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박막 두께 측정방법

  • 기술번호 : KST2015179393
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 박막 두께 측정방법을 제공한다. 상기 박막 두께 측정방법은 박막이 형성된 기판을 이소프로필 알코올(isopropyl alcohol; IPA)용액을 이용하여 세정하는 단계; 상기 세정된 기판을 초음파 세척하는 단계; 및 상기 초음파 세척된 기판을 진공 또는 질소, 헬륨 등의 불활성 기체 분위기 내에 위치시키고 X-선 반사율(X-ray reflectivity; XRR) 측정법을 이용하여 상기 박막의 두께를 측정하는 단계를 포함한다.X-선 반사율, 박막, 두께측정
Int. CL G01N 23/00 (2011.01) B82Y 35/00 (2011.01) G01B 11/06 (2011.01)
CPC G01B 15/02(2013.01) G01B 15/02(2013.01) G01B 15/02(2013.01)
출원번호/일자 1020060106110 (2006.10.31)
출원인 한국표준과학연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2008-0038766 (2008.05.07) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2006.10.31)
심사청구항수 3

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국표준과학연구원 대한민국 대전 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김창수 대한민국 대전 유성구
2 구태경 대한민국 대전 동구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김종관 대한민국 대전광역시 서구 한밭대로 ***번지 (둔산동, 사학연금회관) **층(특허법인 플러스)
2 박창희 대한민국 대전광역시 서구 한밭대로 ***번지 (둔산동, 사학연금회관) **층(특허법인 플러스)
3 권오식 대한민국 대전광역시 서구 한밭대로 ***번지 (둔산동, 사학연금회관) **층(특허법인 플러스)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2006.10.31 수리 (Accepted) 1-1-2006-0795228-36
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2007.04.20 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2007.05.11 수리 (Accepted) 9-1-2007-0029299-44
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2007.11.12 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2007-0603634-49
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2008.01.11 무효 (Invalidation) 1-1-2008-0023645-91
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2008.01.11 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2008-0025175-80
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2008.01.11 수리 (Accepted) 1-1-2008-0023610-04
8 보정요구서
Request for Amendment
2008.01.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2008-0010540-95
9 무효처분안내서
Notice for Disposition of Invalidation
2008.02.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2008-0029662-90
10 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2008.06.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0342075-61
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.01.09 수리 (Accepted) 4-1-2014-5004381-25
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266645-00
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266627-88
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266640-72
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번호 청구항
1 1
박막이 형성된 기판을 이소프로필 알코올(isopropyl alcohol; IPA)용액을 이용하여 세정하는 단계;상기 세정된 기판을 초음파 세척하는 단계; 및상기 초음파 세척된 기판을 진공 또는 질소 또는 헬륨 등의 불활성 기체 분위기내에 위치시키고 X-선 반사율(X-ray reflectivity; XRR) 측정법을 이용하여 상기 박막의 두께를 측정하는 단계를 포함하는 박막 두께 측정 방법
2 2
제 1 항에 있어서,상기 박막은 게이트 절연막인 것을 특징으로 하는 박막 두께 측정 방법
3 3
제 1 항에 있어서,상기 박막은 반도체 산화막 이외의 절연막, 또는 금속막인 것을 특징으로 하는 박막 두께 측정 방법
4 4
제 1 항에 있어서,상기 박막은 서브 나노미터에서 수백 나노미터의 두께로 형성한 것인 박막 두께 측정 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.