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레이저를 이용한 분광 장치에 있어서,
상기 레이저를 방출하고, 시료에 집속하기 위한 레이저부;
상기 시료 주위에 정해진 시간구간 동안 분위기 가스(Gas)를 제공하는 가스펄스를 분사하기 위한 가스펄스부;
상기 시료에서 상기 레이저에 의하여 발생된 플라스마의 발광을 검출하기 위한 검출부; 및
상기 레이저부 및 상기 가스펄스부를 제어하기 위한 제어신호를 제공하는 제어부;를 포함하여 구성되는 분광 장치
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2
제1항에 있어서,
상기 레이저부는 상기 레이저를 방출하기 위한 레이저 방출기; 및
상기 방출된 레이저를 상기 시료에 집속하기 위한 광학기;를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 분광 장치
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3
제2항에 있어서,
상기 레이저 방출기는 네오디뮴(Nd, Neodymium) 야그 레이저(YAG Laser)를 이용하는 것을 특징으로 하는 분광 장치
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4
제1항에 있어서,
상기 가스는 상기 시료와의 반응성이 낮은 불활성 가스인 것을 특징으로 하는 분광 장치
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5
제4항에 있어서,
상기 가스는 헬륨(He), 네온(Ne), 아르곤(Ar) 및 크립톤(Kr) 중 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 분광 장치
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6
제1항에 있어서,
상기 가스펄스부는 상기 시료의 표면으로부터 상기 분사되는 가스펄스의 중심까지의 수직 거리를 변화시킬 수 있는 것을 특징으로 하는 분광 장치
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7
제6항에 있어서,
상기 가스가 공기보다 높은 플라스마가 되기 위한 문턱 에너지를 갖는 경우에 상기 시료 표면으로부터 상기 분사되는 가스펄스의 중심까지의 수직 거리를 증가시키는 것을 특징으로 하는 분광 장치
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8
제6항에 있어서,
상기 가스가 공기보다 낮은 플라스마가 되기 위한 문턱 에너지를 갖는 경우에 상기 시료 표면으로부터 상기 분사되는 가스펄스의 중심까지의 수직 거리를 감소시키는 것을 특징으로 하는 분광 장치
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9
제1항에 있어서,
상기 검출부는 상기 플라스마의 발광을 포집하기 위한 포집기; 및
상기 포집된 플라스마의 발광을 분석하기 위한 분석기;를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 분광 장치
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10
제1항에 있어서,
상기 제어부는 상기 가스펄스가 분사되는 정해진 시간구간 내에 상기 레이저부에서 레이저가 방출되도록 제어신호를 제공하는 것을 특징으로 하는 분광 장치
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11
제10항에 있어서,
상기 제어부는 상기 가스펄스가 분사되는 정해진 시간구간 중에서 상기 가스펄스가 안정하게 분사되는 시간구간 내에 상기 레이저부에서 레이저가 방출되도록 제어신호를 제공하는 것을 특징으로 하는 분광 장치
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12
제1항에 있어서,
상기 제어부는 상기 검출부를 제어하기 위한 제어신호를 더 제공하는 것을 특징으로 하는 분광 장치
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13
제12항에 있어서,
상기 제어부는 상기 레이저부의 레이저 방출에 의해 상기 시료에서 플라스마가 발생되는 시간구간을 포함하는 시간구간 동안 상기 검출부가 상기 플라스마 발광을 검출하도록 제어신호를 제공하는 것을 특징으로 하는 분광 장치
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14
레이저를 이용한 분광 방법에 있어서,
상기 시료 주위에 정해진 시간구간 동안 분위기 가스를 제공하는 가스펄스를 분사하는 단계;
상기 레이저를 방출하고, 시료에 집속하는 단계; 및
상기 시료에서 상기 레이저에 의하여 발생된 플라스마의 발광을 검출하는 단계;를 포함하여 구성되는 분광 방법
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15
제14항에 있어서,
상기 가스펄스가 분사되는 정해진 시간구간 내에 상기 레이저가 방출되는 것을 특징으로 하는 분광 방법
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16
제14항에 있어서,
상기 가스펄스가 분사되는 정해진 시간구간 중에서 상기 가스펄스가 안정하게 분사되는 시간구간 내에 상기 레이저가 방출되는 것을 특징으로 하는 분광 장치
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17
제14항에 있어서,
상기 레이저 방출에 의해 상기 시료에서 플라스마가 발생되는 시간구간을 포함하는 시간구간 동안 상기 플라스마의 발광을 검출하는 것을 특징으로 하는 분광 방법
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18
제14항에 있어서,
상기 가스는 시료와의 반응성이 낮은 불활성 가스인 것을 특징으로 하는 분광 방법
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19
제18항에 있어서,
상기 가스는 헬륨(He), 네온(Ne), 아르곤(Ar) 및 크립톤(Kr) 중 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 분광 방법
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20
제14항에 있어서,
상기 가스펄스를 분사하는 단계에서 상기 시료의 표면으로부터 상기 분사되는 가스펄스의 중심까지의 수직 거리를 변화시킬 수 있는 것을 특징으로 하는 분광 방법
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21
제20항에 있어서,
상기 가스가 공기보다 높은 플라스마가 되기 위한 문턱 에너지를 갖는 경우에 상기 시료 표면으로부터 상기 분사되는 가스펄스의 중심까지의 수직 거리를 증가시키는 것을 특징으로 하는 분광 방법
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22
제20항에 있어서,
상기 가스가 공기보다 낮은 플라스마가 되기 위한 문턱 에너지를 갖는 경우에 상기 시료 표면으로부터 상기 분사되는 가스펄스의 중심까지의 수직 거리를 감소시키는 것을 특징으로 하는 분광 방법
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제14항에 있어서,
상기 레이저는 네오디뮴(Nd, Neodymium) 야그 레이저(YAG Laser)인 것을 특징으로 하는 분광 방법
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