조를 가지는 것으로 판별되면 상기 폴링의 품질을 우수한 것으로 평가하는 도메인 비교부를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 소자 폴링 장치
10 10
제 8 항 또는 제 9 항에 있어서,상기 폴링 품질 평가부는,미리 정해진 파장 대역의 레이저가 서로 다른 영역을 통과하도록 폴링된 상기 광학 소자의 위치를 변경시키는 위치 변경 제어부;상기 제어에 따라 상기 광학 소자의 서로 다른 영역에서의 회절 강도를 측정시키는 회절 강도 측정 제어부;측정된 적어도 두개의 회절 강도를 기초로 상기 광학 소자에 대한 제1 듀티 비를 계산하는 듀티 비 계산부; 및계산된 상기 제1 듀티 비와 미리 획득된 기준 샘플에 대한 제2 듀티 비를 비교하여, 상기 제1 듀티 비가 상기 제2 듀티 비보다 크면 상기 폴링의 품질을 우수한 것으로 평가하는 듀티 비 비교부를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 소자 폴링 장치
11 11
광학 소자에 음의 전압을 인큐베이션 전압(incubation voltage)으로 제1 인가하여 상기 광학 소자에 형성된 전극을 충전시키는 전극 충전 단계;전극 충전된 상기 광학 소자에 상기 인큐베이션 전압보다 절대값이 더 큰 양의 전압을 폴링 전압(poling voltage)으로 제2 인가하여 상기 광학 소자를 폴링(poling)시키는 폴링 단계; 및폴링된 상기 광학 소자에 전압 강하 방지 목적의 안정화 전압(stabilization voltage)을 상기 제2 인가 때보다 낮은 값으로 상기 제2 인가 때보다 긴 시간동안 제3 인가하여 상기 폴링된 광학 소자에서의 백 스위칭을 보호하는 백 스위칭 보호 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 소자 폴링 방법
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삭제
13 13
제 11 항에 있어서,미리 정해진 기준 샘플과 비교하여 상기 폴링의 품질을 평가하는 폴링 품질 평가 단계를 더욱 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 소자 폴링 방법
14 14
제 13 항에 있어서,상기 폴링 품질 평가 단계는,상기 기준 샘플을 에칭시키는 기준 샘플 에칭 단계;상기 기준 샘플의 에칭면에 표시된 도메인 이미지를 관측하는 에칭면 관측 단계; 및상기 광학 소자의 도메인 이미지와 상기 기준 샘플의 도메인 이미지를 비교하여, 상기 광학 소자의 도메인 이미지가 상기 기준 샘플의 도메인 이미지보다 더 균일한 구조를 가지는 것으로 판별되면 상기 폴링의 품질을 우수한 것으로 평가하는 도메인 비교 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 소자 폴링 방법
15 15
제 13 항 또는 제 14 항에 있어서,상기 폴링 품질 평가 단계는,미리 정해진 파장 대역의 레이저가 서로 다른 영역을 통과하도록 폴링된 상기 광학 소자의 위치를 변경시키는 위치 변경 제어 단계;상기 제어에 따라 상기 광학 소자의 서로 다른 영역에서의 회절 강도를 측정시키는 회절 강도 측정 제어 단계;측정된 적어도 두개의 회절 강도를 기초로 상기 광학 소자에 대한 제1 듀티 비를 계산하는 듀티 비 계산 단계; 및계산된 상기 제1 듀티 비와 미리 획득된 기준 샘플에 대한 제2 듀티 비를 비교하여, 상기 제1 듀티 비가 상기 제2 듀티 비보다 크면 상기 폴링의 품질을 우수한 것으로 평가하는 듀티 비 비교 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 소자 폴링 방법
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 과학기술부 광주과학기술원 선도연구센터육성사업 극초단 레이저 분광기술 개발 및 에너지 광소자 응용