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수직 정렬 나노선을 포함하는 이방성 투명 전기전도성 가요성 박막 구조체 및 그 제조 방법

  • 기술번호 : KST2015179928
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은, 이방성, 투명성, 전기전도성, 가요성의 특징을 가지는 박막 구조체의 제조 방법을 제공한다. 본 발명의 일실시예에 따른 박막 구조체의 제조 방법은, 성장 기판을 제공하는 단계; 상기 성장 기판 상에 피뢰침 효과를 이용하여 은 나노선들을 성장시키는 단계; 상기 은 나노선들을 폴리머를 이용하여 몰딩하는 단계; 및 상기 폴리머로 몰딩된 상기 은 나노선들을 상기 성장 기판에서 분리하여 프리스탠딩 이방성 투명 전기전도성 가요성 박막을 형성하는 단계;를 포함한다.
Int. CL H01B 13/00 (2006.01) H01B 5/14 (2006.01)
CPC
출원번호/일자 1020120137061 (2012.11.29)
출원인 한국표준과학연구원
등록번호/일자 10-1341102-0000 (2013.12.06)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20131212) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2012.11.29)
심사청구항수 11

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국표준과학연구원 대한민국 대전 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 송재용 대한민국 대전 유성구
2 박선화 대한민국 서울 용산구
3 박현민 대한민국 대전 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김남식 대한민국 서울특별시 서초구 남부순환로***길 *-*, *층 (양재동, 가람빌딩)(율민국제특허법률사무소)
2 한윤호 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로**길 **(삼성동) 명지빌딩, *층(선정국제특허법률사무소)
3 양기혁 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로**길 **(삼성동) 명지빌딩, *층(선정국제특허법률사무소)
4 이인행 대한민국 서울특별시 서초구 남부순환로***길 *-*, *층 (양재동, 가람빌딩)(율민국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국표준과학연구원 대전 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2012.11.29 수리 (Accepted) 1-1-2012-0990875-27
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2013.07.03 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 [대리인사임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Resignation of Agent] Report on Agent (Representative)
2013.08.01 수리 (Accepted) 1-1-2013-0698654-17
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2013.08.08 수리 (Accepted) 9-1-2013-0064479-28
5 등록결정서
Decision to grant
2013.12.04 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0846475-60
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.01.09 수리 (Accepted) 4-1-2014-5004381-25
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266640-72
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266645-00
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266627-88
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번호 청구항
1 1
성장 기판을 제공하는 단계;상기 성장 기판 상에 피뢰침 효과를 이용하여 은 나노선들을 성장시키는 단계;상기 은 나노선들을 폴리머를 이용하여 몰딩하는 단계; 및상기 폴리머로 몰딩된 상기 은 나노선들을 상기 성장 기판에서 분리하여 프리스탠딩 이방성 투명 전기전도성 가요성 박막을 형성하는 단계;를 포함하는 박막 구조체의 제조 방법
2 2
제 1 항에 있어서,상기 은 나노선들을 폴리머를 이용하여 몰딩하는 단계는,상기 폴리머를 포함하는 폴리머 용액을 스핀 코팅을 이용하여 은 나노선들에 분사하여, 은 나노선들의 적어도 일부 영역을 상기 폴리머 용액 내에 침지시키는 단계;상기 폴리머 용액을 경화시켜, 상기 은 나노선들을 상기 폴리머가 몰딩하는 몰딩 구조체를 형성하는 단계; 및상기 몰딩 구조체를 냉각하는 단계;를 포함하는, 박막 구조체의 제조 방법
3 3
제 2 항에 있어서,상기 폴리머는 PVA(poly vinyl alcohol)를 포함하고, 상기 폴리머는 상기 폴리머 용액 내에서 5 wt% 내지 15 wt%의 범위인, 박막 구조체의 제조 방법
4 4
제 2 항에 있어서,상기 폴리머 용액을 경화시켜, 상기 은 나노선들을 상기 폴리머가 몰딩하는 몰딩 구조체를 형성하는 단계는, 20℃ 내지 100℃ 범위의 온도에서 수행되는, 박막 구조체의 제조 방법
5 5
제 1 항에 있어서,상기 프리스탠딩 이방성 투명 전기전도성 가요성 박막을 형성하는 단계를 수행한 후에,상기 프리스탠딩 이방성 투명 전기전도성 가요성 박막을 지지 기판 상에 부착하여 박막 구조체를 형성하는 단계;를 더 포함하는, 박막 구조체의 제조 방법
6 6
제 5 항에 있어서,상기 프리스탠딩 이방성 투명 전기전도성 가요성 박막을 지지 기판 상에 부착하여 박막 구조체를 형성하는 단계는, 상기 지지 기판 상에 증기 상태를 유지시킨 상태에서 상기 프리스탠딩 이방성 투명 전기전도성 가요성 박막을 부착하여 이루어지는, 박막 구조체의 제조 방법
7 7
제 5 항에 있어서,상기 프리스탠딩 이방성 투명 전기전도성 가요성 박막의 부착력을 증가시키기 위하여, 상기 프리스탠딩 이방성 투명 전기전도성 가요성 박막을 상기 지지 기판 상에 부착한 후에, 20℃ 내지 75℃ 범위에 온도에서 큐어링하는 단계를 더 포함하는, 박막 구조체의 제조 방법
8 8
제 5 항에 있어서,상기 지지 기판은 방수성이고, 20℃ 내지 75℃ 범위의 온도에서 변형되지 않는 물질을 포함하는, 박막 구조체의 제조 방법
9 9
제 1 항에 있어서,상기 성장 기판은 상기 은 나노선들을 성장시킬 수 있는 성장 유도층을 표면에 포함하는, 박막 구조체의 제조 방법
10 10
제 1 항에 있어서,상기 폴리머는 투명하고 가요성을 가지며, 상기 은 나노선들에 비하여 낮은 전기전도성을 가지는, 박막 구조체의 제조 방법
11 11
제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항의 방법을 이용하여 형성한 박막 구조체로서,상기 박막 구조체는, 수직 정렬되고 상기 폴리머에 의하여 몰딩된 상기 은 나노선들을 포함하고, 이방성, 투명성, 전기전도성, 및 가요성 중의 적어도 어느 하나의 특성을 제공하는, 박막 구조체
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1 CN104919543 CN 중국 FAMILY
2 US09972414 US 미국 FAMILY
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4 US20150318071 US 미국 FAMILY
5 US20180233249 US 미국 FAMILY
6 WO2014084562 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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1 CN104919543 CN 중국 DOCDBFAMILY
2 CN104919543 CN 중국 DOCDBFAMILY
3 US10381125 US 미국 DOCDBFAMILY
4 US2015318071 US 미국 DOCDBFAMILY
5 US2018233249 US 미국 DOCDBFAMILY
6 US9972414 US 미국 DOCDBFAMILY
7 WO2014084562 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 교육과학기술부 한국표준과학연구원 나노소재기술개발사업 반도체 공정기반 수직정렬 나노선 열전소자 원천기술개발