맞춤기술찾기

홈으로 가기
맞춤기술찾기
이전대상기술
프린트하기

이전대상기술

투명 기판 모니터링 장치 및 투명 기판 측정 방법

  • 기술번호 : KST2015179951
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
상담신청 PDF 받기
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 투명 기판 모니터링 장치 및 투명 기판 모니터링 방법을 제공한다. 본 발명의 일 실시예에 따른 투명 기판 모니터링 장치는 광을 조사하는 발광부; 입사 광의 진행 방향을 가로지르는 제1 방향 및 제2 방향으로 정의되는 평면에 배치되고, 상기 제1 방향으로 서로 이격되어 상기 광을 통과시키는 제1 슬릿와 제2 슬릿을 포함하는 이중 슬릿; 상기 발광부와 상기 이중 슬릿의 사이에 배치된 투명 기판의 제1 위치를 투과하고 상기 제1 슬릿을 통과한 제1 광과 상기 투명 기판의 제2 위치를 투과하고 제2 슬릿을 통과한 제2 광에 의하여 스크린 평면 상에 형성된 간섭 패턴(interference pattern)을 측정하거나 상기 간섭 패턴의 위치 이동을 측정하는 광 검출부; 및 상기 광 검출부로부터 신호를 수신하여 상기 제1 위치 및 제2 위치에 기인한 광 위상차 또는 광 경로차를 산출하는 신호 처리부;를 포함한다.
Int. CL G01B 11/06 (2006.01)
CPC G01B 11/06(2013.01) G01B 11/06(2013.01) G01B 11/06(2013.01) G01B 11/06(2013.01)
출원번호/일자 1020130025964 (2013.03.12)
출원인 한국표준과학연구원
등록번호/일자 10-1486272-0000 (2015.01.20)
공개번호/일자 10-2014-0096938 (2014.08.06) 문서열기
공고번호/일자 (20150127) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보 대한민국  |   1020130009059   |   2013.01.28
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2013.03.12)
심사청구항수 20

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국표준과학연구원 대한민국 대전 유성구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 김재완 대한민국 대전 유성구
2 김종안 대한민국 대전 유성구
3 엄태봉 대한민국 대전 유성구
4 강주식 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 이평우 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 **길 **-*(역삼동, IT빌딩 *층)(특허법인 누리)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국표준과학연구원 대한민국 대전 유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2013.03.12 수리 (Accepted) 1-1-2013-0212530-90
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.01.09 수리 (Accepted) 4-1-2014-5004381-25
3 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2014.07.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0526686-15
4 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2014.09.12 수리 (Accepted) 1-1-2014-0865546-92
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2014.09.12 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2014-0865513-96
6 등록결정서
Decision to grant		 2014.12.17 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0865740-90
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266645-00
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266627-88
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266640-72
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
광을 조사하는 발광부;입사 광의 진행 방향을 가로지르는 제1 방향 및 제2 방향으로 정의되는 평면에 배치되고, 상기 제1 방향으로 서로 이격되어 상기 광을 통과시키는 제1 슬릿와 제2 슬릿을 포함하는 이중 슬릿; 상기 발광부와 상기 이중 슬릿의 사이에 배치된 투명 기판의 제1 위치를 투과하고 상기 제1 슬릿을 통과한 제1 광과 상기 투명 기판의 제2 위치를 투과하고 제2 슬릿을 통과한 제2 광에 의하여 스크린 평면 상에 형성된 간섭 패턴(interference pattern)을 측정하거나 상기 간섭 패턴의 위치 이동을 측정하는 광 검출부; 및상기 광 검출부로부터 신호를 수신하여 상기 제1 위치 및 제2 위치에 기인한 광 위상차 또는 광 경로차를 산출하는 신호 처리부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 기판 모니터링 장치
2 2
제1 항에 있어서,상기 신호 처리부는 상기 간섭 패턴의 상기 제1 방향으로 이동된 거리를 이용하여 상기 광 경로차를 산출하는 것을 특징으로 하는 투명 기판 모니터링 장치
3 3
제1 항에 있어서,상기 투명 기판은 상기 제1 방향으로 이동하고, 상기 투명 기판은 유리 기판인 것을 특징으로 하는 투명 기판 모니터링 장치
4 4
제1 항에 있어서,상기 광 검출부는 위치 검출기(position sensitive detector)를 포함하고,상기 광 검출부 앞에 배치되어 상기 간섭 패턴의 주 최대 패턴(principal maximum pattern)을 투과시키는 핀홀을 더 포함하고,상기 위치 검출기는 상기 주 최대 패턴의 중심 위치를 출력하는 것을 특징으로 하는 투명 기판 모니터링 장치
5 5
제1 항에 있어서,상기 광 검출부 앞에 배치되고 상기 제1 방향으로 이격된 제1 핀홀 및 제2 핀홀을 더 포함하고,상기 광 검출부는 상기 제1 핀홀 뒤에 배치된 제1 광 검출부 및 상기 제2 핀홀 뒤에 배치된 제2 검출부를 포함하고,상기 제1 핀홀과 상기 핀홀의 간격은 주 최대 패턴의 폭보다 작은 것을 특징으로 하는 투명 기판 모니터링 장치
6 6
제1 항에 있어서,상기 광 검출부 앞에 배치된 핀홀을 더 포함하고,상기 광 검출부는 상기 핀홀 뒤에 배치되고 상기 제1 방향으로 배열된 광 센서 어레이를 포함하는 투명 기판 모니터링 장치
7 7
제1 항에 있어서,상기 이중 슬릿과 상기 광 검출부 사이에 배치된 렌즈부를 더 포함하고,상기 광 검출부는 상기 렌즈부의 초점 거리에 배치되는 것을 특징으로 하는 투명 기판 모니터링 장치
8 8
제1 항에 있어서,상기 발광부는:광원; 및상기 광원의 출력광의 광 경로를 변경하여 광 경로가 변경된 광을 상기 이중 슬릿에 제공하는 반사부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 기판 모니터링 장치
9 9
제1 항에 있어서,상기 발광부는:광원;상기 광원의 출력광을 제공받는 광섬유;및상기 광섬유로부터 출력되는 광을 평행광으로 변경하여 상기 이중 슬릿에 제공하는 평행광 렌즈를 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 기판 모니터링 장치
10 10
제1 항에 있어서,상기 발광부는: 제1 파장의 광을 조사하는 제1 광원; 상기 제1 파장과 다른 제2 파장의 광을 조사하는 제2 광원; 상기 제1 광원의 광 경로와 상기 제2 광원의 광 경로를 결합하는 방향성 결합기; 및상기 방향성 결합기의 출력광을 상기 이중 슬릿에 제공하는 평행광 렌즈를 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 기판 모니터링 장치
11 11
제8 항에 있어서,상기 제1 광원과 상기 제2 광원은 펄스 모드로 동작하고,상기 제1 광원과 상기 제2 광원은 순차적으로 상기 이중 슬릿에 출력광을 제공하는 것을 특징으로 하는 투명 기판 모니터링 장치
12 12
입사 광의 진행 방향을 가로지르는 제1 방향 및 제2 방향으로 정의되는 평면에 배치되고, 상기 제1 방향으로 서로 이격되어 상기 광을 통과시키는 제1 슬릿와 제2 슬릿을 포함하는 이중 슬릿을 제공하는 단계; 가간섭성을 가진 제1 파장의 광을 순차적으로 투명 기판 및 이중 슬릿을 통과시켜 제1 간섭 패턴을 형성하는 단계;상기 이중 슬릿 앞에 배치된 투명 기판의 제1 위치를 투과하고 상기 제1 슬릿을 통과한 제1 광과 상기 투명 기판의 제2 위치를 투과하고 제2 슬릿을 통과한 제2 광에 의하여 스크린 평면 상에 형성된 상기 제1 간섭 패턴의 이동량을 측정하는 단계; 및상기 제1 파장의 광에 의한 상기 제1 간섭 패턴의 이동량으로부터 상기 투명 기판에 의한 제1 위상차를 측정하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 기판 모니터링 방법
13 13
제12 항에 있어서,상기 투명 기판을 상기 이중 슬릿의 슬릿 간격만큼 상기 슬릿 간격 방향으로 이동시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 기판 모니터링 방법
14 14
제13 항에 있어서,이전 위치에서 측정된 상기 제1 위상차를 합산하여 상기 투명 기판의 제1 누적 위상차의 공간 분포를 산출하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 기판 모니터링 방법
15 15
제12 항에 있어서,가간섭성을 가진 제2 파장의 광을 상기 투명 기판 및 상기 이중 슬릿을 통과시켜 제2 간섭 패턴을 형성하는 단계; 상기 제2 파장의 광에 의한 상기 제2 간섭 패턴의 이동량을 측정하여 상기 투명 기판에 의한 제2 위상차를 측정하는 단계; 및상기 제1 위상차와 상기 제2 위상차를 이용하여 굴절률 차이 및 두께 차이를 추출하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 기판 모니터링 방법
16 16
제15 항에 있어서,상기 투명 기판을 상기 이중 슬릿의 슬릿 간격만큼 상기 슬릿 간격 방향으로 이동시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 기판 모니터링 방법
17 17
제 16 항에 있어서,이전 위치에서 측정된 상기 굴절률 차이를 합산하여 굴절률 차이의 공간 분포 및 이전 위치에서 측정된 상기 두께 차이를 합산하여 두께 차이의 공간 분포를 추출하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 기판 모니터링 방법
18 18
제12 항에 있어서,상기 스크린 평면에서 초점을 가지도록 상기 이중 슬릿 뒤에 렌즈를 설치하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 기판 모니터링 방법
19 19
제18 항에 있어서,상기 제1 간섭 패턴 중에서 주 최고 패턴만을 통과시키도록 상기 스크린 평면에 핀홀을 제공하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 기판 모니터링 방법
20 20
광을 조사하는 발광부;입사 광의 진행 방향을 가로지르는 제1 방향 및 제2 방향으로 정의되는 평면에 배치되고, 상기 제1 방향으로 서로 이격되어 상기 광을 통과시키는 제1 슬릿와 제2 슬릿을 포함하는 이중 슬릿; 상기 발광부와 상기 이중 슬릿의 사이에 배치된 피측정물의 제1 위치를 투과하고 상기 제1 슬릿을 통과한 제1 광과 상기 피측정물의 제2 위치를 투과하고 제2 슬릿을 통과한 제2 광에 의하여 스크린 평면 상에 형성된 간섭 패턴(interference pattern)을 측정하거나 상기 간섭 패턴의 위치 이동을 측정하는 광 검출부; 및상기 광 검출부로부터 신호를 수신하여 상기 제1 위치 및 제2 위치에 기인한 광 위상차를 산출하는 신호 처리부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 광 위상차 측정 장치
지정국 정보가 없습니다
순번, 패밀리번호, 국가코드, 국가명, 종류의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 패밀리정보 - 패밀리정보 표입니다.
순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 CN104204720 CN 중국 FAMILY
2 KR101319555 KR 대한민국 FAMILY
3 US20150009509 US 미국 FAMILY
4 WO2013141539 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

순번, 패밀리번호, 국가코드, 국가명, 종류의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 패밀리정보 - DOCDB 패밀리 정보 표입니다.
순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 CN104204720 CN 중국 DOCDBFAMILY
2 CN104204720 CN 중국 DOCDBFAMILY
국가 R&D 정보가 없습니다.