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전기적으로 접지된 통 형상의 방전 챔버;상기 방전 챔버 내에 배치된 적어도 하나의 전자방출 수단; 및상기 방전 챔버의 중심 영역에 배치되고 양의 제1 전압이 인가된 중심 전극을 포함하고,상기 방전 챔버의 내부에 배치되는 매쉬를 더 포함하고,상기 매쉬는 양의 제2 전압으로 대전되고,상기 제2 전압은 상기 제1 전압보다 높거나 낮고,상기 전자방출 수단은 상기 매쉬와 상기 방전 챔버 사이에 배치되고,상기 매쉬는 상기 전자방출 수단으로부터 방출된 전자를 가속하고, 가속된 전자는 상기 매쉬를 통과하여 상기 방전 챔버의 중심 영역에 제공되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
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제2 항에 있어서,상기 전자방출 수단은 열전자를 방출하고, 상기 전자방출 수단이 전자를 방출하도록 가열하는 가열 전원; 및상기 전자방출 수단에 제1 바이어스 전압을 인가하기 위한 제1 바이어스 전원; 중에서 적어도 하나를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
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전기적으로 접지된 통 형상의 방전 챔버;상기 방전 챔버 내에 배치된 적어도 하나의 전자방출 수단; 및상기 방전 챔버의 중심 영역에 배치되고 양의 제1 전압이 인가된 중심 전극을 포함하고,상기 전자방출 수단은:양의 제1 바이어스 전압에서 동작하는 제1 전자방출 수단; 및양의 제2 바이어스 전압에서 동작하는 제2 전자방출 수단을 포함하고,상기 제1 바이어스 전압은 상기 제2 바이어스 전압과 서로 다르고,상기 제1 전자 방출 수단에서 방출된 전자는 중성 기체를 이온화시키고,상기 제2 전자 방출 수단에서 방출된 전자는 플르즈마 포텐셜을 낮추는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
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제2 항에 있어서, 상기 방전 챔버의 주위에 배치되어 자기장을 형성하는 코일을 더 포함하고,상기 코일에 형성된 자기장은 상기 중심 전극으로 접근하는 전자의 궤적을 변경하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
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제2 항 내지 제5 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 방전 챔버는 원통형이고, 상기 매쉬는 원통형인 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
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제4 항에 있어서,상기 제1 전자방출 수단은 복수 개이고, 상기 제2 전자방출 수단은 복수개이고, 상기 제1 전자방출 수단 및 상기 제2 전자방출 수단은 한 쌍을 이루는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
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전자를 구속하는 접지된 방전 챔버를 제공하는 단계;상기 방전 챔버 내에서 전자발생 수단이 전자를 방출하는 단계;상기 방출된 전자를 소정의 양의 전압으로 유지되는 매쉬를 통하여 가속하는 단계; 상기 가속된 전자를 방전 챔버의 중심에 배치된 소정의 양의 전압으로 유지되는 중심 전극에 충돌하지 않도록 자기장을 통하여 전자의 궤적을 바꾸는 단계;및상기 가속된 전자가 중성 입자를 이온화하는 단계를 포함하는 플라즈마 발생 방법
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제8 항에 있어서, 상기 방전 챔버는 원통 형상이고,상기 매쉬는 원통 형상인 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 방법
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