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빔을 생성하고 상기 생성된 빔 중에서 특정 주파수의 빔을 방출하며, 상기 생성된 빔의 파장을 검출하기 위한 간섭신호를 출력하는 복수의 레이저 장치;
피검체의 표면에 상기 방출된 빔을 투사시켜 상기 피검체의 간섭무늬를 생성하는 광학 장치부;
상기 방출된 빔이 상기 광학 장치부로 조사되거나 차단되도록 하는 복수의 셔터;
상기 생성된 간섭무늬를 촬상하는 촬상부; 및
상기 출력된 간섭신호로부터 상기 생성된 빔의 파장을 검출하고, 상기 검출된 파장과 생성된 간섭무늬를 기초로 복수의 상기 레이저 장치를 제어하는 제어부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 형상 측정장치
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2
제 1항에 있어서,
상기 레이저 장치는 2개인 것을 특징으로 하는 형상 측정장치
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제 1항에 있어서,
상기 레이저 장치는,
상기 빔을 생성하는 반도체 레이저;
상기 생성된 빔의 파장을 검출하기 위한 간섭신호를 생성하여 출력하는 간섭신호 생성부;
상기 특정 주파수를 공진 주파수로 가지며, 상기 생성된 빔을 조사받고 상기 조사된 빔의 주파수와 상기 공진 주파수가 동일한 경우에는 상기 조사된 빔을 상기 반도체 레이저로 피드백하는 외부반사체; 및
상기 외부 반사체가 상기 조사된 빔을 피드백한 경우에는 상기 생성된 빔을 외부로 방출하는 광전달부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 형상 측정장치
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4
제 1항에 있어서,
상기 제어부는 복수의 상기 레이저 장치를 교대로 가동하는 것을 특징으로 하는 형상 측정장치
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5
제 4항에 있어서,
상기 제어부는 상기 가동되는 레이저 장치가 4개의 특정 주파수의 빔을 방출하도록 제어하는 것을 특징으로 하는 형상 측정장치
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6
제 1항에 있어서,
상기 제어부는 상기 레이저 장치의 온도 또는 상기 레이저 장치로 인가되는 전류를 조절하여 상기 레이저 장치를 제어하는 것을 특징으로 하는 형상 측정장치
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7
삭제
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8
제 1항에 있어서,
상기 제어부는 상기 복수의 셔터 중에서 어느 하나의 셔터를 개방하여 상기 방출된 빔을 상기 광학 장치부로 조사되게 하는 것을 특징으로 하는 형상 측정장치
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9 |
9
제 1항에 있어서,
상기 제어부는 상기 특정 주파수의 빔 각각에 대한 상기 촬상된 간섭무늬를 획득하는 것을 특징으로 하는 형상 측정장치
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10
제 9항에 있어서,
상기 제어부는 상기 특정 주파수 및 상기 특정 주파수의 빔 각각에 대해 상기 획득된 간섭무늬를 기초로 상기 피검체의 형상 정보를 산출하는 것을 특징으로 하는 형상 측정장치
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11
복수의 레이저 장치를 이용하여 형상을 측정하는 방법에 있어서,
상기 복수의 레이저 장치 중에서 어느 하나의 레이저 장치를 가동하는 제 1가동단계;
상기 가동된 레이저 장치로부터 복수의 특정 주파수의 빔을 각각 방출시키고, 상기 방출된 특정 주파수의 빔 각각을 피검체에 투사시켜 상기 특정 주파수 각각에 대한 상기 피검체의 간섭무늬를 획득하는 간섭무늬 획득단계; 및
상기 가동된 레이저 장치를 정지시키고 복수의 레이저 장치 중에서 다른 하나의 레이저 장치를 가동하는 제 2가동단계; 포함하는 것을 특징으로 하는 형상 측정방법
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제 11항에 있어서,
상기 제 1가동단계는,
상기 복수의 레이저 장치 중에서 어느 하나의 레이저 장치에 전류를 인가하는 단계; 및
상기 전류가 인가된 레이저 장치로부터 방출되는 빔을 차단하는 셔터를 개방하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 형상 측정방법
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13
제 11항에 있어서,
상기 간섭무늬 획득단계는,
상기 가동된 레이저 장치를 통해 특정 주파수의 빔을 방출하는 빔방출단계; 및
상기 방출된 빔을 피검체의 표면에 투사시켜 상기 피검체의 간섭무늬를 획득하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 형상 측정방법
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14
제 13항에 있어서,
상기 빔방출단계는,
상기 가동된 레이저 장치가 생성한 빔의 파장을 검출하는 단계;
상기 검출된 파장을 기초로 상기 레이저 장치로 인가되는 전류를 조절하는 단계;
상기 빔의 공명 주파수를 검출하는 단계; 및
상기 빔의 공명 주파수가 검출된 경우에는 상기 빔을 상기 특정 주파수의 빔으로 방출하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 형상 측정방법;
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15
제 11항에 있어서,
상기 제 2가동단계는,
상기 가동된 레이저 장치로부터 방출되는 빔을 차단하는 셔터를 폐쇄하는 단계;
상기 가동된 레이저 장치로 인가되는 전류의 공급을 중단하는 단계;
상기 복수의 레이저 장치 중에서 다른 하나의 레이저 장치에 전류를 인가하는 단계; 및
상기 전류가 인가된 레이저 장치로부터 방출되는 빔을 차단하는 셔터를 개방하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 형상 측정방법
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제 11항에 있어서,
상기 형상 측정방법은,
상기 특정 주파수 및 상기 특정 주파수의 빔으로부터 획득된 간섭무늬를 기초로 상기 피검체의 형상정보를 산출하는 단계:를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 형상 측정방법
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17
제 11항에 있어서,
상기 레이저 장치는
상기 빔을 생성하는 반도체 레이저;
상기 생성된 빔의 파장을 검출하기 위한 간섭신호를 생성하여 출력하는 간섭신호 생성부;
상기 특정 주파수를 공진 주파수로 가지며, 상기 생성된 빔을 조사받고 상기 조사된 빔의 주파수와 상기 공진 주파수가 동일한 경우에는 상기 조사된 빔을 상기 반도체 레이저로 피드백하는 외부반사체; 및
상기 외부 반사체가 상기 조사된 빔을 피드백한 경우에는 상기 생성된 빔을 외부로 방출하는 광전달부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 형상 측정방법
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제 11항에 있어서,
상기 레이저 장치는 2개인 것을 특징으로 하는 형상 측정방법
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