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태양전지용 광흡수층 제조방법에 있어서,
삼원계 박막의 조성비를 측정하고, 상기 조성비에 따라 일정량의 Se를 상기 박막에 증착하는 제 1 단계;
증착된 상기 Se위에 보호층을 형성하는 제 2 단계;
상기 박막을 열처리하는 제 3 단계; 및
상기 보호층을 식각하여 제거하는 제 4 단계;를 포함하는 태양전지용 광흡수층 제조방법
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제 1 항에 있어서,
상기 삼원계 박막은 CIS 또는 CIGS로 이루어진 것을 특징으로 하는 태양전지용 광흡수층 제조방법
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제 2 항에 있어서,
상기 보호층은 SiO2 또는 SiNx가 증착되어 형성되는 것을 특징으로 하는 태양전지용 광흡수층 제조방법
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제 3 항에 있어서,
상기 제 3 단계는 RTA(Rapid Thermal Annealing)를 이용하여 열처리하는 것을 특징으로 하는 태양전지용 광흡수층 제조방법
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5
제 4 항에 있어서,
상기 제 4 단계는 BOE(Buffered Oxide Echant)를 이용하여 식각하는 것을 특징으로 하는 태양전지용 광흡수층 제조방법
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제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 따른 태양전지용 광흡수층 제조방법을 이용하여 제조되는 태양전지용 광흡수층
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