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임프린트 템플릿을 제조하는 단계; 및상기 임프린트 템플릿을 이용하여 나노 패턴 구조물을 제조하는 단계를 포함하고,상기 나노 패턴 구조물의 주기는 입사광의 파장보다 작은 나노 패턴 구조물의 제조 방법
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제1항에서,상기 임프린트 템플릿을 제조하는 단계는,기판을 제공하는 단계;상기 기판의 일면에 레지스트 패턴을 형성하는 단계; 및상기 레지스트 패턴을 이용하여 상기 기판에 나노 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 나노 패턴 구조물의 제조 방법
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제2항에서,상기 나노 패턴 구조물을 제조하는 단계는,상기 기판의 상기 나노 패턴을 임프린트 재료에 전사하는 단계; 및상기 나노 패턴이 전사된 상기 임프린트 재료를 상기 기판에서 분리하는 단계를 포함하는 나노 패턴 구조물의 제조 방법
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제2항 또는 제3항에서,상기 기판을 제공하는 단계는, 상기 기판의 일면에 투명층을 형성하는 단계를 포함하고,상기 레지스트 패턴을 형성하는 단계에서, 상기 레지스트 패턴은 상기 투명층 위에 형성되는 나노 패턴 구조물의 제조 방법
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제4항에서,상기 기판에 나노 패턴을 형성하는 단계는, 상기 투명층에 제1 나노 패턴을 형성하는 단계; 및 상기 투명층을 마스크로 이용하여 상기 기판에 제2 나노 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 나노 패턴 구조물의 제조 방법
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제5항에서,상기 제1 나노 패턴을 형성하는 단계는,상기 투명층을 습식 식각하는 단계를 포함하는 나노 패턴 구조물의 제조 방법
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제6항에서,상기 제2 나노 패턴을 형성하는 단계는,상기 기판을 건식 식각하는 단계를 포함하는 나노 패턴 구조물의 제조 방법
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제3항에서,상기 나노 패턴 구조물을 제조하는 단계는,상기 나노 패턴을 임프린트 재료에 전사하는 단계 전에 상기 나노 패턴 구조물에 분리막을 형성하는 단계를 포함하는 나노 패턴 구조물의 제조 방법
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제8항에서,상기 분리막을 형성하는 단계는,상기 나노 패턴 구조물에 실리콘 질화막(SiNx)을 형성하는 단계를 포함하는 나노 패턴 구조물의 제조 방법
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임프린트 템플릿을 제조하는 단계;상기 임프린트 템플릿을 이용하여 나노 패턴 구조물을 제조하는 단계; 및상기 나노 패턴 구조물을 광학 소자의 일 면에 부착하는 단계를 포함하고,상기 나노 패턴 구조물의 주기는 입사광의 파장보다 작은 광학 소자의 제조 방법
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